薄膜晶体管阵列基板、基板及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种薄膜晶体管阵列基板、基板及其制造方法。所述基板包括：主板体；第一膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部；阻隔层，所述阻隔层设置在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上；第二膜层，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述第二膜层设置在所述阻隔层上；其中，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应。本发明专利技术能有效减小基板受热后的应力的累积量，从而避免基板受热后产生较大的形变。

【技术实现步骤摘要】
薄膜晶体管阵列基板、基板及其制造方法
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种薄膜晶体管阵列基板、基板及其制造方法。
技术介绍
传统的薄膜晶体管阵列基板一般包括基板和显示器件，所述显示器件设置在所述基板上。所述基板一般为单层的玻璃板或塑料板。在实践中，专利技术人发现现有技术至少存在以下问题：在所述显示器件的制造过程中，所述基板受热后会因应力的累积而产生较大的形变。故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种薄膜晶体管阵列基板、基板及其制造方法，其能有效减小基板受热后的应力的累积量，从而避免基板受热后产生较大的形变。为解决上述问题，本专利技术的技术方案如下：一种基板，所述基板包括：主板体；第一膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部；阻隔层，所述阻隔层设置在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上；第二膜层，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述第二膜层设置在所述阻隔层上；其中，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应。在上述基板中，具有所述凹陷部的所述第一膜层是通过在所述主板体上涂布第一聚酰胺酸溶液，并对所述第一聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第一液膜，利用第一压印板对所述第一液膜进行压印，以在所述第一液膜中形成所述凹陷部，以及对形成有所述凹陷部的所述第一液膜进行固化来形成的；其中，所述第一液膜的浓度处于第一预定范围内。在上述基板中，具有所述凸起部的所述第二膜层是通过在所述阻隔层上涂布第二聚酰胺酸溶液，并对所述第二聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第二液膜，利用第二压印板对所述第二液膜进行压印，以在所述第二液膜中形成所述凸起部，以及对形成有所述凸起部的所述第二液膜进行固化来形成的；其中，所述第二液膜的浓度处于第二预定范围内。一种薄膜晶体管阵列基板，所述薄膜晶体管阵列基板包括：基板，所述基板包括：主板体；第一膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部；阻隔层，所述阻隔层设置在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上；第二膜层，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述第二膜层设置在所述阻隔层上；其中，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应；显示器件，所述显示器件设置在所述基板的所述第二膜层上。在上述薄膜晶体管阵列基板中，具有所述凹陷部的所述第一膜层是通过在所述主板体上涂布第一聚酰胺酸溶液，并对所述第一聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第一液膜，利用第一压印板对所述第一液膜进行压印，以在所述第一液膜中形成所述凹陷部，以及对形成有所述凹陷部的所述第一液膜进行固化来形成的；其中，所述第一液膜的浓度处于第一预定范围内。在上述薄膜晶体管阵列基板中，具有所述凸起部的所述第二膜层是通过在所述阻隔层上涂布第二聚酰胺酸溶液，并对所述第二聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第二液膜，利用第二压印板对所述第二液膜进行压印，以在所述第二液膜中形成所述凸起部，以及对形成有所述凸起部的所述第二液膜进行固化来形成的；其中，所述第二液膜的浓度处于第二预定范围内。一种上述基板的制造方法，所述方法包括以下步骤：A、在所述主板体上设置所述第一膜层，其中，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两所述凹陷部；B、在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上设置所述阻隔层；C、在所述阻隔层上设置所述第二膜层，其中，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两所述凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应。在上述基板的制造方法中，所述步骤A包括：a1、在所述主板体上涂布第一聚酰胺酸溶液；a2、对所述第一聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第一液膜，其中，所述第一液膜的浓度处于第一预定范围内；a3、利用第一压印板对所述第一液膜进行压印，以在所述第一液膜中形成所述凹陷部；a4、对形成有所述凹陷部的所述第一液膜进行固化，以形成具有所述凹陷部的所述第一膜层。在上述基板的制造方法中，所述步骤B为：在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上沉积预定材料，以形成所述阻隔层；其中，所述预定材料包括非晶硅、多晶硅、氧化硅、氧化铝、氧化钛中的至少一者。在上述基板的制造方法中，所述步骤C包括：c1、在所述阻隔层上涂布第二聚酰胺酸溶液；c2、对所述第二聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第二液膜，其中，所述第二液膜的浓度处于第二预定范围内；c3、利用第二压印板对所述第二液膜进行压印，以在所述第二液膜中形成所述凸起部；c4、对形成有所述凸起部的所述第二液膜进行固化，以形成具有所述凸起部的所述第二膜层。相对现有技术，在本专利技术中，由于所述基板包括主板体、第一膜层、阻隔层、第二膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述阻隔层设置在所述第一膜层和所述第二膜层之间，所述第一膜层设置有凹陷部，所述第二膜层设置有凸起部，所述凹陷部和所述凸起部相向，所述凹陷部和所述凸起部相耦合，因此，所述基板可以有效减小受热后的应力的累积量，从而避免基板受热后产生较大的形变。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。【附图说明】图1为本专利技术的薄膜晶体管阵列基板的示意图；图2至图6为本专利技术的基板的制造方法的示意图；图7为本专利技术的基板的制造方法的流程图；图8为图7中在主板体上设置第一膜层的步骤的流程图；图9为图7中在阻隔层上设置第二膜层的步骤的流程图；图10至图13为本专利技术的基板中的第一膜层和/或第二膜层所对应的聚酰胺酸的分子结构图；图14和图15为本专利技术的基板中的第一膜层和/或第二膜层的材质的分子结构图。【具体实施方式】本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。此外，本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”，除非另外指定或从上下文可以清楚确定单数形式。参考图1，图1为本专利技术的薄膜晶体管阵列基板的示意图。本专利技术的薄膜晶体管阵列基板包括基板101和显示器件102。所述薄膜晶体管阵列基板可以应用于TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示面板)、OLED(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极管显示面板)等。所述显示器件102包括扫描线、数据线、薄膜晶体管开关、像素单元等。所述基板101包括主板体1011、第一膜层1012、阻隔层1013、第二膜层1014。所述主板体1011的材质可以是玻璃，也可以是塑料。所述第一膜层1012设置在所述主板体1011上，所述第一膜层1012背向所述主板体1011的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部10121。所述阻隔层1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板，其特征在于，所述基板包括：主板体；第一膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部；阻隔层，所述阻隔层设置在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上；第二膜层，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述第二膜层设置在所述阻隔层上；其中，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应。

【技术特征摘要】
1.一种基板，其特征在于，所述基板包括：主板体；第一膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部；阻隔层，所述阻隔层设置在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上；第二膜层，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述第二膜层设置在所述阻隔层上；其中，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应。2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，具有所述凹陷部的所述第一膜层是通过在所述主板体上涂布第一聚酰胺酸溶液，并对所述第一聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第一液膜，利用第一压印板对所述第一液膜进行压印，以在所述第一液膜中形成所述凹陷部，以及对形成有所述凹陷部的所述第一液膜进行固化来形成的；其中，所述第一液膜的浓度处于第一预定范围内。3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，具有所述凸起部的所述第二膜层是通过在所述阻隔层上涂布第二聚酰胺酸溶液，并对所述第二聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第二液膜，利用第二压印板对所述第二液膜进行压印，以在所述第二液膜中形成所述凸起部，以及对形成有所述凸起部的所述第二液膜进行固化来形成的；其中，所述第二液膜的浓度处于第二预定范围内。4.一种薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列基板包括：基板，所述基板包括：主板体；第一膜层，所述第一膜层设置在所述主板体上，所述第一膜层背向所述主板体的一面上设置有凹陷部阵列，所述凹陷部阵列包括至少两凹陷部；阻隔层，所述阻隔层设置在所述第一膜层设置有所述凹陷部的一面上；第二膜层，所述第二膜层上设置有凸起部阵列，所述凸起部阵列包括至少两凸起部，所述凸起部朝向所述阻隔层，所述第二膜层设置在所述阻隔层上；其中，所述凸起部的形状与所述凹陷部的形状对应，所述凸起部在所述第二膜层中的位置与所述凹陷部在所述第一膜层中的位置对应；显示器件，所述显示器件设置在所述基板的所述第二膜层上。5.根据权利要求4所述的薄膜晶体管阵列基板，其特征在于，具有所述凹陷部的所述第一膜层是通过在所述主板体上涂布第一聚酰胺酸溶液，并对所述第一聚酰胺酸溶液进行预固化，以形成第一液膜，利用第一压印板对所述第一液膜进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘哲，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42