一种衬片承片台装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
一种衬片承片台装置
本技术涉及半导体集成电路制造领域，且特别涉及一种衬片承片台装置。
技术介绍
曝光机(Scanner)，作为半导体制程(Semi-conductorProcess)中重要的生产用机台，主要用于微影(Litho)制程。一般而言，其与涂布显影机(Track)共同使用，完成微影制程中的图像形成步骤。曝光机是集成电路芯片制造过程中的重要设备，它要把图形曝光到涂敷有感光胶的硅晶圆片上。硅晶圆片通常设计放在承片台上，硅片背面被真空吸着，承片台的移动和旋转被精确地控制。随着LED产业和其他新型器件的兴起，需要曝光机设备能适用于4吋蓝宝石片和其他衬片的生产，因此需要改造原先用于8吋和6吋硅片曝光机的承片台系统。
技术实现思路
本技术提出一种衬片承片台装置，适配4吋衬片的曝光操作，吸附牢固。为了达到上述目的，本技术提出一种衬片承片台装置，包括：承片台基座；承片台，设置于所述承片台基座上，所述承片台上设置有密集分布的真空小孔；真空泵，其通过管道连接于所述承片台基座。进一步的，所述承片台上的真空小孔按照从圆心到圆周环状均匀分布。进一步的，所述承片台适配4吋蓝宝石片和其他4吋衬片。进一步的，所述真空泵的管道上设置有电磁控制阀。进一步的，所述真空泵的管道为聚氨酯软管。进一步的，所述真空泵的管道的内径为4mm。进一步的，所述承片台基座包括真空接头盒管道，连接于所述真空泵的管道。进一步的，所述真空接头盒管道的内径为4mm。本技术提出的衬片承片台装置，在承片台表面制作为较密集点状，以有利于更好的真空吸着，解决了蓝宝石应力大、衬片翘曲严重而不易被牢固吸着的问题，并设置有一套独立的...
【技术保护点】
一种衬片承片台装置，其特征在于，包括：承片台基座；承片台，设置于所述承片台基座上，所述承片台上设置有密集分布的真空小孔；真空泵，其通过管道连接于所述承片台基座。
【技术特征摘要】
1.一种衬片承片台装置，其特征在于，包括：承片台基座；承片台，设置于所述承片台基座上，所述承片台上设置有密集分布的真空小孔；真空泵，其通过管道连接于所述承片台基座。2.根据权利要求1所述的衬片承片台装置，其特征在于，所述承片台上的真空小孔按照从圆心到圆周环状均匀分布。3.根据权利要求1所述的衬片承片台装置，其特征在于，所述承片台适配4吋蓝宝石片和其他4吋衬片。4.根据权利要求1所述的衬片承片台装置，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：张霖，张泳，
申请(专利权)人：上海精典电子有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
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