头部磁共振成像设备及其头部梯度线圈组件制造技术

技术编号:15745016 阅读:283 留言:0更新日期:2017-07-02 21:15
本发明专利技术揭示一种头部磁共振成像设备。头部磁共振成像设备包括:主磁体,具有中心腔体;及头部梯度线圈组件,位于所述中心腔体中,且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架,所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场,所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。本发明专利技术还揭示头部磁共振成像设备的头部梯度线圈组件,对患者头部进行扫描和检查。

Head magnetic resonance imaging device and head gradient coil assembly thereof

A head magnetic resonance imaging apparatus is disclosed. Head magnetic resonance imaging device includes a main magnet, with a central cavity; and the head of gradient coil assembly, located in the center of the chamber, and including the main circle, the size of the head shield coil layer and the insulating bracket, the main circle used to generate the main gradient field to produce big head and small FOV, the main gradient field of the shield coil layer is used to shield the gradient field to counteract the head outer gradient coil assembly, the insulating bracket used for supporting the main circle and the shield coil layer, the shielding layer of the coil size is set to be around the shoulder of the patients. The invention also discloses a head gradient coil assembly of the head magnetic resonance imaging device, which scans and examines the head of the patient.

【技术实现步骤摘要】
头部磁共振成像设备及其头部梯度线圈组件
本专利技术有关一种磁共振成像设备,尤其涉及一种头部磁共振成像设备。
技术介绍
头部梯度线圈组件广泛地用来成像患者的头部。现有的头部梯度线圈组件在扫描患者头部的时候插入全身磁共振成像设备。头部梯度线圈组件主要包括主梯度线圈、屏蔽梯度线圈和支撑主梯度线圈和屏蔽梯度线圈的支架。主梯度线圈用来产生主梯度场以产生头部的成像视场。屏蔽梯度线圈用来产生屏蔽梯度场来抵消头部梯度线圈组件外的主梯度场。支架的尺寸较小,从而可以被容纳在全身磁共振成像设备内,且主梯度线圈和屏蔽梯度线圈缠绕在支架上的距离较近。如此在头部梯度线圈组件外的主梯度场较强,因此屏蔽梯度线圈需要缠绕支架更多圈来产生较强的屏蔽梯度场,从而完全抵消头部梯度线圈组件外的主梯度场。屏蔽梯度线圈产生的屏蔽梯度场扩散至成像视场,抵消成像视场内的主梯度场,因此最大梯度强度减弱。为了弥补抵消的主梯度场,主梯度线圈需要增加更多的匝数,如此导致整体电感增大,而且进一步需要增加屏蔽梯度线圈的匝数来抵消主梯度线圈产生的主梯度场。如此又减弱了成像视场内的主梯度场的最大梯度强度。因此,有必要提供一种解决方案来解决至少一个上面提及的问题。
技术实现思路
本专利技术的一个方面在于提供一种头部磁共振成像设备。头部磁共振成像设备包括:主磁体,具有中心腔体;及头部梯度线圈组件,位于所述中心腔体中,且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架,所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场,所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。本专利技术的另一个方面在于提供一种头部梯度线圈组件。头部梯度线圈组件包括:头大小的主线圈层,用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场;屏蔽线圈层,用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部;及绝缘支架,用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层。本专利技术的再一个方面在于提供一种头部梯度线圈组件。头部梯度线圈组件包括:绝缘支架,包括外径和内径;主线圈层,位于所述绝缘支架的内径,用来产生主梯度场,所述主线圈层的尺寸设置为可环绕患者的头部且使得患者的肩部在主线圈层的外面;及屏蔽线圈层,位于所述绝缘支架的外径,用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。附图说明通过结合附图对于本专利技术的实施方式进行描述,可以更好地理解本专利技术,在附图中:图1所示为本专利技术头部磁共振成像设备的一个实施例的剖面示意图;图2所示为头部磁共振成像设备的主线圈层和屏蔽线圈层产生梯度场的一个实施例的示意图;图3所示为本专利技术头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图;图4所示为本专利技术头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图;图5所示为本专利技术头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图;图6所示为本专利技术头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图;图7所示为本专利技术头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图。具体实施方式除非另作定义,此处使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。除非另行指出,“前部”“后部”“下部”和/或“上部”等类似词语只是为了便于说明,而并非限于一个位置或者一种空间定向。另外,“连接”或者“相连”等类似的词语并非用来区分两个元件之间的直接或间接连接。当然,除非另行说明,此元件间可以直接或间接连接。图1所示为一个实施例的头部磁共振成像设备10的剖面示意图。头部磁共振成像设备10用来扫描或检查患者的头部100。在本实施例中,头部磁共振成像设备10可独立工作,无需插入全身磁共振成像设备中。头部磁共振成像设备10包括主磁体12、磁体线圈14和头部梯度线圈组件16。主磁体12支撑磁体线圈14且具有可收容头部梯度线圈组件16的中心腔体18。较典型地,主磁体12为圆筒形。磁体线圈14用来产生沿中心腔体18的长度方向和Z轴方向的磁场。磁体线圈14可被收容在低温的罐体中来保持磁体线圈14在超导温度下。头部梯度线圈组件16位于中心腔体18内。在一个实施例中,头部梯度线圈组件16固定在中心腔体18内,头部梯度线圈组件16不易从中心腔体18中移除。在另一个实施例中,头部梯度线圈组件16可移除地插入中心腔体18内。头部梯度线圈组件16的尺寸设置为头部梯度线圈组件16可基本上占据中心腔体18的全部空间。梯度线圈组件16包括头大小(Head-sized)的主线圈层22、屏蔽线圈层24和用来支撑主线圈层22和屏蔽线圈层24的绝缘支架26。主线圈层22用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场(Field-of-View,FOV)30。“头大小”表示尺寸略大于头。主线圈层22的尺寸设置为主线圈层22可环绕患者的头部100且使得患者的肩部200在主线圈层22外。主线圈层22尽可能地靠近患者的头部100,主线圈层22的直径略大于患者头部100的宽度。球形的成像视场略比头部100大。主线圈层22包括缠绕绝缘支架26的X轴梯度主线圈(未图示)、Y轴梯度主线圈(未图示)和Z轴梯度主线圈(未图示)。Z轴梯度主线圈可以是对称结构的,也可以是非对称结构的。主线圈可以由导电的线、棒或板缠绕或切成线圈形状形成。主线圈层22位于绝缘支架26的内径。在一个实施例中,主线圈层22可以包括多层X轴梯度主线圈(未图示)、Y轴梯度主线圈(未图示)和/或Z轴梯度主线圈。屏蔽线圈层24用来产生屏蔽梯度场以抵消头部梯度线圈组件16外的主梯度场。屏蔽线圈层24的尺寸设置为可环绕患者的肩部200。屏蔽线圈层24的直径大于主线圈层22的直径和患者的肩宽。在绝缘支架26的长度方向上屏蔽线圈层24比主线圈层22长。在一个实施例中,在长度方向上屏蔽线圈层24和主磁体12一样长,来消减或避免主线圈层22产生的主梯度场对主磁体12和磁体线圈14的影响。在长度方向上屏蔽线圈层24可延伸至患者头部和肩部,在一个实施例中,乃至整个身体。屏蔽线圈层24在主磁体12和主线圈层22之间形成屏蔽。在本实施例中,屏蔽线圈层24位于绝缘支架26的外径,主线圈层位于绝缘支架26的内径。在直径方向上屏蔽线圈层24和主线圈层22之间间隔很大的距离。在一个实施例中,屏蔽线圈层24和主线圈层22之间的间距不小于8厘米。在一个典型的实施例中,该间距在大约8厘米和大约28厘米之间。典型地,主线圈层22的直径大约为44厘米,屏蔽线圈层24的直径大约为74厘米,屏蔽线圈层24和主线圈层22之间的间距为大约15厘米。屏蔽线圈层24和主线圈层22之间的间距、主线圈层22的直径和屏蔽线圈层24的直径可以根据用户的需求调整。屏蔽线圈层24包括缠绕绝缘支架26的X轴梯度屏蔽线圈(未图示)、Y轴梯度屏蔽线圈(未图示)和Z轴梯度屏蔽线圈(未图示)。Z轴梯度屏蔽线圈可以是对本文档来自技高网...
头部磁共振成像设备及其头部梯度线圈组件

【技术保护点】
一种头部磁共振成像设备,其特征在于,所述头部磁共振成像设备包括:主磁体,具有中心腔体;及头部梯度线圈组件,位于所述中心腔体中,且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架,所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场,所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。

【技术特征摘要】
1.一种头部磁共振成像设备,其特征在于,所述头部磁共振成像设备包括:主磁体,具有中心腔体;及头部梯度线圈组件,位于所述中心腔体中,且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架,所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场,所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。2.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述头部梯度线圈组件包括用来产生所述主梯度场的由所述绝缘支架支撑的多个所述主线圈层。3.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述绝缘支架包括外径和内径,所述主线圈层位于所述绝缘支架的内径,所述屏蔽线圈层位于所述绝缘支架的外径。4.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:在所述绝缘支架的长度方向上所述屏蔽线圈层比所述主线圈层长。5.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述绝缘支架包括内腔,所述内腔具有可收容患者头部的第一内径和可收容患者肩部的比第一内径大的第二内径。6.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述头部梯度线圈组件进一步包括由所述绝缘支架支撑的中介层。7.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述绝缘支架含有声音阻尼材料和振动阻尼材料中的至少一种。8.一种头部梯度线圈组件,其特征在于,所述头部梯度线圈组件包括:头大小的主线圈层,用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场;屏蔽线圈层,用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部;及绝缘支架,用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层。9.如权利要求8所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述头部梯度线圈组件包括用来产生所述主梯度场的由所述绝缘支架支撑的多个所述主线圈层。10.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:多米尼克·迈克尔·格拉西亚尼托马斯·郭华氏·夫李胜均林剑简巴普蒂斯特·马蒂厄马蒂纳威南·提阿嘎拉简
申请(专利权)人:通用电气公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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