一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，包括：原设备热板，其包括第一导向柱定位孔、第二导向柱定位孔和第三导向柱定位孔；第四导向柱，通过所述第三导向柱定位孔进行定位，其中，所述第四导向柱为锥柱形结构设置。本实用新型专利技术提出的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，使得原来适配8吋6吋5吋硅片的设备热板，能够适用4吋蓝宝石片或其它衬底基片生产，降低采购新设备所需的生产成本。

An apparatus for coating and developing a hot plate adapted to a substrate of different sizes

The utility model provides a device, a coater developer hot plate fit different size substrate including: original equipment, hot plate, which comprises a first positioning hole, second guide posts guide post positioning holes and positioning third guide holes; fourth guide posts, positioning, through the third guide pole positioning hole which. The fourth guide posts for setting conical cylindrical structure. Adapter of different size substrate coater developer hot plate provided by the utility model, the equipment of the original hot plate adapter 8 inch 6 inch 5 inch silicon wafer, can be used 4 inch sapphire wafer or other substrate production, reduce the purchase of new equipment required for the production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置
本技术提出半导体集成电路制造领域，且特别涉及一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置。
技术介绍
涂胶显影设备是半导体器件及其生产过程中涂敷感光胶并加温固化，图形曝光后再进行显影成型的设备。热板是设备的功能组成部件，它的作用就是在涂胶显影后起到固化成型的作用，其性能直接影响图形的生产质量。原设备热板仅适配8吋6吋5吋硅片。随着LED产业及其它新型器件的兴起，需要设备适用4吋蓝宝石片或其它衬底基片生产。因此需要改造设备相关功能，满足客户生产需求。
技术实现思路
本技术提出一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，使得原来适配8吋6吋5吋硅片的设备热板，能够适用4吋蓝宝石片或其它衬底基片生产，降低采购新设备所需的生产成本。为了达到上述目的，本技术提出一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，包括：原设备热板，其包括第一导向柱定位孔、第二导向柱定位孔和第三导向柱定位孔；第四导向柱，通过所述第三导向柱定位孔进行定位，其中，所述第四导向柱为锥柱形结构设置。进一步的，所述第一导向柱定位孔为8吋导向柱定位孔。进一步的，所述第二导向柱定位孔为6吋导向柱定位孔。进一步的，所述第三导向柱定位孔为5吋导向柱定位孔。进一步的，所述第四导向柱为4吋导向柱。进一步的，所述第四导向柱的尺寸为上半径24mm，下半径32mm，高3mm。进一步的，所述第四导向柱的制作材料为纯度大于99.5％的三氧化二铝，并静压成型。本技术提出的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，使得原来适配8吋6吋5吋硅片的设备热板，能够适用4吋蓝宝石片或其它衬底基片生产，降低采购新设备所需的生产成本。本技术提出的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置具有以下优点：1.在不破坏原构造及功能的基础上，扩展了设备的使用范围。2.选项切换方便快捷，客户可实现现场切换。3.所选材料在高温生产过程中化学性能稳定，不会对基片产生污染。4.定位准确，故障率低。附图说明图1所示为本技术较佳实施例的涂胶显影设备热板俯视图。图2a所示为8吋导向柱结构示意图。图2b所示为热板设置8吋基片时的侧视图。图2c所示为热板设置8吋基片时的俯视图。图3a所示为4吋导向柱结构示意图。图3b所示为热板设置4吋基片时的侧视图。图3c所示为热板设置4吋基片时的俯视图。具体实施方式以下结合附图给出本技术的具体实施方式，但本技术不限于以下的实施方式。根据下面说明和权利要求书，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用于方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。本技术提出一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，包括：原设备热板100，其包括第一导向柱定位孔110、第二导向柱定位孔120和第三导向柱定位孔130；第四导向柱200，通过所述第三导向柱定位孔130进行定位，其中，所述第四导向柱200为锥柱形结构设置。请参考图1，图1所示为本技术较佳实施例的涂胶显影设备热板俯视图。根据本技术较佳实施例，所述第一导向柱定位孔110为8吋导向柱定位孔，所述第二导向柱定位孔120为6吋导向柱定位孔，所述第三导向柱定位孔130为5吋导向柱定位孔，所述第四导向柱200为4吋导向柱。所述第四导向柱200的尺寸为上半径24mm，下半径32mm，高3mm。进一步的，所述第四导向柱200的制作材料为纯度大于99.5％的三氧化二铝，并静压成型。再请参看图2a～图2c以及图3a～图3c，图2a所示为8吋导向柱结构示意图。图2b所示为热板设置8吋基片时的侧视图。图2c所示为热板设置8吋基片时的俯视图。图3a所示为4吋导向柱结构示意图。图3b所示为热板设置4吋基片时的侧视图。图3c所示为热板设置4吋基片时的俯视图。原设备热板可以适配8吋6吋5吋硅片，利用原5吋导向柱定位孔，设计新的导向柱以适合4吋基片的定位需要。综上所述，本技术提出的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，使得原来适配8吋6吋5吋硅片的设备热板，能够适用4吋蓝宝石片或其它衬底基片生产，降低采购新设备所需的生产成本。本技术提出的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置具有以下优点：1.在不破坏原构造及功能的基础上，扩展了设备的使用范围。2.选项切换方便快捷，客户可实现现场切换。3.所选材料在高温生产过程中化学性能稳定，不会对基片产生污染。4.定位准确，故障率低。虽然本技术已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本技术。本技术所属
中具有通常知识者，在不脱离本技术的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本技术的保护范围当视权利要求书所界定者为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，其特征在于，包括：原设备热板，其包括第一导向柱定位孔、第二导向柱定位孔和第三导向柱定位孔；第四导向柱，通过所述第三导向柱定位孔进行定位，其中，所述第四导向柱为锥柱形结构设置。

【技术特征摘要】
1.一种涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，其特征在于，包括：原设备热板，其包括第一导向柱定位孔、第二导向柱定位孔和第三导向柱定位孔；第四导向柱，通过所述第三导向柱定位孔进行定位，其中，所述第四导向柱为锥柱形结构设置。2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，其特征在于，所述第一导向柱定位孔为8吋导向柱定位孔。3.根据权利要求1所述的涂胶显影设备热板适配不同尺寸基片的装置，其特征在于，所述第二导向柱定位孔为6吋导向柱定位孔。4.根据权利要求1所述的涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞韶兵，马剑，
申请(专利权)人：上海精典电子有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31