The invention provides a film forming device. The film forming device in a vacuum container so that the rotary table rotates, and the plurality of substrate rotation table followed by the gas supply area, the film on a substrate includes a recess in the rotary table side along the circumferential direction is provided with a plurality of forms containing respectively, the substrate; placing part, which is used in the recess of the substrate than the peripheral part by the central part; the annular slot, and formed to surround the mounting portion in the recess; even the pathway, including the connection groove or through hole communicated with the groove or connected hole is formed from the rotation center of the slot on the rotary table side were observed from the mounting portion at the center of the area connected to the outside of the concave area; and the exhaust port, which is used for the evacuation of the vacuum container.
【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本专利技术涉及一种成膜装置:在真空容器内使旋转台旋转,使旋转台上的基板依次通过原料气体的供给区域、与原料发生反应的反应气体的供给区域,从而在基板上成膜。
技术介绍
作为在半导体晶圆等基板(以下,称为“晶圆”)上形成氧化硅膜(SiO2)等薄膜的方法,已知有所谓的ALD(AtomicLayerDeposition,原子层沉积)法。作为实施该ALD法的装置,已知有这样的装置:使配置在真空容器内的旋转台上的多个晶圆利用旋转台进行公转,依次通过供给原料气体的区域、供给与原料气体发生反应的反应气体的区域。在旋转台上配置有用于使各晶圆落入而对各晶圆进行保持的凹部,该凹部为了在晶圆的外缘设有间隙(为了以晶圆装卸自如的方式保持晶圆),而形成为俯视观察时比晶圆大一圈。已知晶圆由外部的输送臂刚交接到旋转台的凹部内之后,由于加热时面内温度的不均匀,而其中央部比周缘部鼓起地弯曲,随着面内温度的均匀性的提高,所述弯曲逐渐消失。另一方面,由于使旋转台进行旋转,因此在伴随着该旋转的离心力的作用下,晶圆在凹部内向旋转台的外周侧移动所述间隙的量。这样,晶圆一边要从弯曲状态恢复为平坦状态,一边移动,其周缘部擦蹭着凹部底面地移动,有可能产生微粒。因此,提出了在所述凹部的底面设置俯视形状比晶圆小的晶圆载置台的结构。采用该结构,能够抑制晶圆的周缘部与凹部底面的擦蹭,因此能够抑制微粒的产生。但是,本专利技术人得出如下见解:在进行旋转台的转速较高的工艺、处理气氛的压力较高的工艺的情况下,在晶圆的周缘部的一部分产生膜厚局部较厚的现象。本专利技术人推测该现象是因为在载置台的周围的槽部内局部滞留有较 ...
【技术保护点】
一种成膜装置,在真空容器内使旋转台旋转,而使旋转台上的多个基板依次通过处理气体的供给区域,由此在基板上成膜,其中,该成膜装置包括:凹部,其在所述旋转台的一面侧沿着周向设有多个,形成为分别收纳所述基板;载置部,其用于在所述凹部内支承基板的比周缘部靠中央的部位;槽部,其为环状,形成为在所述凹部内包围所述载置部;连通路,其由连通槽或连通孔形成,该连通槽或连通孔形成为在从所述载置部的中心进行观察时从所述槽部的靠所述旋转台的旋转中心侧的区域连通到该凹部的外部的区域;以及排气口,其用于对所述真空容器内进行真空排气,所述外部的区域是与所述凹部相邻的其他凹部内的载置部的周围的环状的槽部或者所述旋转台的外周缘的外侧。
【技术特征摘要】
2015.10.28 JP 2015-2119461.一种成膜装置,在真空容器内使旋转台旋转,而使旋转台上的多个基板依次通过处理气体的供给区域,由此在基板上成膜,其中,该成膜装置包括:凹部,其在所述旋转台的一面侧沿着周向设有多个,形成为分别收纳所述基板;载置部,其用于在所述凹部内支承基板的比周缘部靠中央的部位;槽部,其为环状,形成为在所述凹部内包围所述载置部;连通路,其由连通槽或连通孔形成,该连通槽或连通孔形成为在从所述载置部的中心进行观察时从所述槽部的靠所述旋转台的旋转中心侧的区域连通到该凹部的外部的区域;以及排气口,其用于对所述真空容器内进行真空排气,所述外部的区域是与所述凹部相邻的其他凹部内的载置部的周围的环状的槽部或者所述旋转台的外周缘的外侧。2.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,所述外部的区域是与所述凹部相邻的其他凹部内的载置部的周围的环状的槽部的从该其他凹部的载置部的中心进行观察时与所述旋转台的旋转中心相反的一侧的区域。...
【专利技术属性】
技术研发人员:梅原隆人,长谷川雅之,高桥喜一,佐佐木祐也,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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