A device for magnetron sputtering method, including coaxial fixed gear, rotating disk and rotating the revolution supporting heating plate, the revolution supporting plates evenly distributed with a plurality of rotatable sample rotation disk, a circular disc rotation axis of the sample in the axis and the fixed as the center of the gear, the rotation of the sample disc is equipped with rotation gear and the gear meshing, the heating plate in the sample rotation disk, the heating disk is provided with at least one export processing, the processing hole is arranged on the circumference of the top axis of the rotation demo. And the export processing area is greater than the circular sample area. A heating device for vacuum chamber provided by the invention, greatly improve the heating efficiency, in addition, can one into a plurality of samples, do many different parameters of the experiment, thus greatly improving the efficiency of the experiment.
【技术实现步骤摘要】
一种用于真空腔室的加热装置
本专利技术涉及真空磁控溅射
,特别涉及一种用于真空腔室的加热装置。
技术介绍
在半导体、微电子行业,通常需要采用真空等离子体技术用圆形磁控靶对圆形样品进行溅射,从而进行小批量生产已验证各种设计。目前市场上的用于圆形样品小批量生产的设备通常是在真空腔室中的圆形磁控靶下方采用齿轮结构设置多个可自转+公转的圆台,从而可将圆形样品放置在圆台上在磁控靶下方自转完成溅射加工。但这种结构的缺陷是难以对各圆形样品均匀加热,因为用于放置圆形样品的圆台下方通常有较复杂的齿轮结构,因此没有放置加热器的空间,而如果采用侧壁加热的方式,由于在真空腔室中传热介质很少,因此所有的圆形样品被均匀加热就需要将整个真空腔体加热到特定温度,也就会需要很长的时间和消耗巨大的能量,这样不仅效率低,而且成本高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种用于真空腔室的加热装置,以减少或避免前面所提到的问题。为解决上述技术问题,本专利技术提出了一种用于真空腔室的加热装置,所述真空腔室设置有至少一个圆形磁控靶,其安装在所述圆形磁控靶下方,其用于对多个圆形样片进行磁控溅射,其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘,所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘,所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上,所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮,所述加热盘在所述自转样片盘上方,所述加热盘设置有至少一个加工口,所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方,所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。优选地,所述加热盘是铠装加热 ...
【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜方法装置,其特征在于,所述真空腔室设置有至少一个圆形磁控靶,其安装在所述圆形磁控靶下方,其用于对多个圆形样片进行磁控溅射,其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘,所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘,所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上,所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮,所述加热盘在所述自转样片盘上方,所述加热盘设置有至少一个加工口,所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方,所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜方法装置,其特征在于,所述真空腔室设置有至少一个圆形磁控靶,其安装在所述圆形磁控靶下方,其用于对多个圆形样片进行磁控溅射,其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘,所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘,所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上,所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮,所述加热盘在所述自转样片盘上方,所述加热盘设置有至少一个加工口,所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方,所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。2.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:王长梗,关江敏,
申请(专利权)人:北京创世威纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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