日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材制造技术

本发明专利技术提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，粘合剂包括式I所示的化合物，X为烷氧基。较佳地，烷氧基是甲氧基或乙氧基。式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。还提供了相关粘合剂、日照遮蔽膜和基材。本发明专利技术的日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。

Coating liquid for sunlight shielding film formation and related adhesive, sunlight shielding film and base material

The invention provides a coating solution for the formation of a sunlight shielding film, comprising an adhesive and a near infrared shielding agent, wherein the binder comprises a compound shown in the formula I, and X is an alkoxy group. Preferably, alkoxy is methoxy or ethoxy. The compounds shown in the formula I consist of an alkoxy alkoxy group containing glycidyl propyl groups and an amino alkoxy alkoxy silane mixed with four hydroxy two benzophenone. The near infrared shielding agent is a near infrared shielding particle with an average diameter of 100nm. One or more of the particles containing tin oxide, tungsten oxide particles, ruthenium oxide particles, iridium oxide particles, and rhodium containing oxide particles. Related adhesives, sun shield films and substrates are also provided. The invention can not only form the sunshine shielding film under normal temperature hardening film forming coating liquid, and hardening film obtained sunshine shielding ability and high surface hardness, ingenious design, simple preparation, low cost, suitable for application in large scale.

【技术实现步骤摘要】
日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材
本专利技术涉及日照遮蔽
，特别涉及日照遮蔽膜
，具体是指一种日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材。
技术介绍
太阳光线大致可分为近红外线、可见光线及紫外线这三种，其中长波长区域的近红外线(热线)是作为热能被人体感觉到的波长区域的光，是导致室内、车内的温度上升的原因。另外，短波长区域的紫外线会对人体产生如下不良影响：晒黑、黄褐斑、雀斑、致癌、视力障碍等，还会导致物品的机械强度降低、褪色等外观劣化、食品变质、印刷物的色调降低等。为了遮蔽这些不需要的热线及有害的紫外线，现使用形成日照遮蔽膜而具有日照遮蔽功能的玻璃基板、塑料板、薄膜等透明基材。以往使用应用了如金、银、铜、铝等大量具有传导电子的材料的日照遮蔽膜作为日照遮蔽材料。关于使用了这些材料的薄膜的形成，通常利用溅镀法或蒸镀法，但这些方法需要大规模的真空装置，因而生产性差，膜的制造成本变高，另外，难以形成大面积的膜。另一方面，还提出了通过使用含有日照遮蔽材料的涂布液在基材上形成日照遮蔽膜，而简单且低成本地制造具有日照遮蔽功能的透明基材。在此情况下，例如尝试了制造分散了比光的波长小1位数以上的微细微粒子的涂布液，但如果采用以往的金属材料，则会产生由微粒子化引起的氧化的问题，另外，在使用金(Au)的情况下，成本变高，所以不优选。此外，关于溶解混合有机系紫外线遮蔽剂后所获得的紫外线遮蔽功能，有紫外线吸收剂挥发而导致该紫外线遮蔽功能变差的问题。氧化锡、氧化铟、氧化钌、氧化铱、氧化钨等是在紫外线区域吸收紫外线，且大量地保有自由电子的氧化物材料，据称通过将这些氧化物材料进行微粒子化，能够使之具有可见光的透过性，而能够用作日照遮蔽材料。但是，这些材料虽然具有遮蔽近红外线与紫外线的能力，但紫外线遮蔽能力相对小，如果设法使之具有充分的紫外线遮蔽能力，则甚至可见光透过率也会降低。此外，为了使建筑物的窗户或交通工具的窗户之类的目前使用的透明基材具有日照遮蔽功能，使用含有日照遮蔽材料的涂布液而形成日照遮蔽膜的方法简便而优选，但这样的方法需要涂布液能够在常温下硬化。而且，如果该涂布液能够在常温下硬化，则即便在工厂使用时，也不再需要使用特别的硬化装置，在成本方面也变得有利。另外，在宾馆的窗户或汽车的窗户之类的用途中，会因擦拭或开闭而容易损伤表面，从而变得需要使硬化后的膜表面具有硬度。而且，在使用了有机系粘合剂的涂布液中也存在能够在常温下硬化的成分，但涂布、硬化后的膜强度弱，所以不实用，另一方面，如果是硅酸盐等无机系粘合剂，则硬化后的膜强度具有实用性，但由于在常温下不会硬化，所以需要加热使之硬化，生产性变差，成本变高，另外，在膜较厚的情况下，硬化时的收缩大而会产生龟裂。目前的现状是，如上所述具有能够在常温下硬化并且该硬化膜被赋予充分的表面强度这两种特性的日照遮蔽膜形成用涂布液并不存在，所以业界期待开发出这种日照遮蔽膜形成用涂布液。
技术实现思路
为了克服上述现有技术中的缺点，本专利技术的一个目的在于提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，其不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，适于大规模推广应用。本专利技术的另一目的在于提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液，其设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。本专利技术的另一目的在于提供一种用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合剂，使用该粘合剂的日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，适于大规模推广应用。本专利技术的另一目的在于提供一种用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合剂，其设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。本专利技术的另一目的在于提供一种日照遮蔽膜，其不仅能够在常温下硬化形成，而且日照遮蔽能力高以及表面硬度高，适于大规模推广应用。本专利技术的另一目的在于提供一种日照遮蔽膜，其设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。本专利技术的另一目的在于提供一种具有该日照遮蔽膜的基材，其日照遮蔽能力高以及表面硬度高，适于大规模推广应用。为达到以上目的，在本专利技术的第一方面，提供了一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，其特点是，所述粘合剂包括式I所示的化合物：其中，X为烷氧基。较佳地，所述烷氧基是甲氧基或乙氧基。较佳地，所述的式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。较佳地，所述近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。较佳地，所述近红外线遮蔽剂选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。较佳地，所述日照遮蔽膜形成用涂布液还包括稀释溶剂。较佳地，所述日照遮蔽膜形成用涂布液还包括硬化催化剂。较佳地，所述日照遮蔽膜形成用涂布液还包括紫外线遮蔽剂。更佳地，所述紫外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的紫外线遮蔽微粒子。更佳地，所述紫外线遮蔽剂选自二氧化铈、氧化锌、三氧化二铁和水合氧化铁中的一种或几种。在本专利技术的第二方面，提供了一种用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合剂，其特点是，所述的用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合剂为式I所示的化合物：其中，X为烷氧基。较佳地，所述烷氧基是甲氧基或乙氧基。较佳地，所述的式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。在本专利技术的第三方面，提供了一种日照遮蔽膜，其特点是，采用上述的日照遮蔽膜形成用涂布液涂布并在常温下硬化而成。在本专利技术的第四方面，提供了一种具有日照遮蔽功能的基材，其特点是，所述基材具有上述的日照遮蔽膜。本专利技术的有益效果主要在于：1、本专利技术的日照遮蔽膜形成用涂布液包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，粘合剂包括式I所示的化合物，其中，X为烷氧基，通过采用该粘合剂，该日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，适于大规模推广应用。2、本专利技术的日照遮蔽膜形成用涂布液包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，粘合剂包括式I所示的化合物，其中，X为烷氧基，通过采用该粘合剂，该日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜，而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高，设计巧妙，制备简便，成本低，适于大规模推广应用。本专利技术的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明和权利要求得以充分体现，并可通过所附权利要求中特地指出的手段、装置和它们的组合得以实现。具体实施方式为了提供一种能够应用于现有的透明基材，能够在常温下形成涂膜，且获得优异的膜强度的日照遮蔽膜形成用涂布液，本专利技术人反复进行努力研究，结果发现，通过使含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷及含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成的物质作为粘合剂，进而使用大量地保有自由电子的含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和/或含铑氧化物微粒子作为近红外线遮蔽剂，而能够实现所述目的，从而完成本专利技术。即，本专利技术的能够在常温下硬化的日照遮蔽膜形成用涂布液是含有粘合剂、稀释溶剂、硬化催化剂及近红外光遮蔽剂的日照遮蔽膜形成用涂布液，并且所述粘合剂的至少本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，其特征在于，所述粘合剂包括式I所示的化合物：

【技术特征摘要】
1.一种日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合剂和近红外线遮蔽剂，其特征在于，所述粘合剂包括式I所示的化合物：其中，X为烷氧基。2.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述烷氧基是甲氧基或乙氧基。3.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述的式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。4.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。5.如权利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述近红外线遮蔽剂选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭田繁树，
申请(专利权)人：沙河市湡久新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：河北,13