The utility model discloses a special cover plate for an epitaxial reaction chamber, which comprises a cover plate body, wherein a positioning mechanism is arranged on the cover plate body, and the positioning mechanism is used for fixing the cover plate body on the thermal wall of the epitaxial reaction chamber. The utility model also discloses an epitaxial reaction chamber. The cover plate of the utility model can cover the hot wall hole extension reaction chamber, can greatly reduce the reaction gas in contact with the observation window on the bell in the deposition, and thus the stability of the temperature control machine power, put an end to the epitaxial wafer resistivity anomaly generated, reducing machine temperature alarm. Through the positioning mechanism, the cover plate can be prevented from sliding on the hot wall.
【技术实现步骤摘要】
一种外延反应室专用盖板及外延反应室
本技术涉及半导体外延技术,特别是涉及一种外延反应室专用盖板及外延反应室。
技术介绍
在外延生产过程中,温度稳定是外延机台稳定运行的保证,而钟罩观察窗在外延过程中的洁净程度直接影响了温度的稳定。现有技术中的外延反应腔组件,譬如,意大利LPE(LiquidPhaseEpitaxial,液相外延)公司的PE3061D外延炉的反应腔组件,其由钟罩、热壁、基座、测温装置、激光探头等组成。热壁在激光探头处留有圆孔,用于基座的定位;钟罩留有观察窗,用于基座温度的检测和控制。现有反应腔组件如图1所示。外延生长时,反应气体易从热壁圆孔流出,与钟罩内侧接触。随着钟罩维护清洗次数的增多,其内侧粗糙度逐渐变差。在温度为1000℃以上,流出的反应气体易在内侧淀积,导致钟罩观察窗处模糊,直接影响了温度的控制,进而导致外延产品参数超标,甚至报废。钟罩观察窗模糊,测温装置检测到的温度低,为达到设定温度,功率将不断升高,反应腔内实际温度随之升高,反应气体在钟罩观察窗处淀积加剧,进而导致机台温度报警。钟罩观察窗模糊,激光探头探测路线受到干扰,影响了基座的“找零点”定位,导致机台报警,增加了维护成本。因此,亟待解决上述问题。
技术实现思路
技术目的:本技术的目的是提供一种能够防止反应气体从热壁圆孔流出的外延反应室专用盖板及外延反应室。技术方案:本技术所述的外延反应室专用盖板,包括盖板本体,盖板本体上设有定位机构,定位机构用于将盖板本体固定在外延反应室的热壁上。进一步,所述定位机构与盖板本体相垂直。进一步,所述定位机构为三个定位脚。进一步,所述定位脚与盖板本体的总厚度 ...
【技术保护点】
一种外延反应室专用盖板,其特征在于:包括盖板本体,盖板本体上设有定位机构,定位机构用于将盖板本体固定在外延反应室的热壁上。
【技术特征摘要】
1.一种外延反应室专用盖板,其特征在于:包括盖板本体,盖板本体上设有定位机构,定位机构用于将盖板本体固定在外延反应室的热壁上。2.根据权利要求1所述的外延反应室专用盖板,其特征在于:所述定位机构与盖板本体相垂直。3.根据权利要求1所述的外延反应室专用盖板,其特征在于:所述定位机构为三个定位脚。4.根据权利要求3所述的外延反应室专用盖板,其特征在于:所述定位脚与盖板本体的总厚度为2.5mm~5mm。5.根据权利要求1所述的外...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯永平,施国政,何晶,陈浩,
申请(专利权)人:南京国盛电子有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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