The production process of a new biaxial tensile polyimide films with low CTE and high adhesion, the method is two and two amine anhydride according to the corresponding rigid segments and flexible chain segments by stepwise condensation of the polymer, the proportion of the deployment of \soft and hard\ segment, synthesis of ordered multi block copolymerization of polyamic acid resin; control the longitudinal and transverse tensile ratio, the molecular orientation in the tensile direction, improve the order of molecular chain; adding nano inorganic filler and lanthanide compounds of low CTE copolymer polyamic acid resin embedded in multiple; finally prepared polyimide film model of biaxial tensile low CTE value and high adhesive properties and excellent mechanical the performance of the.
【技术实现步骤摘要】
低CTE、高粘结性的新型双向拉伸聚酰亚胺薄膜的生产工艺
本专利技术涉及低CTE、高粘结性的新型双向拉伸聚酰亚胺薄膜的生产工艺。
技术介绍
聚酰亚胺薄膜热稳定性高且具有优异的绝缘性,机械强度,及抗化学腐蚀性等特点,常用于多种电子加工材料,如用于集成电路的绝缘层,聚酰亚胺薄膜已经广泛应用于电子材料。随着航空、航天、电子信息等诸多方面技术淋浴日新月异的发展,随着电子产品向多功能化、网络化、小型化方向发展,电路板的使用正不断朝着多层化、布线高密度化以及信号传输高速化方向发展,这对电路基板如覆铜板的综合性能提出了更高的要求,如轻量化、高比强度、高比模量、高耐热性、尺寸稳定性、低线膨胀系数、光学通过性能等。伴随着超大规模集成电路制造与封装等高新技术的发展,我国对高性能聚酰亚胺薄膜的需求日益增加。聚酰亚胺薄膜仍是目前制造挠性覆铜板不可或缺的重要材料之一。较低热线膨胀系数(CTE)及优良的柔韧性是聚酰亚胺薄膜能否满足柔性线路板应用的最重要技术指标之一。只用当聚酰亚胺薄膜的CTE值不大于铜箔或硅片的CTE值,才能有效降低柔性覆铜板内因材料热膨胀系数较大差异而引起的内应力,避免卷曲或线路断路等使用缺陷的产生。同时低的CTE也可防止铜和基底层之间在热循环时尺寸变化不匹配,其通过减少图案化的铜迹线的应力和疲劳而增加最终柔性线路的使用寿命。目前已知铜箔及硅片的CTE值为17ppm/℃,而聚酰亚胺薄膜的CTE值为40--60ppm/℃不等。据使用可知,当聚酰亚胺薄膜的CTE值小于22ppm/℃,即可有效避免上述内应力的聚集。再者,在聚酰亚胺薄膜的应用过程中,往往会遇到聚酰亚胺薄膜从基 ...
【技术保护点】
一种低CTE、高粘结性的新型双向拉伸聚酰亚胺薄膜的生产工艺,其特征在于:它包括以下工艺过程:1)将单体二胺溶解于极性溶剂中,再加入单体二酐,在30±5℃的条件下,反应2±0.5小时;接着再加入单体二胺,完全反应后再加入单体二酐,在30±5℃的条件下,反应3±0.5小时;合成低粘度的聚酰胺酸树脂预聚物溶液,其中二胺和二酐的投料总摩尔比为1:0.9‑0.99,所述二胺为如下两种或三种的混合物:PDA、MDA、ODA;多种胺混合使用时,其质量分数比例PDA为0—90%,MDA为0—80%,ODA为0—80%;所述二酐为如下两种或三种:PMDA、BPDA、ODPA、BTDA;多种酐混合使用时,其质量分数比例PMDA为0—100%,BPDA为0—80%,ODPA为0—70%,BTDA为0—70%;2)以二甲基乙酰胺为溶剂,溶解低粘度聚酰胺酸树脂预聚物溶液,形成质量百分比为15%‑‑30%的预聚物溶液;3)将纳米无机填料、二甲基乙酰胺以及低粘度聚酰胺酸树脂预聚物溶液进行研磨分散得到了10%‑‑30%的填料母液,其中,填料粒径为10nm—30nm;研磨时间为2h—5h,研磨温度为25℃‑‑45℃,其 ...
【技术特征摘要】
1.一种低CTE、高粘结性的新型双向拉伸聚酰亚胺薄膜的生产工艺,其特征在于:它包括以下工艺过程:1)将单体二胺溶解于极性溶剂中,再加入单体二酐,在30±5℃的条件下,反应2±0.5小时;接着再加入单体二胺,完全反应后再加入单体二酐,在30±5℃的条件下,反应3±0.5小时;合成低粘度的聚酰胺酸树脂预聚物溶液,其中二胺和二酐的投料总摩尔比为1:0.9-0.99,所述二胺为如下两种或三种的混合物:PDA、MDA、ODA;多种胺混合使用时,其质量分数比例PDA为0—90%,MDA为0—80%,ODA为0—80%;所述二酐为如下两种或三种:PMDA、BPDA、ODPA、BTDA;多种酐混合使用时,其质量分数比例PMDA为0—100%,BPDA为0—80%,ODPA为0—70%,BTDA为0—70%;2)以二甲基乙酰胺为溶剂,溶解低粘度聚酰胺酸树脂预聚物溶液,形成质量百分比为15%--30%的预聚物溶液;3)将纳米无机填料、二甲基乙酰胺以及低粘度聚酰胺酸树脂预聚物溶液进行研磨分散得到了10%--30%的填料母液,其中,填料粒径为10nm—30nm;研磨时间为2h—5h,研磨温度为25℃--45℃,其中所述填料为云母、SiO2、TiO2和SiC的一种或多种;4)将低粘度聚酰胺酸树脂...
【专利技术属性】
技术研发人员:张磊,徐作骏,
申请(专利权)人:江阴骏友电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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