【技术实现步骤摘要】
太阳能电池及其制造方法
本专利技术涉及一种所有电极均设置在背表面上的背表面电极型太阳能电池及其制造方法。
技术介绍
最近,由于现有能源资源(例如石油和煤炭)的枯竭,对取代现有能源的替代能源的兴趣正在增加。最重要的是,用于能将太阳光转换为电能的太阳能电池,是流行的下一代电池。可以通过基于一些设计形成各种层和电极来制造太阳能电池。太阳能电池的效率可以通过各种层和电极的设计来确定。为了使太阳能电池商业化,需要克服低效率和低生产率的问题,因此,需要一种太阳能电池及其制造方法,其可以最大化太阳能电池的效率和生产率。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面,一种太阳能电池,所述太阳能电池包括:半导体衬底;保护膜层,所述保护膜层形成在所述半导体衬底的表面上;多晶半导体层,所述多晶半导体层形成在所述保护膜层上方;第一导电区域,所述第一导电区域通过用第一导电掺杂剂选择性地掺杂所述半导体层形成;第二导电区域,所述第二导电区域掺杂有第二导电掺杂剂并且位于所述第一导电区域的相邻部分之间;势垒区域(barrierarea),所述势垒区域位于所述第一导电区域与所述第二导电区域之间且不掺杂掺杂剂;第一电极,所述第一电极连接到所述第一导电区域;以及第二电极,所述第二电极连接到所述第二导电区域。第一导电区域和第二导电区域中的每一个包括具有与势垒区域不同的结晶结构的第二结晶区域,并且第一导电区域和第二导电区域的第二结晶区域包括具有不同深度的第二多晶区域和第四结晶区域。附图说明通过下面结合附图的详细描述,将更清楚地理解本专利技术的上述及其它目的、特征和其它优点,在附图中:图1是示出根据本专利技术的 ...
【技术保护点】
一种太阳能电池,所述太阳能电池包括:半导体衬底;保护膜层,所述保护膜层形成在所述半导体衬底的表面上;多晶半导体层,所述多晶半导体层形成在所述保护膜层上方;第一导电区域,所述第一导电区域通过用第一导电掺杂剂选择性地掺杂半导体层形成;第二导电区域,所述第二导电区域掺杂有第二导电掺杂剂并且位于所述第一导电区域的相邻部分之间;第一电极,所述第一电极连接到所述第一导电区域;以及第二电极,所述第二电极连接到所述第二导电区域,其中,所述第一导电区域和所述第二导电区域中的至少一个包括第一结晶区域和第二结晶区域,所述第一结晶区域与所述保护膜层接触并且具有第一晶粒尺寸,所述第二结晶区域通过所述多晶半导体层的一部分的再结晶形成并且具有大于所述第一晶粒尺寸的第二晶粒尺寸。
【技术特征摘要】
2015.12.21 KR 10-2015-0183118;2016.02.03 KR 10-2011.一种太阳能电池,所述太阳能电池包括:半导体衬底;保护膜层,所述保护膜层形成在所述半导体衬底的表面上;多晶半导体层,所述多晶半导体层形成在所述保护膜层上方;第一导电区域,所述第一导电区域通过用第一导电掺杂剂选择性地掺杂半导体层形成;第二导电区域,所述第二导电区域掺杂有第二导电掺杂剂并且位于所述第一导电区域的相邻部分之间;第一电极,所述第一电极连接到所述第一导电区域;以及第二电极,所述第二电极连接到所述第二导电区域,其中,所述第一导电区域和所述第二导电区域中的至少一个包括第一结晶区域和第二结晶区域,所述第一结晶区域与所述保护膜层接触并且具有第一晶粒尺寸,所述第二结晶区域通过所述多晶半导体层的一部分的再结晶形成并且具有大于所述第一晶粒尺寸的第二晶粒尺寸。2.根据权利要求1所述的太阳能电池,所述太阳能电池还包括设置在所述第一导电区域与所述第二导电区域之间并且不掺杂有掺杂剂的势垒区域。3.根据权利要求2所述的太阳能电池,其中,所述势垒区域具有所述第一晶粒尺寸。4.根据权利要求1所述的太阳能电池,所述太阳能电池还包括通过和所述第二结晶区域接触的所述第一电极及所述第二电极中的每一个与所述第二结晶区域之间的界面的再结晶而形成的第三结晶区域,所述第三结晶区域具有比所述第一晶粒尺寸和所述第二晶粒尺寸小的第三晶粒尺寸。5.根据权利要求4所述的太阳能电池,其中,所述第三结晶区域包括形成在该第三结晶区域的表面上的表面凸凹部分。6.根据权利要求5所述的太阳能电池,其中,所述第一电极和所述第二电极中的至少一个电极具有包括两层或更多层的多层结构,并且包括形成在所述至少一个电极的与所述第三结晶区域接触的表面上以与所述第三结晶区域的所述表面凸凹部分对应的电极凸凹部分。7.根据权利要求1所述的太阳能电池,所述太阳能电池还包括形成在所述第一导电区域和所述第二导电区域中的至少一个上的绝缘层,其中,所述绝缘层包括用于允许所述第一电极和所述第一导电区域彼此电连接的第一开口或者用于允许所述第二电极和所述第二导电区域彼此电连接的第二开口。8.根据权利要求7所述的太阳能电池,其中,所述第一电极和所述第二电极中的每一个具有分别突出到所述第一开口和所述第二开口中的突起。9.一种太阳能电池,所述太阳能电池包括:半导体衬底;第一导电区域,所述第一导电区域形成在所述半导体衬底上方并且被构造为第一导电类型的半导体层;绝缘膜,所述绝缘膜设置在所述第一导电区域上方并且具有第一接触孔;以及第一电极,所述第一电...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑寅道,许美姬,梁周弘,李恩珠,南正范,
申请(专利权)人:LG电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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