一种柔性阵列基板、显示面板及制作方法技术

本发明专利技术提供了一种柔性阵列基板、显示面板及制作方法，涉及显示领域，用以在弯折柔性显示面板时，使张力分散到该显示面板的波形结构的每一点上，从而分散该显示面板的受力，降低了有源层和源漏极的受到的作用力，减少了有源层和源漏极断裂的概率。所述柔性阵列基板包括：上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层，以及位于所述栅极绝缘层上依次设置的呈波形的源漏极与呈波形的有源层；其中，所述栅极绝缘层的波峰和波谷沿弯折边的方向依次交替排列；所述源漏极的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述源漏极的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应；所述有源层的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述有源层的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应。

【技术实现步骤摘要】
一种柔性阵列基板、显示面板及制作方法
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种柔性阵列基板、显示面板及制作方法。
技术介绍
由于柔性阵列基板与普通的刚性阵列基板相比，具有耐冲击，抗震能力更强，重量轻，体积小，便于携带；采用类似于报纸印刷工艺的卷带式工艺，成本低廉等诸多优点，因此，目前越来越多的显示装置使用柔性阵列基板，例如，柔性OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示器和柔性液晶显示器等。然而，对于柔性OLED显示器和柔性液晶显示器，在弯折该显示面板时，柔性阵列基板中的有源层、源漏极容易断裂，从而将导致显示信号无法传输至像素单元，使得无显示信号的像素单元对应的无法成像，导致显示效果不良。综上所述，弯折柔性显示面板时，柔性阵列基板中的有源层、源漏极容易断裂，从而将导致显示信号无法传输至像素单元，使得无显示信号的像素单元对应的无法成像，导致显示效果不良。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种柔性阵列基板、显示面板及制作方法，用以在弯折柔性显示面板时，分散有源层和源漏极的受力，从而降低了有源层和源漏极的受力，减少了有源层和源漏极断裂的概率。本专利技术实施例提供的一种柔性阵列基板，包括：上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层，以及位于所述栅极绝缘层上依次设置的呈波形的源漏极与呈波形的有源层；其中，所述栅极绝缘层的波峰和波谷沿弯折边的方向依次交替排列；所述源漏极的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述源漏极的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应；所述有源层的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述有源层的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应。本专利技术实施例中，通过将有源层和源漏极均设置为波形，使得在弯折柔性显示面板的时候，张力分散到该显示面板的波形结构的每一点上，从而分散该显示面板的受力，降低了有源层和源漏极的受到的作用力，减少了有源层和源漏极断裂的概率，增大了阵列基板的弹性模量。较佳地，所述波形为正弦波形状或者余弦波形状或者方波形状。较佳地，所述栅极绝缘层中呈波形的区域包括中间区域和其他区域；其中，所述中间区域的波峰的幅度大于所述其他区域的波峰的幅度。较佳地，沿所述中间区域向所述其他区域的方向，所述栅极绝缘层的波峰的幅度呈等差数列排列。较佳地，所述中间区域的相邻的波峰之间的距离小于所述其他区域的相邻的波峰之间的距离。通过本专利技术实施例，将更有针对性的分散中间区域的受力，进一步降低了有源层和源漏极断裂的概率。本专利技术实施例提供的一种柔性显示面板，包括上述柔性阵列基板。本专利技术实施例提供的一种柔性阵列基板的制作方法，该方法包括：利用构图工艺，在衬底基板上形成栅电极；利用构图工艺，在所述栅电极上形成上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层；其中，所述栅极绝缘层的波峰和波谷沿弯折边的方向依次交替排列；在上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层上依次形成呈波形的有源层和呈波形的源漏极，其中，所述有源层的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述有源层的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应；所述源漏极的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述源漏极的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应。本专利技术实施例中，通过将有源层和源漏极均设置为波形，使得在弯折柔性显示面板的时候，分散有源层和源漏极的受力，降低了有源层和源漏极的受力，减少了有源层和源漏极断裂的概率，增大了阵列基板的弹性模量。较佳地，在所述栅电极上形成上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层，包括：在所述栅电极上形成栅极绝缘层；利用预设的掩模板，对所述栅极绝缘层的上表面刻蚀，得到上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层；其中，所述掩模板包括多个呈阵列排布的不透光区域。较佳地，利用预设的掩模板，对所述栅极绝缘层的上表面刻蚀，包括：在所述栅极绝缘层上涂覆光刻胶层；利用预设的掩模板，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成第一抗刻蚀层；根据所述第一抗刻蚀层，对所述栅极绝缘层的上表面进行湿刻。较佳地，在上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层上依次形成呈波形的有源层和呈波形的源漏极，包括：在上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层上，通过PECVD工艺依次形成呈波纹的a-Si层和n+-a-Si层；对呈波形的a-Si层和n+-a-Si层进行干刻，形成硅岛图案的a-Si层和n+-a-Si层；在形成硅岛图案的a-Si层和n+-a-Si层上，通过PECVD工艺形成呈波纹的金属层；对所述呈波形的金属层进行湿刻，形成呈波形的源漏极；对暴露出的所述呈波形的n+-a-Si层进行干刻，直到暴露出a-Si层为止，形成呈波形的有源层。附图说明图1a、图1b为本专利技术实施例一提供的一种柔性阵列基板的结构示意图；图2a、图2b为本专利技术实施例一提供的柔性阵列基板弯折受力的示意图；图3为本专利技术实施例一提供的柔性阵列基板弯折受力分析的示意图；图4a、图4b为本专利技术实施例一中波形的示意图；图5为本专利技术实施例三提供的一种柔性阵列基板的制作方法的流程示意图；图6a为本专利技术实施例三中的柔性阵列基板的结构示意图；图6b为本专利技术实施例三中的掩模板的俯视的结构示意图；图7为本专利技术实施例三提供的柔性阵列基板的制作方法的流程示意图；图8a-图8f为本专利技术实施例三提供的柔性阵列基板的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一：参见图1a，本专利技术实施例一提供了一种柔性阵列基板，包括：衬底基板110、栅电极120、上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层130，以及位于栅极绝缘层上依次设置的呈波形的有源层140与呈波形的源漏极150；其中，参见图1b，所述栅极绝缘层的波峰131和波谷132沿弯折边的方向依次交替排列；所述有源层的波峰141与所述栅极绝缘层的波峰131相对应，所述有源层的波谷142与所述栅极绝缘层的波谷132相对应；所述源漏极的波峰151与所述栅极绝缘层的波峰131相对应，所述源漏极的波谷152与所述栅极绝缘层的波谷132相对应。具体地，栅极绝缘层的波峰和波谷的排列方式可以为，若沿源电极到漏电极的方向对该柔性阵列基板201进行弯折，如图2a所示，则栅极绝缘层的波峰和波谷将沿源电极到漏电极的方向(A-A’方向)依次交替排列；若沿栅电极的走线方向对该柔性阵列基板201进行弯折，如图2b所示，则栅极绝缘层的波峰和波谷将沿栅电极的方向(B-B’方向)依次交替排列；或者，栅极绝缘层的波峰和波谷既沿源电极到漏电极的方向(A-A’方向)依次交替排列，也沿栅电极的方向(B-B’方向)依次交替排列。通过将有源层和源漏极均设置为波形，使得在弯折柔性显示面板的时候，分散有源层和源漏极的受力，如图3所示，降低了有源层和源漏极的受力，减少了有源层和源漏极断裂的概率，增大了阵列基板的弹性模量。其中，上述栅极绝缘层的上表面、有源层和源漏极所呈现的波形，不限于图1所示的正弦波或余弦波，还包括方波、锯齿波；较佳地，所述波形的中间区域的幅度大于其他区域的幅度(参见图4a)，和/或所述波形的中间区域的频率小于其他区域的频率(参见图4b)。特别地，从中间区域向其他区域的方向，所述波形的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性阵列基板，其特征在于，包括：上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层，以及位于所述栅极绝缘层上依次设置的呈波形的源漏极与呈波形的有源层；其中，所述栅极绝缘层的波峰和波谷沿弯折边的方向依次交替排列；所述源漏极的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述源漏极的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应；所述有源层的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述有源层的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应。

【技术特征摘要】
1.一种柔性阵列基板，其特征在于，包括：上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层，以及位于所述栅极绝缘层上依次设置的呈波形的源漏极与呈波形的有源层；其中，所述栅极绝缘层的波峰和波谷沿弯折边的方向依次交替排列；所述源漏极的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述源漏极的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应；所述有源层的波峰与所述栅极绝缘层的波峰相对应，所述有源层的波谷与所述栅极绝缘层的波谷相对应。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述波形为正弦波形状或者余弦波形状或者方波形状。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极绝缘层中呈波形的区域包括中间区域和其他区域；其中，所述中间区域的波峰的幅度大于所述其他区域的波峰的幅度。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，沿所述中间区域向所述其他区域的方向，所述栅极绝缘层的波峰的幅度呈等差数列排列。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述中间区域的相邻的波峰之间的距离小于所述其他区域的相邻的波峰之间的距离。6.一种柔性显示面板，其特征在于，包括权利要求1～5任一项权利要求所述的柔性阵列基板。7.一种柔性阵列基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：利用构图工艺，在衬底基板上形成栅电极；利用构图工艺，在所述栅电极上形成上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层；其中，所述栅极绝缘层的波峰和波谷沿弯折边的方向依次交替排列；在上表面至少部分呈波形的栅极绝缘层上依次形成呈波形的有源层和呈波形的源...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫奎，李贺飞，王铖铖，董必良，李纪龙，段献学，尹洋植，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11