触控结构与制作方法及其应用装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种触控结构与制作方法及其应用装置。该触控结构包括：一导电玻璃单元和位于导电玻璃单元的一侧的一导电膜单元。导电玻璃单元包括一玻璃基板以及一第一图案化电极层。玻璃基板具有一第一表面和与第一表面相对的一第二表面，其中第一表面具有一第一粗糙度，第二表面具有一第二粗糙度，且第一粗糙度大于第二粗糙度。第一图案化电极层位于第二表面上。导电膜单元包括一透光膜以及位于透光膜片上的一第二图案化电极层。

【技术实现步骤摘要】
触控结构与制作方法及其应用装置
本专利技术涉及一种触控结构与其制作方法及其应用装置，且特别是涉及一种薄型化的触控结构与其制作方法及其应用装置。
技术介绍
随着显示科技的进步，各式显示装置不断推陈出新，其中搭载着触控面板的显示装置目前已经广泛应用于各种消费电子产品之中。传统外挂于显示模块之外(out-cell)的触控面板，一般包含单玻璃触控结构(OGS)、双玻璃触控结构(GG)与双薄膜触控结构(CoverGlass/SensorFilmX/SensorFilmY,GFF)三种主要类型，其具有可提供触控面板和显示模块多元的弹性组合选择的优点。但由于外挂式的触控面板需要采用较多的材料且包含复杂的堆叠层，因此整体结构较为厚重且不易薄化。以双玻璃触控结构为例，其使用一片玻璃作为外盖玻璃(coverglass)，另一片玻璃作为感测玻璃(sensorglass)，用来容纳形成于其表面上的感测电极。由于，外盖玻璃需高硬度故无法减薄，若对感测玻璃进行减薄，又会降低感测玻璃的机械强度，而导致其在制作工艺中容易破裂，不但使制作工艺难度增加也使良率大幅下降，相对垫高了制作工艺成本变高。因此，仍有需要提供一种先进触控结构与其制作方法及其应用装置，以改善现有技术所面临的问题。
技术实现思路
本专利技术的一个实施例，是有关于一种触控结构，包括：一导电玻璃单元和位于导电玻璃单元的一侧的一导电膜单元。导电玻璃单元包括一玻璃基板以及一第一图案化电极层。玻璃基板具有一第一表面和与第一表面相对的一第二表面，其中第一表面具有一第一粗糙度，第二表面具有一第二粗糙度，且第一粗糙度大于第二粗糙度。第一图案化电极层位于第二表面上。导电膜单元包括：一透光膜；以及位于透光膜片上的一第二图案化电极层。本专利技术的另一个实施例是有关于一种触控显示装置，包括：一个显示面板以及先前所述的触控结构。其中，显示面板具有一个出光面；此触控结构位于出光面上。本专利技术的又一个实施例是有关于一种触控结构的制作方法，包括下述步骤。提供一第一玻璃基板，具有一第一表面和与该第一表面相对的一第二表面。再于第二表面上形成一第一图案化电极层。提供一第一透光膜，在透光膜上形成一第二图案化电极层。对第一玻璃基板进行一薄化制作工艺，使第一表面经过薄化，经薄化的第一表面具有大于第二表面的一粗糙度。进行一贴合制作工艺，将第一透光膜贴附于经薄化的第一表面或第二表面上。其中，贴合制作工艺和薄化制作工艺的步骤先后顺序可以互换。由于分别位于玻璃基板上以及透光膜片上的第一图案化电极层和第二图案化电极层是各自进行制作。因此，形成第一图案化电极层和第二图案化电极层的制作工艺步骤并不会对薄化后的玻璃基板的机械强度产生影响。且在一些实施例中，是将两片玻璃彼此贴附组合之后，才对玻璃基板进行薄化，可降低玻璃基板于制作工艺中发生破裂的机率，增加良率。另外，在一些实施例中，薄化后的玻璃基板可作为外盖玻璃使用，并不需额外附加其他玻璃层，可降低制作工艺成本，达到前述的专利技术目的。附图说明图1A至图1H为本专利技术的第一实施例所绘示的一系列用来形成触控结构的制作工艺结构剖面示意图；图2A至图2H为本专利技术的第二实施例所绘示的一系列用来形成触控结构的制作工艺结构剖面示意图；以及图3为本专利技术的一实施例绘示采用图1H所示的触控结构所制作而成的触控显示装置的结构剖面示意图。符号说明20：第一导电膜单元22：第二导电膜单元40：第一导电膜单元42：第二导电膜单元90：触控显示装置100：触控结构101：第一玻璃基板101a：第一玻璃基板的第一表面101b：第一玻璃基板的第二表面102：第一图案化电极层102a：外部导线103：第二玻璃基板103a：第二玻璃基板的第三表面103b：第二玻璃基板的第四表面104：第三图案化电极层105：框胶106：薄化制作工艺108：第二图案化电极层109：承载基板110：第一透光膜111：外部导线112：光学胶113：第二透光膜114：第四图案化电极层115：光学胶116：金属导线118：保护层119：光学胶120：外盖玻璃121：软性电路板122：边框200：触控结构201：第一玻璃基板201a：第一玻璃基板的第一表面201b：第一玻璃基板的第二表面202：第一图案化电极层202a：外部导线203：第二玻璃基板203a：第二玻璃基板的第三表面203b：第二玻璃基板的第四表面204：第三图案化电极层205：框胶206：薄化制作工艺208：第二图案化电极层209：承载基板210：第一透光膜211：外部导线212：光学胶213：第二透光膜214：第四图案化电极层215：光学胶218：保护层221：软性电路板222：边框300：显示面板301：出光面具体实施方式本专利技术提供一种薄型化的触控结构与其制作方法及其应用装置，可以简化制作工艺、增加良率并且降低制作工艺成本。为了对本专利技术的上述实施例及其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举数个优选实施例，并配合所附的附图作详细说明。但必须注意的是，这些特定的实施案例与方法，并非用以限定本专利技术的范围。本专利技术仍可采用其他特征、元件、方法及参数来加以实施。优选实施例的提出，仅用以例示本专利技术的技术特征，并非用以限定本专利技术的权利要求。该
中具有通常知识者，将可根据以下说明书的描述，在不脱离本专利技术的精神范围内，作均等的修饰与变化。在不同实施例与附图之中，相同的元件，将以相同的元件符号加以表示。请参照图1A至图1H，图1A至图1H是根据本专利技术的第一实施例所绘示的一系列用来形成触控结构100的制作工艺结构剖面示意图。其中形成触控结构100的方法包含下述步骤：首先，提供一个第一玻璃基板101，使第一玻璃基板101具有一个第一表面101a和与第一表面101a相对的第二表面101b(如图1A所绘示)。在本专利技术的一些实施例之中，第一表面101a和第二表面101b可具有相同的粗糙程度，其中二者的表面粗糙度实质介于1纳米(nm)至5纳米之间。第一玻璃基板101的厚度实质介于300微米(μm)至600微米之间。接着，在第一玻璃基板101的第二表面101b上形成第一图案化电极层102。在本案一实施例中，可使第一图案化电极层102与第二表面101b直接接触(如图1B所绘示)。或者，在第一玻璃基板101和第一图案化电极层102之间，可依需要设置一层或多层的光学补偿层。在本专利技术的一些实施例之中，第一图案化电极层102的形成，包括先采用沉积技术，例如溅镀(sputtering)或低压化学气相沉积(Low-pressureChemicalVaporDeposition，LPCVD)于第一玻璃基板101的第二表面101b上形成一导电材料层。再通过黄光蚀刻制作工艺，移除一部分导电材料层，用于在第一玻璃基板101的第二表面101b上形成第一图案化电极层102。在本实施例中，触控结构100是一种电容式触控结构，例如，第一图案化电极层102用来作为电容式触控结构的触控电极，例如，感测电极(Rx)。在另一些实施例中，第一图案化电极层102还包括位于周边区的外部导线102a。外部导线102a可与第一图案化电极层102电连接。外部导线102a可由形成第一图案化电极层102的制作工艺所形成，而具有与第一图案化电极层102相同的材质。但本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控结构，包括：导电玻璃单元，其包括：玻璃基板，具有一第一表面和与该第一表面相对的一第二表面，其中该第一表面具有一第一粗糙度，该第二表面具有一第二粗糙度，该第一粗糙度大于该第二粗糙度；以及第一图案化电极层，位于该第二表面上；以及导电膜单元，位于该导电玻璃单元的一侧，其包括：透光膜；以及第二图案化电极层，位于该透光膜片上。

【技术特征摘要】
1.一种触控结构，包括：导电玻璃单元，其包括：玻璃基板，具有一第一表面和与该第一表面相对的一第二表面，其中该第一表面具有一第一粗糙度，该第二表面具有一第二粗糙度，该第一粗糙度大于该第二粗糙度；以及第一图案化电极层，位于该第二表面上；以及导电膜单元，位于该导电玻璃单元的一侧，其包括：透光膜；以及第二图案化电极层，位于该透光膜片上。2.如权利要求1所述的触控结构，其中该第一粗糙度介于1.5纳米(nm)至300纳米之间，该第二粗糙度介于1纳米至5纳米之间。3.如权利要求1所述的触控结构，还包括一光学胶，位于该导电玻璃单元和该导电膜单元之间，其中该透光膜通过该光学胶贴合于该第一表面，且该第二图案化电极层位于该透光膜远离该第一表面的一侧。4.如权利要求1所述的触控结构，还包括一光学胶，位于该导电玻璃单元和该导电膜单元之间，其中该透光膜通过该光学胶贴合于该第二表面，且该第二图案化电极层位于该透光膜远离该第二表面的一侧。5.如权利要求1所述的触控结构，其中透光膜是一各向同性膜(Is...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢佩颖，叶圣修，卓宏升，乐瑞仁，
申请(专利权)人：群创光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71