一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法，目的在于解决现有电离室管道位置调节装置对电离室管道的位置调整非常困难，且调整是不连续的问题。本发明专利技术以现有电离室管道位置调节装置为基础，对装置的整体机构进行了全新的设计和改进，增加了转动调整件，并利用转动调整件与其他部件之间的相互配合，实现了电离室管道的连续调节，有效改变了现有电离室管道的调节方式，简化整体调节操作。本发明专利技术构思巧妙，设计合理，结构简单，使用方便，易于操作，具有较好的应用前景，值得大规模推广和应用。

Device and method for continuously regulating position of ionization chamber pipe

The invention discloses a device and a method for continuously adjustable chamber pipeline position, the purpose is to solve the existing pipeline position adjusting device of the ionization chamber ionization chamber pipeline position adjustment is very difficult, and the adjustment is not continuous. The invention to the existing pipeline ionization chamber position adjusting device based on the overall mechanism of device is designed and improved new, increased rotation adjustment, and the interaction between the rotating adjusting part and other parts, realizes the continuous adjustment of the ionization chamber of the pipeline, effectively changing the existing regulation mode of ionization chamber pipe overall, simplify the adjustment operation. The invention has the advantages of artful design, reasonable design, simple structure, convenient operation, easy operation and good application prospect, and is worthy of popularization and application in a large scale.

【技术实现步骤摘要】
一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法
本专利技术涉及反应堆工程领域，具体为一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法。本专利技术能够有效调节电离室管道的位置，且结构简单，操作方便，易于维护，具有较高的应用价值和较好的应用前景。
技术介绍
电离室管道主要用于安装反应堆的中子探测器（名称为电离室）。在反应堆中，需要安装多个电离室进行测量，并且测量控制系统要求这几个电离室测量信号基本一致。而电离室距离堆芯近则测量信号大，反之测量信号小，这就需要每根电离室管道能够单独调整其位置，从而调整电离室的输出电流信号，以满足测量的要求。现有的电离室管道位置调节装置如图1所示，该装置包括用于支撑电离室管道的下支撑板，所述下支撑板上设置有若干个定位孔，通过将电离室管道设置在不同的定位孔上，以实现电离室管道位置的调节。然而，现有电离室管道位置调节装置存在如下缺点：1）由于采用电离室管道在下支撑板上不同的定位孔中定位，使得电离室管道位置调整是不连续的；2）由于电离室管道的长度很长（通常长达十米左右），定位孔很小，在电离室管道上端操作时，根本无法看见定位孔的位置，这使得电离室管道的位置调整非常困难，甚至出现无法调整的情况。中国专利CN201410318271.1公开了一种模拟燃料组件子通道加热棒间距调节装置，该装置包括：位置调节系统；所述位置调节系统位于该装置上端，所述位置调节系统包含：加热棒的引线电极、移动滑块、啮合系统支架、固定栓、齿状杆、齿轮、转动盘、锥形波纹管、导轨、刻度线、刻度指针、支撑盘和支撑杆；齿轮与转动盘固定在啮合系统支架上，齿状杆穿过啮合系统支架与移动滑块连接在一起。该装置通过旋转转动盘驱动齿轮带动齿状杆前后移动，带动移动滑块前后移动从而实现加热棒距离调节功能，然后旋紧固定栓起到固定作用，通过刻度指针与支撑盘上表面的刻度线对三根加热棒之间的距离进行精确定位，实现加热棒之间的间距调节功能。若将该间距调节装置用于本专利技术中，其存在如下缺点：1）该装置采用齿轮传动，结构较为复杂，不易于维护；2）该装置独立于现有电离室管道位置调节装置之外，因此，需要对反应堆的结构进行重新调整，其用于现有反应堆的设备安装成本较高；3）其采用齿轮传动，单次移动的间距取决于齿轮上相邻两齿间的间距，无法实现真正意义上的连续调节。为此，迫切需要一种新的装置，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的专利技术目的在于：针对上述存在的问题，提供一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法。本专利技术以现有电离室管道位置调节装置为基础，对装置的整体机构进行了全新的设计和改进，增加了转动调整件，并利用转动调整件与其他部件之间的相互配合，实现了电离室管道的连续调节，有效改变了现有电离室管道的调节方式，简化整体调节操作。本专利技术构思巧妙，设计合理，结构简单，使用方便，易于操作，具有较好的应用前景，值得大规模推广和应用。为了实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：一种可连续调节电离室管道位置的装置，包括电离室管道、下支撑板，所述电离室管道包括管体、设置在管体下端的第一连接件，所述下支撑板上设置有若干个第一定位孔；还包括转动调整件，所述转动调整件包括盘体、与第一定位孔相配合的第二连接件，所述盘体与第二连接件固定连接，所述第二连接件与第一定位孔活动连接且第二连接件能相对第一定位孔转动，所述盘体上设置有与第一连接件相配合的第二定位孔且盘体通过第二定位孔能带动电离室管道相对下支撑板转动。所述第一连接件的中轴线与第二连接件中轴线不重合且所述转动调整件能沿第二连接件的中轴线转动。所述第一连接件位于转动调整件的转动半径上。所述第一连接件、第二连接件分别呈圆柱形或锥形。所述盘体呈圆形或椭圆形。所述第一定位孔、第二定位孔分别为至少一个。还包括固定连接件，所述固定连接件设置在转动调整件上且转动调整件能使电离室管道相对转动调整件固定。还包括能对电离室管道进行固定的管道固定机构。所述管道固定机构包括第二支撑板、中间连接件、设置在电离室管道上的管道抱箍，所述第二支撑板依次通过中间连接件、管道抱箍与电离室管道相连且第二支撑板、中间连接件、管道抱箍能实现对电离室管道的固定。采用前述装置进行电离室管道位置调节的方法，包括如下步骤：（1）安装转动调整件将转动调整件的第二连接件设置于下支撑板的第一定位孔中；（2）安装电离室管道将电离室管道上的第一连接件设置于转动调整件的第二定位孔中；（3）位置调整待步骤（1）、步骤（2）完成后，旋转电离室管道，带动管体通过转动调整件相对下支撑板转动，当电离室管道到达电离室管道距反应堆所需距离时，对电离室管道进行固定即可。针对前述问题，本专利技术提供一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法。现有的电离室管道位置调节装置如图1所示，其工作过程如下：提起电离室管道，使得电离室管道下端的第一连接件插入下支撑板中不同位置的第一定位孔内，从而调节电离室管道至反应堆堆芯的距离。由于电离室管道长达十米左右，而第一定位孔之间的间距极小，这使得在实际操作中，电离室管道位置调整非常困难，甚至无法调整。基于现有装置存在的问题，本专利技术在现有装置的基础上进行了全新的改进，其包括位于电离室管道与下支撑板之间的转动调整件。该转动调整件包括盘体、与盘体固定连接的第二连接件，第二连接件位于盘体下端，第二连接件与第一定位孔活动连接且第二连接件能相对下支撑板的第一定位孔转动。同时，盘体上设置有与第一连接件相配合的第二定位孔，电离室管道下端的第一连接件能插入第二定位孔内，使得盘体通过第二定位孔能带动电离室管道相对下支撑板转动。采用该结构，电离室管道与盘体保持相对静止，当对电离室管道进行调整时，转动调整件以第二连接件为转轴，能绕第一定位孔相对转动，从而将原来的不连续调节变为现在的旋转可连续调节。同时，当电离室管道、转动调整件、下支撑板安装完毕后，在需要调节电离室管道的位置时，无需将电离室管道提起，只需通过调整电离室管道的运动，即可改变电离室管道相对反应堆的距离。采用本专利技术，能够极大的简化操作，同时实现电离室管道与反应堆之间距离的连续调节，有效解决现有电离室管道位置调节装置所存在的问题，具有极好的应用前景。与现有方法相比，本专利技术结构简单，操作方便，且无需对现有的装置进行改动，不仅适用于新建反应堆，还可适用于现有的反应堆，具有极好的应用前景。同时，第一连接件的中轴线与第二连接件中轴线不重合，转动调整件能沿第二连接件的中轴线转动，即第一连接件位于转动调整件的转动半径上。采用方式，转动调整件以第二连接件为轴心，第二定位孔能绕第二连接件转动，从而带动电离室管道相对反应堆的距离发生变化。进一步，第一连接件、第二连接件分别呈圆柱形或圆锥形，优选为圆锥形。第二连接件与第一连接件采用相同构型，有利于简化整体的结构，降低生产成本。进一步，还包括固定连接件，固定连接件设置在转动调整件上且转动调整件能使电离室管道相对转动调整件固定。采用该方式，能够保证电离室管道与转动调整件之间的相对固定。所述固定连接件可以为螺钉或螺栓，将螺钉拧紧，使电离室管道与转动调整件连接在一起。还包括能对电离室管道进行固定的管道固定机构，管道固定机构能够对电离室管道的上端进行固定，从而保证整体结构的稳定性。进一步，管道固定机构包括用于为管道固定机构提供支撑的第二支撑板、中间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可连续调节电离室管道位置的装置，包括电离室管道、下支撑板，所述电离室管道包括管体、设置在管体下端的第一连接件，所述下支撑板上设置有若干个第一定位孔；其特征在于，还包括转动调整件，所述转动调整件包括盘体、与第一定位孔相配合的第二连接件，所述盘体与第二连接件固定连接，所述第二连接件与第一定位孔活动连接且第二连接件能相对第一定位孔转动，所述盘体上设置有与第一连接件相配合的第二定位孔且盘体通过第二定位孔能带动电离室管道相对下支撑板转动。

【技术特征摘要】
1.一种可连续调节电离室管道位置的装置，包括电离室管道、下支撑板，所述电离室管道包括管体、设置在管体下端的第一连接件，所述下支撑板上设置有若干个第一定位孔；其特征在于，还包括转动调整件，所述转动调整件包括盘体、与第一定位孔相配合的第二连接件，所述盘体与第二连接件固定连接，所述第二连接件与第一定位孔活动连接且第二连接件能相对第一定位孔转动，所述盘体上设置有与第一连接件相配合的第二定位孔且盘体通过第二定位孔能带动电离室管道相对下支撑板转动。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一连接件的中轴线与第二连接件中轴线不重合且所述转动调整件能沿第二连接件的中轴线转动。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一连接件位于转动调整件的转动半径上。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一连接件、第二连接件分别呈圆柱形或锥形。5.根据权利要求1-4任一项所述的装置，其特征在于，所述盘体呈圆形或椭圆形。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一定位孔、第二定位孔分别为至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱世雷，唐彬，王学杰，黄文，谢俊，陈玉山，姚健，王鹏，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院核物理与化学研究所，
类型：发明
国别省市：四川,51