一种ITO刻蚀废液的处理工艺及处理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种ITO刻蚀废液的处理工艺及处理设备，处理工艺包括以下步骤：(1)向反应容器内加入液碱，然后进行稀释处理；(2)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到9～10，反应一段时间；(3)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到7～7.5，反应一段时间。本发明专利技术采取反向调节，通过在液碱中加入ITO刻蚀废液来反应，并分步加入ITO刻蚀液废液，且本发明专利技术先对液碱进行稀释，然后与ITO刻蚀废液进行反应，温度上升幅度减小，且温度会随着液碱浓度和ITO刻蚀废液浓度的降低而减小，不会造成温度剧烈上升，能够有效地控制反应过程中的温度及pH变化，可以很容易调节反应至pH值为7左右，安全性高。

Treatment process and treatment equipment for ITO etching waste liquid

The invention discloses a processing technology and processing equipment for ITO etching wastewater, treatment process includes the following steps: (1) to the reaction vessel with liquid, and then diluting; (2) to the reaction vessel and slowly add ITO etching wastewater, until the pH value reached 9 ~ 10, reaction time; (3) to the reaction vessel and slowly add ITO etching wastewater, until the pH value reached 7 ~ 7.5, reaction time. The invention adopts the reverse regulation to reaction by adding ITO etching waste liquid in liquid, and by adding ITO etching waste liquor, and the invention of liquid dilution, and then reacted with ITO etching waste liquid, the temperature rise decreases, and the temperature will decrease with increase of alkali concentration and ITO etching wastewater concentration, not due to the drastic temperature rise, can effectively control the temperature and the change of pH in the reaction process, can be easily adjusted to the reaction pH value is about 7, high security.

【技术实现步骤摘要】
一种ITO刻蚀废液的处理工艺及处理设备
本专利技术涉及废液的处理领域，具体地说涉及一种ITO刻蚀废液的处理工艺及处理设备。
技术介绍
液晶显示器现已成为技术密集、资金密集型的高新技术产业，透明导电玻璃则是LCD的三大主要材料之一。液晶显示器之所以能显示特定的图形，就是利用导电玻璃上的透明导电膜，经蚀刻制成特定形状的电极，上下导电玻璃制成液晶盒后，在这些电极上加适当电压信号，使具有偶概矩的液晶分子在电场作用下特定的方面排列，进而显示出与电极波长相对应的图形。在氧化物导电膜中，以掺Sn(锡)的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出徴细的图形，其透过率已达90％以上。在LCD生产工艺中，需要使用高温烘烤及各种酸破液的浸泡，因此产生了大量的含氧化铟锡的ITO刻蚀液废液。此类ITO刻蚀液通常为两种以上的酸混合而成，通常是硫酸、盐酸或者硝酸等，单酸含量小于7％，累计酸含量不超过20％。经过刻蚀工段后因刻蚀的铟锡，其废液中含有铟和锡离子。铟锡的含量为50ppm左右。此类废液通常采取中和处理后再经生化系统的方法无害化处理，其中的铟锡进入污泥中被浪费。目前化工行业内针对中和处理酸碱废水的工艺很多，但是针对此类ITO刻蚀废液的中和处理工艺较少，ITO刻蚀废液中的金属离子含量较大，酸的腐蚀性和总酸度很高，在中和处理过程中会放出大量的热，温度剧烈上升，很难控制反应过程中的温度及pH变化，存在一定危险性。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种能够有效地控制反应过程中的温度及pH变化的ITO刻蚀废液的处理工艺，以及可用实施该工艺的ITO刻蚀废液的处理设备。为了解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：一种ITO刻蚀废液的处理工艺，包括以下步骤：(1)向反应容器内加入液碱，然后进行稀释处理；(2)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到9～10，反应一段时间；(3)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到7～7.5，反应一段时间。进一步地，还包括步骤(4)对反应液进行过滤处理。一种ITO刻蚀废液的处理设备，包括液碱储罐、反应罐以及第一输送机构；所述液碱储罐与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第一输料管道和第二输料管道，所述反应罐与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第三输料管道和第四输料管道。进一步地，还包括上清液外排管道，所述上清液外排管道的一端插接在所述反应罐内、另一端与所述第一输送机构的进料口连通。进一步地，还包括达标水罐，所述达标水罐与所述第一输送机构的出料口之间连接有上清液输送管。进一步地，还包括沉淀外排管道，所述沉淀外排管道与所述第一输送机构的出料口连通。进一步地，还包括与第一输送机构的进料口连通的液碱进料管道。进一步地，所述第一输送机构包括两台相互并联的第一抽液泵。进一步地，还包括ITO刻蚀废液储罐以及第二输送机构，所述ITO刻蚀废液储罐与所述第二输送机构的进料口之间连接有第五输料管道，所述反应罐与所述第二输送机构的出料口之间连接有第六输料管道。进一步地，所述第二输送机构包括两台相互并联的第二抽液泵。本专利技术的有益效果为：本专利技术ITO刻蚀废液的处理工艺采取反向调节，通过在液碱中加入ITO刻蚀废液来反应，并分步加入ITO刻蚀液废液，且本专利技术先对液碱进行稀释，然后与ITO刻蚀废液进行反应，温度上升幅度减小，且温度会随着液碱浓度和ITO刻蚀废液浓度的降低而减小，不会造成温度剧烈上升，能够有效地控制反应过程中的温度及pH变化，可以很容易调节反应至pH值为7左右，安全性高。本专利技术ITO刻蚀废液的处理设备结构简单，一泵多用，节省资源，液碱储罐用于储存液碱，在处理ITO刻蚀废液时，第一输送机构提供输送动力，液碱储罐内的液碱依次经过第一输料管道、第一输送机构、第四输料管道进入反应罐内，加水稀释后，再向反应罐内加入ITO刻蚀废液进行中和处理，在加水、ITO刻蚀废液以及中和反应的过程中，反应罐内的相应物料可在第一输送机构的作用下，通过第三输料管道排出，再通过第四输料管道重新回到反应罐，实现相应物料在反应罐内循环，从而使物料能够充分混合反应，另外，当液碱储罐内的液碱有沉淀产生时，同样的，液碱也可通过第一输料管道排出，再通过第二输料管道重新回到液碱储罐，实现液碱在液碱储罐内循环，以对沉淀进行溶解。本专利技术ITO刻蚀废液的处理设备与处理工艺结合，能有效地处理LCD行业产生的ITO刻蚀废液，提高ITO刻蚀废液的处理能力，节约了处理成本，并将其中的有价金属离子铟、锡最大程度的收集起来(回收率>99％)，做成产品实现市场化，并且能够有效地控制反应过程中的温度及pH变化，降低反应的生产操作中的安全隐患。附图说明图1是本专利技术一实施例ITO刻蚀废液的处理设备的结构示意图。附图中各部件的标记为：1液碱储罐、2反应罐、3ITO刻蚀废液储罐、31IBC吨桶、41第一抽液泵、42第一旁路管、43第一旁路阀、51第二抽液泵、52第二旁路管、53第二旁路阀、61第一输料管道、62第二输料管道、63第三输料管道、64第四输料管道、65第五输料管道、66第六输料管道、661流量计、71上清液外排管道、72上清液输送管、73沉淀外排管道、74液碱进料管道、75自来水管线、81达标水罐、82储水罐、83废料罐、84快速接头、91第三抽液泵、92达标水外排管道、10过滤器、11喷头。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。参见图1。本专利技术ITO刻蚀废液的处理设备，包括液碱储罐1、反应罐2以及第一输送机构；所述液碱储罐1与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第一输料管道61和第二输料管道62，所述反应罐2与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第三输料管道63和第四输料管道64。液碱储罐用于储存液碱，在处理ITO刻蚀废液时，第一输送机构提供输送动力，液碱储罐内的液碱依次经过第一输料管道、第一输送机构、第四输料管道进入反应罐内，加水稀释后，再向反应罐内加入ITO刻蚀废液进行中和处理，在加水、ITO刻蚀废液以及中和反应的过程中，反应罐内的相应物料可在第一输送机构的作用下，通过第三输料管道排出，再通过第四输料管道重新回到反应罐，实现相应物料在反应罐内循环，从而使物料能够充分混合反应，另外，当液碱储罐内的液碱有沉淀产生时，同样的，液碱也可通过第一输料管道排出，再通过第二输料管道重新回到液碱储罐，实现液碱在液碱储罐内循环，以对沉淀进行溶解。具体实施中，第一输料管道61连接在液碱储罐1的下端，第二输料管道62连接在液碱储罐1的顶部，第三输料管道63连接在反应罐2的下端，第四输料管道64连接在反应罐2的顶部。在一实施例中，设备还包括上清液外排管道71，所述上清液外排管道71的一端插接在所述反应罐2内、另一端与所述第一输送机构的进料口连通。在反应完成后，静置一端时间，反应罐内上清液可通过第一输送机构和上清液外排管道71排出，进一步地，设备还包括达标水罐81，所述达标水罐81与所述第一输送机构的出料口之间连接有上清液输送管72，这样排出的上清液可直接通过上清液输送管打入达标水罐内，方便进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种ITO刻蚀废液的处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)向反应容器内加入液碱，然后进行稀释处理；(2)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到9～10，反应一段时间；(3)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到7～7.5，反应一段时间。

【技术特征摘要】
1.一种ITO刻蚀废液的处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)向反应容器内加入液碱，然后进行稀释处理；(2)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到9～10，反应一段时间；(3)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液，至pH值达到7～7.5，反应一段时间。2.如权利要求1所述的ITO刻蚀废液的处理工艺，其特征在于：还包括步骤(4)对反应液进行过滤处理。3.一种ITO刻蚀废液的处理设备，用于实施权利要求1或2所述的ITO刻蚀废液的处理工艺，其特征在于：包括液碱储罐(1)、反应罐(2)以及第一输送机构；所述液碱储罐(1)与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第一输料管道(61)和第二输料管道(62)，所述反应罐(2)与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第三输料管道(63)和第四输料管道(64)。4.如权利要求3所述的ITO刻蚀废液的处理设备，其特征在于：还包括上清液外排管道(71)，所述上清液外排管道(71)的一端插接在所述反应罐(2)内、另一端与所述第一输送机构的进料口连通。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪进娟，
申请(专利权)人：合肥茂腾环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34