一种射流抛光自清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及抛光机技术领域，公开了一种射流抛光自清洗装置，包括溶液存储罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流喷头、去离子水喷头、二位三通阀、清洗压力泵和去离子水存储罐；所述溶液存储罐内盛放磨料射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所述收集箱的出口通过二位三通阀与溶液存储罐连通；所述隔膜泵也与溶液存储罐连通，并通过管路连接磨料射流喷头；所述去离子水存储罐内盛放去离子水，所述清洗压力泵与去离子水存储罐连通，也通过管路连接去离子水喷头。本发明专利技术有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的问题，而且装置整体结构简单、成本低、清洗效果好且操作简便。

Jet polishing self-cleaning device

The invention relates to the field of polishing machine technology, discloses a jet polishing self cleaning device, including solution storage tank, collecting tank, diaphragm pump, pipeline, abrasive jet nozzle, deionized water nozzle, two three-way valve, pressure pump and cleaning the deionized water storage tank; the solution storage tank for abrasive jet solution collection the box is arranged above the solution storage tank; the workpiece is arranged in the collection box, and the entrance position and the collecting box corresponding to the collection box for export by the two position three-way valve and a solution storage tank; the diaphragm pump is connected with solution storage tank, and connected with the abrasive jet nozzle through pipelines; the deionized water storage the tank containing deionized water, the cleaning of the pressure pump and the deionized water storage tank, is also connected with deionized water nozzle through a pipeline. The invention effectively solves the problem that the abrasive particles are deposited on the workpiece after the experiment and affects the quality of the product, and the utility model has the advantages of simple structure, low cost, good cleaning effect and simple operation.

【技术实现步骤摘要】
一种射流抛光自清洗装置
本专利技术涉及抛光机
，更具体的说，特别涉及一种射流抛光自清洗装置。
技术介绍
随着现代光学、电子学、薄膜科学及航空航天等科学的飞速发展，光学元件及功能元件的形状越来越复杂，表面质量的要求也越来越苛刻，超光滑表面的应用也越来越高。超光滑表面除了面形精度和表面粗糙度要求极高以外,还要求表面有完好的晶格结构、无缺陷,能消除加工损伤层。1998年，荷兰Delft大学的首先利用了FJP技术，并将其用在了光学元件的表面抛光上并获得了1.6nm的表面粗糙度，显示出FJP的超光滑表面加工能力。实验表明，含有磨料颗粒的溶液射流对工件表面有去除而清水射流对工件表面无去除。现有的射流抛光机在实验或者加工后没有有效的清洗装置和工艺技术。一般在射流停止后将工件取出的过程中会造成部分磨料颗粒沉积在工件上，后期需大量的清水冲洗，即使如此仍有少量的磨料颗粒沉积于表面，影响产品质量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术存在的技术问题，提供一种射流抛光自清洗装置，有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的问题，而且装置整体结构简单、成本低、清洗效果好且操作简便。为了解决以上提出的问题，本专利技术采用的技术方案为：一种射流抛光自清洗装置，包括溶液存储罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流喷头、去离子水喷头、二位三通阀、清洗压力泵和去离子水存储罐；所述溶液存储罐内盛放磨料射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所述收集箱的出口通过二位三通阀与溶液存储罐连通；所述隔膜泵也与溶液存储罐连通，并通过管路连接磨料射流喷头；所述去离子水存储罐内盛放去离子水，所述清洗压力泵与去离子水存储罐连通，也通过管路连接去离子水喷头；所述去离子水喷头位于磨料射流喷头一侧，两者分别喷射去离子水和磨料射流溶液并作用在工件上。所述装置还包括用于收集废液的废液存储罐，其与二位三通阀的出口连接，并与去离子水存储罐、溶液存储罐并列放置。所述装置还包括控制器，其分别连接隔膜泵、清洗压力泵和二位三通阀，用于控制隔膜泵和清洗压力泵的开关、以及二位三通阀的开关的逻辑顺序。所述收集箱采用矩形透明盒PVC，其包括箱体和顶盖，顶盖安装在箱体顶部；箱体内侧底部设置有安装工件的固定台7c，顶盖中部加工有通孔作为入口7a，箱体侧面底端一侧加工有通孔作为出口7b，所述收集箱的出口7b通过二位三通阀与溶液存储罐连通。采用机架作为安装载体，其内侧采用三层分布即上层、中层和下层，上层设置有磨料射流喷头、去离子水喷头、收集箱，中层设置有二位三通阀、控制器以及清洗压力泵，下层设置溶液存储罐；所述隔膜泵、去离子水存储罐以及废液存储罐置于机架外侧。采用夹持装置用于固定磨料射流喷头和去离子水喷头。所述工件通过工件夹安装在收集箱的固定台7c上。所述磨料射流喷头位于收集箱入口的正上方。与现有技术相比，本专利技术的有益效果在于：本专利技术中通过设置溶液存储罐和去离子水存储罐，并通过磨料射流喷头和去离子水喷头分别喷射磨料射流溶液和去离子水，作用在工件表面，这样有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的技术问题，省去了后期冲洗时的繁琐步骤，节约水源，而且装置整体结构简单、成本低、清洗过程方便、效果好。附图说明图1为本专利技术射流抛光自清洗装置的结构示意图。图2为本专利技术收集箱的整体结构示意图。图3为本专利技术收集箱的局部结构示意图。附图标记说明：1-机架、2-溶液存储罐、3-隔膜泵、4-控制器、5-工件、6-工件夹、7-收集箱、7a-入口、7b-出口、7c-固定台、8-磨料射流喷头、9-夹持装置、10-第二管路、11-第一管路、12-去离子水喷头、13-二位三通阀、14-清洗压力泵、15-废液存储罐、16-去离子水存储罐具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于、限制本专利技术。参阅图1所示，本专利技术提供的一种射流抛光自清洗装置，包括溶液存储罐2、隔膜泵3、收集箱7、管路、磨料射流喷头8、去离子水喷头12、二位三通阀13、清洗压力泵14和去离子水存储罐16。本实施例中，所述管路分为第一管路11和第二管路10。所述溶液存储罐2内盛放磨料射流溶液，收集箱7设置在溶液存储罐2上方；工件5设置在收集箱7内，并与收集箱7的入口位置相对应，所述收集箱7的出口通过二位三通阀13与溶液存储罐2连通；所述隔膜泵3也与溶液存储罐2连通，并通过管路连接磨料射流喷头8，即第二管路10的两端分别连接隔膜泵3和磨料射流喷头8。本实施例中，所述磨料射流喷头8位于收集箱7入口的正上方，这样可以保证其工作的可靠性，即磨料射流喷头8可喷射磨料射流溶液到工件5的指定位置。所述去离子水存储罐16内盛放去离子水，所述清洗压力泵14与去离子水存储罐16连通，也通过管路连接去离子水喷头12，即第一管路11的两端分别连接去离子水喷头12和清洗压力泵14。本实施例中，所述去离子水喷头12位于收集箱7入口的侧上方(左上方)，即位于磨料射流喷头8的一侧，去离子水喷头12也可喷射去离子水到工件5的指定位置。上述中，还包括用于收集废液的废液存储罐15，其与二位三通阀13的出口连接，并与去离子水存储罐16、溶液存储罐2并列放置，这样方便操作，也保证整个装置工作的可靠性。上述中，还包括控制器4，所述控制器4分别连接隔膜泵3、清洗压力泵14和二位三通阀13，用于控制隔膜泵3和清洗压力泵14的开关、以及二位三通阀13的开关的逻辑顺序。上述中，所述收集箱7采用矩形透明盒PVC，其包括箱体和顶盖，顶盖安装在箱体顶部；参阅图2和图3所示，箱体内侧底部设置有安装工件5的固定台7c，顶盖中部加工有通孔作为入口7a，箱体侧面底端一侧(如左侧)加工有通孔作为出口7b，所述收集箱7的出口7b通过二位三通阀13与溶液存储罐2连通。收集箱7的结构简单、功能可靠。上述中，所述二位三通阀13为电磁阀，通过控制器4可控制电磁阀的开关；二位三通阀13的进口通道与收集箱7的出口7b连通；二位三通阀的两个出口分别与溶液存储罐2和废液存储罐15连通。上述中，采用机架1作为安装载体，其内侧采用三层分布即上层、中层和下层，上层设置有磨料射流喷头8、去离子水喷头12、收集箱7，中层设置有二位三通阀12、控制器4以及清洗压力泵14，下层设置溶液存储罐2；所述隔膜泵3、去离子水存储罐16以及废液存储罐15置于机架1外侧，这样能够方便操作。上述中，采用夹持装置9用于固定磨料射流喷头8和去离子水喷头12，这样可以保证喷头工作的可靠性和稳定性。上述中，所述工件5通过工件夹6安装在收集箱7的固定台7c上，这样防止工件5在抛光清洗时产生移位，保证整个装置的工作可靠性。本专利技术的工作原理如下：抛光时，二位三通阀13连通溶液存储罐2的阀口打开，连通废液存储罐15的阀口关闭。隔膜泵3启动，磨料射流本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种射流抛光自清洗装置，其特征在于：包括溶液存储罐(2)、隔膜泵(3)、收集箱(7)、管路、磨料射流喷头(8)、去离子水喷头(12)、二位三通阀(13)、清洗压力泵(14)和去离子水存储罐(16)；所述溶液存储罐(2)内盛放磨料射流溶液，收集箱(7)设置在溶液存储罐(2)上方；工件(5)设置在收集箱(7)内，并与收集箱(7)的入口位置相对应，所述收集箱(7)的出口通过二位三通阀(13)与溶液存储罐(2)连通；所述隔膜泵(3)也与溶液存储罐(2)连通，并通过管路连接磨料射流喷头(8)；所述去离子水存储罐(16)内盛放去离子水，所述清洗压力泵(14)与去离子水存储罐(16)连通，也通过管路连接去离子水喷头(12)；所述去离子水喷头(12)位于磨料射流喷头(8)一侧，两者分别喷射去离子水和磨料射流溶液并作用在工件(5)上。

【技术特征摘要】
1.一种射流抛光自清洗装置，其特征在于：包括溶液存储罐(2)、隔膜泵(3)、收集箱(7)、管路、磨料射流喷头(8)、去离子水喷头(12)、二位三通阀(13)、清洗压力泵(14)和去离子水存储罐(16)；所述溶液存储罐(2)内盛放磨料射流溶液，收集箱(7)设置在溶液存储罐(2)上方；工件(5)设置在收集箱(7)内，并与收集箱(7)的入口位置相对应，所述收集箱(7)的出口通过二位三通阀(13)与溶液存储罐(2)连通；所述隔膜泵(3)也与溶液存储罐(2)连通，并通过管路连接磨料射流喷头(8)；所述去离子水存储罐(16)内盛放去离子水，所述清洗压力泵(14)与去离子水存储罐(16)连通，也通过管路连接去离子水喷头(12)；所述去离子水喷头(12)位于磨料射流喷头(8)一侧，两者分别喷射去离子水和磨料射流溶液并作用在工件(5)上。2.根据权利要求1所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述装置还包括用于收集废液的废液存储罐(15)，其与二位三通阀(13)的出口连接，并与去离子水存储罐(16)、溶液存储罐(2)并列放置。3.根据权利要求1或2所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述装置还包括控制器(4)，其分别连接隔膜泵(3)、清洗压力泵(14)和二位三通阀(13)，用于控制隔膜泵(3)和清洗压...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐学锋，郭团辉，袁洋，
申请(专利权)人：北京林业大学，
类型：发明
国别省市：北京,11