表面处理工艺系统、搬运单元及其载台结构技术方案

本实用新型专利技术提供了一种表面处理工艺系统、搬运单元及其载台结构，该载台结构包括用于承载并固定面板级扇出的载台底座以及盖设于载台底座上表面的至少两个遮挡单元；相邻遮挡单元之间活动连接，通过调节遮挡单元的位置，进而改变遮挡单元对载台底座上表面的遮挡位置和遮挡面积，以使载台底座上表面非遮挡区域与面板级扇出的面积相适应。相对于现有技术，本实用新型专利技术提供的用于面板级扇出表面处理的工艺系统、搬运单元及其载台结构，实现了载台的遮挡，并可自动调节遮挡位置为遮挡面积，保证载台不会受到污染，且节省人力成本。

【技术实现步骤摘要】
表面处理工艺系统、搬运单元及其载台结构
本专利技术涉及面板级扇出工艺设备的
，具体是涉及一种用于面板级扇出表面处理的工艺系统、搬运单元及其载台结构。
技术介绍
目前的fanout工艺，而对于PanelfanoutPVD的设备，Carrier作为panel在PVD中的载体，起到承载和固定的作用。由于panel的尺寸不同，需要的更换不同尺寸的carrier。这样需要频繁的开真空腔体，然后等待抽真空到可工作区间，这样的过程可能需要几个小时甚至更长。如果不根据panel的尺寸更换carrier，在表面处理过程中就会对carrier造成污染。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种用于面板级扇出表面处理的工艺系统、搬运单元及其载台结构，以解决现有技术中由于需要根据panel的尺寸不同而不断更换不同尺寸的carrier造成的人力成本高以及工作效率低的技术问题。为解决上述问题，本专利技术实施例提供了一种用于面板级扇出表面处理工艺过程的载台结构，所述载台结构包括用于承载并固定面板级扇出的载台底座以及盖设于所述载台底座上表面的至少两个遮挡单元；相邻遮挡单元之间活动连接，通过调节所述遮挡单元的位置，进而改变所述遮挡单元对所述载台底座上表面的遮挡位置和遮挡面积，以使所述载台底座上表面非遮挡区域与面板级扇出的面积相适应。根据本技术一优选实施例，每一所述遮挡单元均包括一支撑杆以及与所述支撑杆连接的遮挡板，相邻支撑杆之间活动连接，通过调节所述支撑杆的位置，带动所述遮挡板延展或者收缩，以实现对所述载台底座上表面的遮挡位置和/或遮挡面积的变化。根据本技术一优选实施例，所述遮挡单元的数量为两个，两遮挡单元的支撑杆之间以及支撑杆与载台底座上相邻固定杆之间通过滑动轨道连接。根据本技术一优选实施例，所述遮挡单元的数量为三个，相邻遮挡单元的支撑杆之间以及支撑杆与载台底座上相邻固定杆之间通过滑动轨道连接。根据本技术一优选实施例，所述遮挡单元的数量为四个，相邻遮挡单元的支撑杆之间通过滑动轨道连接。根据本技术一优选实施例，所述遮挡板为软质材料制成，在收缩状态时，卷设在所述支撑杆上或者卷设在所述载台底座侧边的转轴上。根据本技术一优选实施例，所述载台结构还包括驱动电机，所述驱动电机用于带动所述支撑杆移动。根据本技术一优选实施例，所述载台底座上表面设有多个安装孔，所述安装孔用于通过与固定件配合实现对面板级扇出的固定安装。为解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供一种用于面板级扇出表面处理工艺过程中的搬运单元，所述搬运单元包括传输机构以及上述实施例中任一项所述的载台结构，所述载台结构用于承载并固定面板级扇出，所述传输机构用于在不同工位之间转移所述载台结构。为解决上述技术问题，本专利技术实施例进一步提供一种用于面板级扇出表面处理的工艺系统，所述工艺系统包括上述实施例中所述的搬运单元，所述搬运单元用于对面板级扇出进行承载、固定以及转移。相对于现有技术，本专利技术提供的用于面板级扇出表面处理的工艺系统、搬运单元及其载台结构，实现了载台的遮挡，并可自动调节遮挡位置为遮挡面积，保证载台不会受到污染，且节省人力成本。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术用于面板级扇出表面处理的工艺系统一实施例的组成结构框图；图2是本专利技术实施例中载台结构第一实施例的结构俯视图；图3是图2实施例中载台结构的另一工作状态的结构俯视图；图4是本专利技术实施例中载台结构第二实施例的结构俯视图；图5是图4实施例中载台结构的另一工作状态的结构俯视图；图6是本专利技术物理气相沉积室第一实施例的腔室结构俯视剖视图；图7是图6实施例中腔室结构另一状态的俯视剖视图；图8是图6实施例中腔室结构的侧视图；图9是本专利技术物理气相沉积室第二实施例的腔室结构俯视剖视图；图10是图9实施例中腔室结构另一状态的俯视剖视图；以及图11是图1实施例中搬运装置的结构示意简图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施例仅用于说明本专利技术，但不对本专利技术的范围进行限定。同样的，以下实施例仅为本专利技术的部分实施例而非全部实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，图1是本专利技术用于面板级扇出表面处理的工艺系统一实施例的组成结构框图，该工艺系统包括但不限于以下结构单元：脱气塔100、装卸载单元200、载台300、搬运装置400、射频蚀刻室500以及物理气相沉积室600。具体而言，载台300用于承载并固定面板级扇出，载台300与搬运装置400共同构成面板级扇出表面处理工艺过程中的搬运单元，该搬运装置400用于在装卸载单元200、射频蚀刻室500以及物理气相沉积室600之间搬运载台300。需要说明的是，本专利技术实施例中的工艺系统优选用于矩形结构的面板级扇出。请一并参阅图2和图3，图2是本专利技术实施例中载台结构第一实施例的结构俯视图，图3是图2实施例中载台结构的另一工作状态的结构俯视图；在进行射频蚀刻以及物理气相沉积等表面处理工艺中，面板级扇出固定在载台300上，为了使没有被面板级扇出覆盖的载台表面在表面处理过程中不受污染，本专利技术实施例中的载台300设置遮挡结构，用以遮挡载台300上表面，避免在溅射等表面处理过程中载台表面被溅射上金属材料，造成载台表面污染，进而使面板级扇出的背面受到污染，另外，由于载台表面存在溅射层，会使载台表面不平，或者说存在高度差，进而无法与面板级扇出的背面紧密贴合，影响面板级扇出的安装及表面处理效果。该实施例中的载台300包括用于承载并固定面板级扇出的载台底座310以及盖设于载台底座310上表面的三个遮挡单元320。进一步地，由于需要进行表面处理的面板级扇出尺寸不同，且每次安装在载台300上的位置也可能不同，因此本专利技术实施例中的遮挡单元320还可设计成遮挡位置及遮挡面积可调的结构，以使载台底座310上表面非遮挡区域的面积与面板级扇出的面积相适应，使载台底座310上表面完全被覆盖的状态，即：要么被面板级扇出覆盖，要么被遮挡单元320覆盖，保证载台底座310上表面在表面处理过程中不会被污染。每一遮挡单元320均可以包括一支撑杆321以及与支撑杆321连接的遮挡板322，相邻支撑杆321之间活动连接，通过调节支撑杆321的位置，带动遮挡板322延展或者收缩，以实现对载台底座310上表面的遮挡位置和遮挡面积的变化，或者说遮挡位置与遮挡面积中的一者发生变化。其中，该遮挡板322可为软质材料制成，譬如塑料、尼龙布料等等，以使遮挡板322在收缩状态时，可以卷设在支撑杆321上或者卷设在载台底座310侧边的其他转轴结构上。这样的结构相对于直板结构的遮挡板来讲，可以节省空间，且重量会更小。在本实施例中，遮挡单元320的数量为三个，由于本专利技术实施例中的载台300主要用于矩形结构的扇出，因此遮挡单元320留出的载台上表面也为矩形，预留矩形的未遮挡区域还有一个不动的边，本实施例中在载台底座310的边沿位置处还可以设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于面板级扇出表面处理工艺过程的载台结构，其特征在于，所述载台结构包括用于承载并固定面板级扇出的载台底座以及盖设于所述载台底座上表面的至少两个遮挡单元；相邻遮挡单元之间活动连接，通过调节所述遮挡单元的位置，进而改变所述遮挡单元对所述载台底座上表面的遮挡位置和遮挡面积，以使所述载台底座上表面非遮挡区域与面板级扇出的面积相适应。

【技术特征摘要】
1.一种用于面板级扇出表面处理工艺过程的载台结构，其特征在于，所述载台结构包括用于承载并固定面板级扇出的载台底座以及盖设于所述载台底座上表面的至少两个遮挡单元；相邻遮挡单元之间活动连接，通过调节所述遮挡单元的位置，进而改变所述遮挡单元对所述载台底座上表面的遮挡位置和遮挡面积，以使所述载台底座上表面非遮挡区域与面板级扇出的面积相适应。2.根据权利要求1所述的载台结构，其特征在于，每一所述遮挡单元均包括一支撑杆以及与所述支撑杆连接的遮挡板，相邻支撑杆之间活动连接，通过调节所述支撑杆的位置，带动所述遮挡板延展或者收缩，以实现对所述载台底座上表面的遮挡位置和/或遮挡面积的变化。3.根据权利要求2所述的载台结构，其特征在于，所述遮挡单元的数量为两个，两遮挡单元的支撑杆之间以及支撑杆与载台底座上相邻固定杆之间通过滑动轨道连接。4.根据权利要求2所述的载台结构，其特征在于，所述遮挡单元的数量为三个，相邻遮挡单元的支撑杆之间以及支撑杆与载台底座上相邻固定杆之间通过滑动轨道连接。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁万春，
申请(专利权)人：通富微电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32