气体阻隔性层叠膜和波长变换片制造技术

本实用新型专利技术提供气体阻隔性层叠膜和波长变换片。上述气体阻隔性层叠膜具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、第1无机薄膜层和第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、第2无机薄膜层和第2气体阻隔性被覆层，其中，第1阻隔膜和第2阻隔膜处于以第1气体阻隔性被覆层与第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态，第1无机薄膜层与第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。

【技术实现步骤摘要】
气体阻隔性层叠膜和波长变换片
本技术涉及气体阻隔性层叠膜和波长变换片。
技术介绍
在液晶显示器的背光单元和电致发光发光单元等发光单元中，通过发光体或荧光体与氧或水蒸气接触而经过长时间，有时作为发光体或荧光体的性能降低。因此，这些发光单元中，常常使用具有在高分子膜中形成了具有气体阻隔性的阻隔层而成的结构的气体阻隔性层叠膜作为发光体或荧光体等的包装材料或保护材料。例如，国际公开第2002/083408号中公开了：作为用作食品等的包装材料的气体阻隔性层叠膜，在基材上层叠了第1蒸镀薄膜层、气体阻隔性中间层和第2蒸镀薄膜层的层叠体。该层叠体通过具有2个蒸镀薄膜层夹持气体阻隔性中间层而层叠成的结构，从而实现了良好的气体阻隔性。
技术实现思路
对于作为发光体或荧光体等的包装材料或保护材料使用的气体阻隔性层叠膜，不仅要求气体阻隔性，而且要求高透明性。更具体地说，对于气体阻隔性层叠膜，要求对波长为450nm附近的青色光、波长为550nm附近的绿色光和波长为650nm附近的红色光具有高透射率，特别是作为波长变换片的保护材料使用的情况下，由于主要使用青色LED作为进行波长变换的光的光源，因此要求对于青色LED的峰值波长即波长为450nm具有高透射率。对于这样的要求，就上述国际公开第2002/083408号中记载的层叠体而言，未必充分地获得了特别是对波长为450nm的光的高透射率。本技术鉴于上述现有技术所具有的课题而完成的，其目的在于提供能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率、特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率的气体阻隔性层叠膜和使用了该层叠膜的波长变换片。本技术的专利技术者们为了实现上述目的反复进行深入了研究，结果专利技术者们发现：就上述国际公开第2002/083408号中所记载的层叠体而言，在由金属、无机氧化物等形成的2个蒸镀薄膜层之间发生光学上的薄膜干涉，由此可见光区域的短波长侧即波长为450nm的青色光的透射率降低。而且，专利技术者们发现：通过在特定的层构成中控制2个薄膜层间的距离，同时控制设置在该薄膜层间的层的折射率，从而能够使2个薄膜层间的光学上的薄膜干涉减轻。即，本技术提供一种气体阻隔性层叠膜，其具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层，其中，上述第1阻隔膜和上述第2阻隔膜处于以上述第1气体阻隔性被覆层与上述第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由(隔着)粘接层层叠而成的状态，上述第1无机薄膜层与上述第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。在上述气体阻隔性层叠膜中，优选上述第1气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差以及上述第2气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差都为0.05以下。上述气体阻隔性层叠膜通过具有在基材上形成了无机薄膜层和气体阻隔性被覆层而成的2张阻隔膜(第1和第2阻隔膜)经由粘接层贴合而得到的结构，同时使2个无机薄膜层间的距离为1.0μm以上，并且使配置在2个无机薄膜层间的2个气体阻隔性被覆层与粘接层的折射率差为0.05以下，从而能够减轻2个无机薄膜层间的光学上的薄膜干涉，其结果是，能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率，特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率。另外，通过使2个无机薄膜层间的距离为1.0μm以上，即使在粘接层、第1和第2气体阻隔性被覆层的厚度产生了波动的情况下，也能够抑制对波长为450nm的青色光的透射率的波动的产生，对波长为450nm的青色光能够稳定地获得高的透射率。另外，上述气体阻隔性层叠膜通过具有将2张阻隔膜层叠而成的结构，从而能够获得优异的气体阻隔性(水蒸气阻隔性和氧阻隔性)。上述气体阻隔性层叠膜中，优选上述第1无机薄膜层与上述第2无机薄膜层之间的距离为20μm以下。通过使距离为20μm以下，能够抑制粘接层变厚而使水蒸气和氧容易从粘接层端部侵入，能够确保气体阻隔性层叠膜的优异的气体阻隔性。另外，通过使距离为20μm以下，能够抑制材料成本。本技术还提供一种波长变换片，其具有含荧光体的荧光体层和上述本技术的气体阻隔性层叠膜。该波长变换片由于具有本技术的气体阻隔性层叠膜，因此能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率，特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率。根据本技术，能够提供能够获得对波长为450nm、550nm和650nm的光的高透射率、特别是对波长为450nm的青色光能够获得高透射率的气体阻隔性层叠膜和使用了该层叠膜的波长变换片。附图说明图1为表示本技术的气体阻隔性层叠膜的一个实施方式的截面示意图。图2为表示本技术的波长变换片的一个实施方式的截面示意图。图3为表示使用了本技术的波长变换片的背光单元的一个实施方式的截面示意图。附图标记的说明1第1阻隔膜、2第2阻隔膜、4粘接层、5消光层、7荧光体层、8荧光体、9密封树脂、11第1基材、13第1无机薄膜层、14第1气体阻隔性被覆层、15第1阻隔层、21第2基材、23第2无机薄膜层、24第2气体阻隔性被覆层、25第2阻隔层、30LED光源、40导光板、100气体阻隔性层叠膜、200波长变换片、500背光单元具体实施方式以下参照附图对本技术的优选的实施方式详细地说明。需要说明的是，附图中，对同一或相当部分标注同一附图标记，省略重复的说明。另外，附图的尺寸比率并不限于图示的比率。[气体阻隔性层叠膜]本实施方式的气体阻隔性层叠膜至少具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层；以及将上述第1阻隔膜与上述第2阻隔膜贴合的粘接层。其中，上述第1阻隔膜和上述第2阻隔膜处于以上述第1气体阻隔性被覆层与上述第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由上述粘接层层叠而成的状态。另外，上述第1无机薄膜层与上述第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上，上述第1气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差以及上述第2气体阻隔性被覆层与上述粘接层的折射率差都为0.05以下。本实施方式的气体阻隔性层叠膜在第1阻隔膜或第2阻隔膜上可还具有消光层。图1为表示本技术的气体阻隔性层叠膜的一个实施方式的截面示意图。图1中所示的气体阻隔性层叠膜100具有：第1阻隔膜1、第2阻隔膜2、将第1阻隔膜1和第2阻隔膜2贴合的粘接层4、以及形成在第2阻隔膜2上的消光层5。其中，第1阻隔膜1具有第1基材11以及包括第1无机薄膜层13和第1气体阻隔性被覆层14的第1阻隔层15。与其同样地，第2阻隔膜2具有第2基材21以及包括第2无机薄膜层23和第2气体阻隔性被覆层24的第2阻隔层25。第1阻隔膜1和第2阻隔膜2处于以第1气体阻隔性被覆层14与第2气体阻隔性被覆层24相对置的方式经由粘接层4层叠而成的状态。消光层5被设置在第2阻隔膜2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体阻隔性层叠膜，其具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层，其中，所述第1阻隔膜和所述第2阻隔膜处于以所述第1气体阻隔性被覆层与所述第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态，所述第1无机薄膜层与所述第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。

【技术特征摘要】
2015.11.20 JP 2015-2277181.一种气体阻隔性层叠膜，其具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层，其中，所述第1阻隔膜和所述第2阻隔膜处于以所述第1气体阻隔性被覆层与所述第2气体阻隔性被覆层相...

【专利技术属性】
技术研发人员：村田光司，正田亮，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP