一种用于退银工艺的挡电流支架制造技术
【技术实现步骤摘要】
一种用于退银工艺的挡电流支架
本技术涉及退银工艺
，特别是涉及一种用于退银工艺的挡电流支架。
技术介绍
电镀工艺之中需要设计一个退银槽，先对铜排进行退银处理，为了加快退银液的反应速度，在退银槽两侧需要通电，电流通过液体直接与铜排接触会造成反应速度变慢，解决这一问题，设计一种避免电流直接与铜排接触的结构是有必要的。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种用于退银工艺的挡电流支架，具有结构简单、制造成本低、安装方便、能够有效的避免铜排与电流直接接触等特点。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种用于退银工艺的挡电流支架，包括固定支架、竖直支杆和挡电流支架，所述的固定支架共有两根，呈纵向并排布置，所述的固定支架上对称布置有两个安装槽，所述的安装槽内竖直安装有沿安装槽滑动的竖直支杆，位于固定支架同一端的两根竖直支杆下端之间横向安装有挡电流支架，两个挡电流支架之间安装有产品，所述的挡电流支架靠近产品一侧布置有挡电流凹槽。所述的产品处于悬空状态，其周围布置有电镀液。所述的固定支架下侧两端上对称布置有固定槽。所述的竖直支杆上端采用螺纹头且穿过固定支架，所述的竖直支杆的螺纹头上安装有调节环。有益效果：本技术涉及一种用于退银工艺的挡电流支架，通过布置安装槽，使得挡电流支架能够随着竖直支杆移动而滑动，控制两个挡电流支架之间的距离，适用不同宽度的产品，通过安装挡电流支架，避免电流直接与铜排接触，具有结构简单、制造成本低、安装方便、能够有效的避免铜排与电流直接接触等特点。附图说明图1是本技术的俯视图；图2是本技术所述的固定支架的主视图；图3是本技术所述的挡电流...
【技术保护点】
一种用于退银工艺的挡电流支架，包括固定支架(1)、竖直支杆(3)和挡电流支架(4)，其特征在于：所述的固定支架(1)共有两根，呈纵向并排布置，所述的固定支架(1)上对称布置有两个安装槽(2)，所述的安装槽(2)内竖直安装有沿安装槽(2)滑动的竖直支杆(3)，位于固定支架(1)同一端的两根竖直支杆(3)下端之间横向安装有挡电流支架(4)，两个挡电流支架(4)之间安装有产品(5)，所述的挡电流支架(4)靠近产品(5)一侧布置有挡电流凹槽(7)。
【技术特征摘要】
1.一种用于退银工艺的挡电流支架，包括固定支架(1)、竖直支杆(3)和挡电流支架(4)，其特征在于：所述的固定支架(1)共有两根，呈纵向并排布置，所述的固定支架(1)上对称布置有两个安装槽(2)，所述的安装槽(2)内竖直安装有沿安装槽(2)滑动的竖直支杆(3)，位于固定支架(1)同一端的两根竖直支杆(3)下端之间横向安装有挡电流支架(4)，两个挡电流支架(4)之间安装有产品(5)，所述的挡电流支架(4)靠近产品(5)一侧...
【专利技术属性】
技术研发人员：单仁昌，
申请(专利权)人：宁波埃斯科光电有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33
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