基板移送装置及包含其的基板处理系统制造方法及图纸

技术编号:15655208 阅读:32 留言:0更新日期:2017-06-17 13:18
本实用新型专利技术涉及一种基板移送装置及包含其的基板处理系统,对药液涂覆工艺得到处理的基板进行移送的基板移送装置包括:悬浮单元,其使基板以相对于水平面倾斜的形式悬浮;移送部件,其对通过悬浮单元而以相对于水平面倾斜的形式倾斜的基板的一侧边进行支撑,并且对基板进行移送,本实用新型专利技术可获得的有利的效果在于,因为倾斜的基板通过移送部件被移送,所以扩大基板的使用区域(药液涂覆区域),并简化结构及处理工艺。

【技术实现步骤摘要】
基板移送装置及包含其的基板处理系统
本技术涉及一种基板移送装置及包含其的基板处理系统,更为具体地涉及一种基板移送装置及包含其的基板处理系统,所述基板移送装置可以使在基板上均匀地涂覆药液的区域(activearea)得到扩大,并且可以简化结构及处理工艺。
技术介绍
在制造LCD等平板显示器的工艺中伴随一种将抗蚀剂液体等药液涂覆于由玻璃等制作而成的被处理基板的表面的涂层(coating)工艺。在LCD的尺寸较小的现有技术中使用了旋转(spin)涂层方法,所述旋转涂层方法在将药液涂覆于被处理基板的中央部的同时,通过使被处理基板旋转从而将药液涂覆于被处理基板的表面。但是,随着LCD画面的尺寸大型化,旋转涂层方式几乎不被使用,并且正使用如下方式的涂层方法:使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝(slit)形态的狭缝喷嘴与被处理基板以相对的形式进行移动,同时从狭缝喷嘴将药液涂覆于被处理基板的表面。最近,作为一种在规定的时间内将药液涂层于更多数量的被处理基板的表面的方法的部分,在日本公开专利公报第2005-243670号公开一种如下形式的技术:设置有悬浮平台,所述悬浮平台通过沿着基板得到搬入并涂覆且搬出的方向喷出空气从而使基板悬浮,在其两侧设置有形成为吸附垫等的基板排出装置,通过停止状态的狭缝喷嘴将药液供给于连续被供给的被处理基板的表面从而进行涂层。但是,存在的问题在于,在现有的悬浮式基板涂层器(coater)装置中,随着基板的边缘以吸附于吸附垫的状态被移送的同时实现药液的涂覆和干燥,由此,吸附垫在基板上所吸附的吸附区域和暴露于空气中的非吸附区域间产生温度偏差,因为所述温度偏差,药液以不均匀的形式被干燥,同时产生斑痕。另外,存在的问题在于,在现有技术中,因为在基板的边缘必然设置有用于吸附吸附垫的吸附区域(non-activearea),所以很难用于对基板的整个表面进行药液涂覆,因而收率较低,制造成本增加。而且,存在的问题在于,在现有技术中,因为需要设置有用于使得基板以真空的形式吸附固定于吸附垫的另外的真空吸附装置,且需要通过复杂的控制工艺实现基板的吸附,所以结构及处理工艺较复杂且繁琐。因此,最近,能够使得基板的使用区域(涂覆药液区域)扩大,且用于简化结构及处理工艺的多种研究正在进行,但是仍存在不足,因此需要对其的开发。
技术实现思路
本技术的目的在于,提供一种基板移送装置及包含其的基板处理系统,所述基板移送装置可以使基板的使用区域(药液涂覆区域)扩大,并且可以简化结构及处理工艺。尤其,本技术的目的在于,能够用于对基板的整个表面进行药液涂覆。另外,本技术的目的在于,在没有如同真空吸附装置的较复杂的设备的情况下,利用基板的自重来对基板进行移送。另外,本技术的目的在于,在对涂覆于基板的药液进行加热干燥的过程中,能够抑制温度偏差,对涂覆于基板的药液均匀地进行热干燥,从而可抑制斑痕的产生。另外,本技术的目的在于,能够缩短基板的处理时间,提高收率。另外,本技术的目的在于,在药液的涂覆工艺时能够使基板水平地被移送,在药液的干燥工艺时能够使基板以倾斜的状态被移送,从而能够保障药液的涂覆均匀性,同时简化结构及处理工艺。另外,本技术的目的在于,能够缩短基板的处理时间,提高收率。根据用于达到所述本技术的目的的本技术的优选的第一实施例,对药液涂覆工艺得到处理的基板进行移送的基板移送装置包括:悬浮单元,其使基板以相对于水平面倾斜的形式悬浮;移送部件,其对通过悬浮单元而以相对于水平面倾斜的形式倾斜的基板的一侧边进行支撑,并对基板进行移送。这是为了在对被处理基板进行移送时,在没有类似于真空吸附装置的较复杂的设备的情况下,利用基板的自重来对基板进行移送,据此可防止基板的温度偏差,并用于对基板的整个表面进行药液涂覆。最重要的,本技术可以获得的有利效果在于,倾斜的基板的荷重作用于移送部件,通过由基板的荷重引起的摩擦力,而基板通过移送部件被移送,据此在没类似于真空吸附装置的较复杂的设备的情况下,利用基板的自重来对基板进行移送。另外,可以获得的有利效果在于,因为在本技术中没有必要与现有技术一样将吸附垫吸附于基板的边缘,所以不存在吸附垫在基板上所吸附的吸附区域和暴露于空气中的非吸附区域间产生温度偏差的顾虑,并且不会产生由于基板的温度偏差而导致的斑痕。因此,可以获得的有利的效果在于,由于能够用于对基板的整个表面进行药液涂覆,因而提高收率并节省制造费用。并且,在本技术中可获得的有利效果在于,由于利用基板的荷重来将基板约束于移送部件(利用摩擦力来约束相对移动),换句话说,由于不经过复杂的控制工艺(例如,真空压力调节工艺),并通过将基板的一侧边支撑于移送部件便可以约束移送部件和基板,因此,简化结构及处理工艺。优选地,悬浮单元包括配置于基板的下部的超声波产生部(例如,通过超声波来得到加振的振动板),基板通过由超声波产生部而产生的振动能量而得到悬浮。如此,可获得的有利效果在于,基板通过由超声波产生部而产生的振动能量而悬浮,据此,可精确地控制基板的悬浮力,并且在搬送基板的期间使得由于外部接触而引起的损伤及变形最小化。尤其是,利用超声波产生部的悬浮方式可获得的有利效果在于,由于在基板的整体上可形成均匀的悬浮力,所以在从喷嘴单元涂覆药液的涂覆区域中,可更为精准地控制及保持对于喷嘴单元的基板的配置高度。根据情况的不同,作为悬浮单元也可使用气体喷射部,所述气体喷射部喷射气体从而使基板悬浮。更为优选地,悬浮单元包括多个振动板,所述多个振动板以相对于水平面倾斜的形式配置,且沿着基板的移送路径间隔地配置。尤其是,垂直于基板被移送的方向的振动板的第一宽度(竖直方向宽度)以比垂直于基板被移送的方向的基板的第二宽度(竖直方向宽度)宽的形式形成,基板的第二宽度位于振动板的第一宽度的区域内。如此,可获得的有利效果在于,由于以比基板的第二宽度宽的形式形成振动板的第一宽度,因此更为均匀地调节通过振动板而作用于基板的振动能量,并更为精准地调节基板的悬浮力。换句话说,如果振动板以一定以上的较大的尺寸(例如,大于基板的面积)形成,则很难在整个振动板上均匀地保持振动能量,由此很难精准地调节基板的悬浮力。反之,如果振动板以较小的尺寸形成,则有利于在整个振动板上均匀地保持振动能量,但存在的问题在于,很难使各个振动板的振动条件相互完美地保持一致,因而在基板通过各个振动板之间的缝隙时,因各个振动板的振动偏差会产生微小的晃动(terminaleffect)。据此,在本技术中可获得的有利效果在于,垂直于基板被移送的方向的振动板的第一宽度(竖直方向宽度)以比垂直于基板被移送的方向的基板的第二宽度(竖直方向宽度)宽的形式形成,且沿着基板被移送的方向以横向间隔的形式配置振动板,据此在基板被移送的期间,沿着基板的第二宽度方向,只有由一个振动板产生的振动能量作用于基板,因而,可均匀地调节作用于基板的振动能量,并精准地控制基板的悬浮高度。此处,通过悬浮单元而产生的基板的倾斜角度可自由地设定在能够防止药液向下流的范围内。具体地,在基板上可涂覆具有1000cP(centi-poise)以上的高粘度特性的药液,并且在使用高粘度(1000cP)的药液的条件下,基本文档来自技高网
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基板移送装置及包含其的基板处理系统

【技术保护点】
一种基板移送装置,其对药液涂覆工艺得到处理的基板进行移送,其特征在于,包括:悬浮单元,其使基板以相对于水平面倾斜的形式悬浮;移送部件,其对通过所述悬浮单元而以相对于水平面倾斜的形式倾斜的所述基板的一侧边进行支撑,并对所述基板进行移送。

【技术特征摘要】
2016.07.25 KR 10-2016-0094445;2016.08.01 KR 10-2011.一种基板移送装置,其对药液涂覆工艺得到处理的基板进行移送,其特征在于,包括:悬浮单元,其使基板以相对于水平面倾斜的形式悬浮;移送部件,其对通过所述悬浮单元而以相对于水平面倾斜的形式倾斜的所述基板的一侧边进行支撑,并对所述基板进行移送。2.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,所述基板以沿着所述基板的行进方向的一侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式倾斜,所述移送部件接触于所述基板的一侧边。3.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,所述基板的荷重作用于所述移送部件,通过由所述基板的荷重引起的摩擦力,所述基板通过所述移送部件被移送。4.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,所述悬浮单元利用由超声波而产生的振动能量使所述基板悬浮。5.根据权利要求4所述的基板移送装置,其特征在于,所述悬浮单元包括多个振动板,所述多个振动板以相对于水平面倾斜的形式配置,且沿着所述基板的移送路径间隔地配置,所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。6.根据权利要求5所述的基板移送装置,其特征在于,垂直于所述基板被移送的方向的所述振动板的第一宽度以比垂直于所述基板被移送的方向的所述基板的第二宽度宽的形式形成,所述基板的所述第二宽度位于所述振动板的所述第一宽度的区域内。7.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,还包括:支撑部件,其在所述移送部件延长,且对沿着所述基板的移送方向的所述基板的后端进行支撑。8.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,涂覆于所述基板的药液的粘度为1000cP以上。9.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,在倾斜的所述基板通过所述移送部件被移送期间,药液被涂覆于所述基板的表面。10.根据权利要求1所述的基板移送装置,其特征在于,在倾斜的所述基板通过所述移送部件被移送期间,所述基板被加热,并且涂覆于所述基板的药液被干燥。11.一种基板处理系统,其对针对被处理基板的药液涂覆工艺进行处理,其特征在于,包括:基板移送部,其将基板以相对于水平面倾斜地悬浮的状态进行移送;药液涂覆单元,其将药液涂覆于所述基板的表面;加热干燥单元,其对所述基板进行加热,从而使所述药液干燥。12.根据权利要求11所述的基板处理系统,其特征在于,所述药液涂覆单元以与倾斜的所述基板对应的形式相对于水平面倾斜地配置。13.根据权利要求11所述的基板处理系统,其特征在于,所述加热干燥单元以与倾斜的所述基板对应的形式相对于水平面倾斜地配置。14.根据权利要求11所述的基板处理系统,其特征在于,在所述基板经过所述药液涂覆单元和所述加热干燥单元期间,所述基板持续保持倾斜的状态。15.根据权利要求11所述的基板处理系统,其特征在于,所述基板移送部包括:悬浮单元,其使基板以相对于水平面倾斜的形式悬浮;移送部件,其对通过所述悬浮单元而以相对于水平面倾斜的形式倾斜的所述基板的一侧边进行支撑,并对所述基板进行移送。16.根据权利要求15所述的基板处理系统,其特征在于,所述基板以沿着所述基板的行进方向的一侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式倾斜,所述移送部件接触于所述基板的一侧边,且所述基板的荷重作用于所述移送部件,通过由所述基板的荷重引起的摩擦力,所述基板通过所述移送部件被移送。17.根据权利要求15所述的基板处理系统,其特征在于,所述悬浮单元利用由超声波产生的振动能量使所述基板悬浮。18.根据权利要求17所述的基板处理系统,其特征在于,所述悬浮单元包括多个振动板,所述多个振动板以相对于水平面倾斜的形式配置,且沿着所述基板的移送路径间隔地配置,所述基板以平行于所述振动板的形式悬浮。19.根据权利要求18所述的基板处理系统,其特征在于,垂直于所述基板被移送的方向的所述振动板的第一宽度以比垂直于所述基板被移送的方向的所述基板的第二宽度宽的形式形成,所述基板的所述第二宽度位于所述振动板的所述第一宽度的区域内。20.根据权利要求15所述的基板处理系统,其特征在于,还包括:支撑部件,其在所述移送部件延长,且对沿着所述基板的移送方向的所述基板的后端进行支撑。21.根据权利要求11所述的基板处理系统,其特征在于,涂覆于所述基板的所述药液的粘度为1000cP以上。22.根据权利要求11所述的基板处理系统,其特征在于,所述加热干燥单元包括:第一加热部,其以第一温度范围对涂覆有药液的基板进行加热,从而对涂覆于所述基板的药液进行干燥;第二加热部,其以和第一温度范围不同的第二温度范围对经过所述第一加热部的所述基板进行加热。23.根据权利要求22所述的基板处理系统,其特征在于,还包括:隔断部,其隔断所述第一加热部和所述第二加热部间的相互热传递。24.一种基板移送装置,其对药液涂覆工艺得到处理的基板进行移送,其特征在于,包括:第一悬浮单元,其使基板以相对于水平面水平的形式悬浮;第一移送部件,其对通过所述第一悬浮单元而以相对于水平面水平的形式悬浮的所述基板进行移送;第二悬浮单元,其使所述基板以相对于水平面倾斜的形式悬浮;第二移送部件,其对通过所述第二悬浮单元而以相对于水平面倾斜的形式倾斜的所述基板的一侧边进行支撑,并对所述基板进行移送。25.根据权利要求24所述的基板移送装置,其特征在于,所述基板通过所述第二悬浮单元以沿着所述基板的行进方向的一侧边为中心以相对于水平面倾斜的形式倾斜,所述第二移送部件接触于所述基板的一侧边。26.根据权利要求24所述的基板移送装置,其特征在于,所述基板的荷重作用于所述第二移送部件,通过由所述基板的荷重引起的摩擦力,所述基板通过所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜信载李气雨林钟逸
申请(专利权)人:KC科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:韩国,KR

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