曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于深度的曝光控制方法。曝光控制方法包括：处理场景数据以获得缓存主图像的前景部分；根据前景部分的亮度信息确定参考曝光量；根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量；和根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置曝光。此外，本发明专利技术还公开了一种曝光控制装置及电子装置。本发明专利技术的曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置利用深度信息确定前景部分作为图像的主体，根据主体部分的亮度信息确定参考曝光量并且根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置曝光以获得多个图像，从而可以通过图像处理的方法获得主体清晰和动态范围合理的宽动态范围图像。

【技术实现步骤摘要】
曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置
本专利技术涉及成像技术，特别涉及一种曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置。
技术介绍
宽动态范围图像的获得方式中，欠曝图像和过曝图像的曝光时间一般是固定的，若欠曝图像和过曝图像的曝光时间不正确容易导致宽动态范围图像的质量变差。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术实施方式提供了一种曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置。一种基于深度的曝光控制方法，用于控制成像装置采集场景数据，所述场景数据包括缓存主图像，所述曝光控制方法包括以下步骤：处理所述场景数据以获得所述缓存主图像的前景部分；根据所述前景部分的亮度信息确定参考曝光量；根据所述参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，所述暗帧曝光量小于所述参考曝光量，所述亮帧曝光量大于所述参考曝光量；和根据所述参考曝光量、所述暗帧曝光量和所述亮帧曝光量控制所述成像装置曝光。一种基于深度的曝光控制装置，用于控制成像装置采集场景数据，所述场景数据包括缓存主图像，所述曝光控制装置包括处理模块、第一确定模块、第二确定模块和控制模块。所述处理模块用于处理所述场景数据以获得所述缓存主图像的前景部分。所述第一确定模块用于根据所述前景部分的亮度信息确定参考曝光量。所述第二确定模块用于根据所述参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，所述暗帧曝光量小于所述参考曝光量，所述亮帧曝光量大于所述参考曝光量。所述控制模块用于根据所述参考曝光量、所述暗帧曝光量和所述亮帧曝光量控制所述成像装置曝光。一种电子装置包括成像装置和所述曝光控制装置。本专利技术实施方式的曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置利用深度信息确定前景部分作为图像的主体，根据主体部分的亮度信息确定参考曝光量并且根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置曝光以获得多个图像，从而可以通过图像处理的方法获得主体清晰和动态范围合理的宽动态范围图像。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本专利技术实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图2是本专利技术实施方式的电子装置的平面示意图。图3是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图4是本专利技术某些实施方式的曝光控制装置的处理模块的功能模块示意图。图5是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图6是本专利技术某些实施方式的处理单元的功能模块示意图。图7是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图8是本专利技术某些实施方式的处理单元的另一个功能模块示意图。图9是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图10是本专利技术某些实施方式的第一获取单元的功能模块示意图。图11是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图12是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图13是本专利技术某些实施方式的曝光控制装置的功能模块示意图。图14是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图15是本专利技术某些实施方式的第二确定模块的功能模块示意图。图16是本专利技术某些实施方式的曝光控制方法的流程示意图。图17是本专利技术某些实施方式的曝光控制装置的另一个功能模块示意图。主要元件符号说明：电子装置100、曝光控制装置10、处理模块11、处理单元112、第一处理子单元1122、第二处理子单元1124、第三处理子单元1126、第四处理子单元1128、第一获取单元114、第五处理子单元1142、寻找子单元1144、第一确定模块12、第二确定模块13、第二获取单元132、第三获取单元134、确定单元136、控制模块14、第三确定模块15、第四确定模块16、第五确定模块17、调整模块18、成像装置20。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施方式，所述实施方式的实施方式在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。请一并参阅图1和图2，本专利技术实施方式的基于深度的曝光控制方法可以用于控制成像装置20采集场景数据。场景数据包括缓存主图像。曝光控制方法包括以下步骤：S11：处理场景数据以获得缓存主图像的前景部分；S12：根据前景部分的亮度信息确定参考曝光量；S13：根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，暗帧曝光量小于参考曝光量，亮帧曝光量大于参考曝光量；和S14：根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置20曝光。请再次参阅图2，本专利技术实施方式的基于深度的曝光控制装置10可以用于控制成像装置20采集场景数据。场景数据包括缓存主图像。曝光控制装置10包括处理模块11、第一确定模块12、第二确定模块13和控制模块14。处理模块11用于处理场景数据以获得缓存主图像的前景部分。第一确定模块12用于根据前景部分的亮度信息确定参考曝光量。第二确定模块13用于根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，暗帧曝光量小于参考曝光量，亮帧曝光量大于参考曝光量。控制模块14用于根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置20曝光。也即是说，本专利技术实施方式的曝光控制方法可以由本专利技术实施方式的曝光控制装置10实现，其中，步骤S11可以由处理模块11实现，步骤S12可以由第一确定模块12实现，步骤S13可以由第二确定模块13实现，步骤S14可以由控制模块14实现。在某些实施方式中，本专利技术实施方式的曝光控制装置10可以应用于本专利技术实施方式的电子装置100，或者说本专利技术实施方式的电子装置100可以包括本专利技术实施方式的曝光控制装置10。此外，本专利技术实施方式的电子装置100还包括成像装置20，成像装置20和曝光控制装置10电连接。本专利技术实施方式的曝光控制方法、曝光控制装置10及电子装置100利用深度信息确定前景部分作为图像的主体，根据主体部分的亮度信息确定参考曝光量并且根据参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，根据参考曝光量、暗帧曝光量和亮帧曝光量控制成像装置20曝光以获得多个图像，从而可以通过图像处理的方法获得主体清晰和动态范围合理的宽动态范围图像。可以理解，参考曝光量可以是正常曝光图像的曝光量，根据前景部分的亮度信息获得参考曝光量可以提高前景部分，即主体部分的清晰度，从而使得正常曝光图像更加具有观赏性。在某些实施方式中，电子装置100包括手机或平板电脑。在本专利技术实施方式中，电子装置100是手机。在某些实施方式中，成像装置20包括前置相机和/或后置相机，在此不做任何限制。在本专利技术实施方式中，成像装置20是前置相机。请参阅图3，在某些实施方式中，步骤S11包括以下步骤：S112：处理场景数据以获取缓存主图像的深度信息；和S114：根据深度信息获取缓存主图像的前景部分。请参阅图4，在某些实施方式中，处理模块11包括处理单元112和第一获取单元114。处理单元112用于处理场景数据以获取缓存主图像的深度信息。第一获取单元114用于根据深度信息获取缓存主图像的前景部分。也即是说，步骤S112可以由处理单元112实现，步骤S114可以由第一获取单元本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于深度的曝光控制方法，用于控制成像装置采集场景数据，所述场景数据包括缓存主图像，其特征在于，所述曝光控制方法包括以下步骤：处理所述场景数据以获得所述缓存主图像的前景部分；根据所述前景部分的亮度信息确定参考曝光量；根据所述参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，所述暗帧曝光量小于所述参考曝光量，所述亮帧曝光量大于所述参考曝光量；和根据所述参考曝光量、所述暗帧曝光量和所述亮帧曝光量控制所述成像装置曝光。

【技术特征摘要】
1.一种基于深度的曝光控制方法，用于控制成像装置采集场景数据，所述场景数据包括缓存主图像，其特征在于，所述曝光控制方法包括以下步骤：处理所述场景数据以获得所述缓存主图像的前景部分；根据所述前景部分的亮度信息确定参考曝光量；根据所述参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，所述暗帧曝光量小于所述参考曝光量，所述亮帧曝光量大于所述参考曝光量；和根据所述参考曝光量、所述暗帧曝光量和所述亮帧曝光量控制所述成像装置曝光。2.如权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述处理所述场景数据以获得所述缓存主图像的前景部分的步骤包括以下步骤：处理所述场景数据以获取所述缓存主图像的深度信息；和根据所述深度信息获取所述缓存主图像的前景部分。3.如权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述场景数据包括与所述缓存主图像对应的深度图像，所述处理所述场景数据以获取所述缓存主图像的深度信息的步骤包括以下步骤：处理所述深度图像以获取所述缓存主图像的深度数据；和处理所述深度数据以得到所述深度信息。4.如权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述场景数据包括与所述缓存主图像对应的缓存副图像，所述处理所述场景数据以获取所述缓存主图像的深度信息的步骤包括以下步骤：处理所述场景主图像和所述缓存副图像以得到所述缓存主图像的深度数据；和处理所述深度数据以得到所述深度信息。5.如权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述根据所述深度信息获取所述缓存主图像的前景部分的步骤包括以下步骤：根据所述深度信息获得所述缓存主图像的最前点；和寻找与所述最前点邻接且深度连续变化的区域作为所述前景部分。6.如权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述参考曝光量包括曝光时间和成像装置的感光度，所述曝光控制方法包括：根据所述前景部分的运动信息确定所述曝光时间；和根据所述参考曝光量和所述曝光时间确定所述感光度。7.如权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述根据所述参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量的步骤包括以下步骤：获取所述缓存主图像的亮度值大于第一亮度阈值的区域为高亮区域；获取所述缓存主图像的亮度值小于第二亮度阈值的区域为低亮区域，所述第一亮度阈值大于所述第二亮度阈值；和根据所述高亮区域和低亮区域的比例以及参考曝光量确定所述暗帧曝光量和所述亮帧曝光量。8.如权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述曝光控制方法包括以下步骤：确定所述缓存主图像除所述前景部分外的区域为背景部分；和根据所述背景部分的亮度信息调整所述暗帧曝光量和所述亮帧曝光量。9.一种基于深度的曝光控制装置，用于控制成像装置采集场景数据，所述场景数据包括缓存主图像，其特征在于，所述曝光控制装置包括：处理模块，所述处理模块用于处理所述场景数据以获得所述缓存主图像的前景部分；第一确定模块，所述第一确定模块用于根据所述前景部分的亮度信息确定参考曝光量；第二确定模块，所述第二确定模块用于根据所述参考曝光量确定暗帧曝光量和亮帧曝光量，所述暗帧曝光量小于所述参考曝光量，所述亮帧曝光量大于...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙剑波，
申请(专利权)人：广东欧珀移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44