一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法技术

技术编号:15629987 阅读:159 留言:0更新日期:2017-06-14 14:03
本发明专利技术公开一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法,包括以下步骤:在基片架底部设置旋转底座,使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转;对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作;双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜;镀完膜的基片架回转运送到上下片区,对基片架正面的玻璃基片进行下片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作;重复步骤b~d,实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片;安排一名操作工即可对基片架反面进行上下片,无需再绕行到基片架反面,节省了人力的同时,能够保证上下片的速度,降低劳动强度。

【技术实现步骤摘要】
一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法
本专利技术涉及触摸屏玻璃制造
,具体是一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法。
技术介绍
在触摸屏玻璃制造领域,常常使用磁控溅射镀膜机对玻璃基片真空镀膜,而双面磁控溅射镀膜机由于同时能够对两片玻璃基片进行镀膜,受到广泛的应用。在镀膜时,一般由两名操作工分别站在基片架的正反两面,位于基片架正面的操作工负责正面基片的上下片,位于基片架反面的操作工负责反面基片的上下片,这样无疑造成了人力资源的浪费;而如果只安排一名操作工,那在对正面玻璃基片上下片之后,需要绕行到基片架的反面,再对反面玻璃基片上下片,如此反复,一方面劳动强度大,另一方面上下片的速度跟不上镀膜的节拍,影响生产效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法,该方法能够使一名操作工对两面玻璃基片进行上下片操作,同时能够保证上下片的速度,提高人员的利用率。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法,包括以下步骤:a、在基片架底部设置旋转底座,使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转;b、对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作;c、将上片后的基片架送入双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜;d、镀完膜的基片架由双面磁控溅射镀膜机出口回转运送到上下片区,对基片架正面的玻璃基片进行下片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作;e、重复步骤b~d,实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。本专利技术的有益效果是,安排一名操作工位于上下片区,在对基片架的正面上下片后,将基片架在旋转底座上旋转180°即可对基片架反面进行上下片,无需再绕行到基片架反面,节省了人力的同时,能够保证上下片的速度,降低劳动强度。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明:图1是本专利技术的上片示意图;图2是本专利技术的下片示意图;图3是本专利技术中基片架的示意图。具体实施方式结合图1~图3所示,本专利技术提供一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法,包括以下步骤:a、在基片架1底部设置旋转底座2,使基片架1能够在旋转底座2上水平自由旋转,旋转底座2采用常规带转轴的底座即可;b、对基片架1的正面进行正面玻璃基片3的上片操作,然后将基片架1在旋转底座2上旋转180°,再对基片架1的反面进行反面玻璃基片4的上片操作;c、将上片后的基片架1送入双面磁控溅射镀膜机5进行正反面镀膜;d、镀完膜的基片架1由双面磁控溅射镀膜机5出口回转运送到上下片区,对基片架1正面的玻璃基片进行下片操作,然后将基片架1在旋转底座上旋转180°,再对基片架1反面的玻璃基片进行下片操作;e、重复步骤b~d,实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。以上所述,仅是本专利技术的较佳实施例而已,并非对本专利技术作任何形式上的限制;任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本专利技术技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和
技术实现思路
对本专利技术技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本专利技术技术方案的内容,依据本专利技术的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰,均仍属于本专利技术技术方案保护的范围内。本文档来自技高网
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一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法

【技术保护点】
一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法,其特征在于,包括以下步骤:a、在基片架底部设置旋转底座,使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转;b、对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作;c、将上片后的基片架送入双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜;d、镀完膜的基片架由双面磁控溅射镀膜机出口回转运送到上下片区,对基片架正面的玻璃基片进行下片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作;e、重复步骤b~d,实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。

【技术特征摘要】
1.一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法,其特征在于,包括以下步骤:a、在基片架底部设置旋转底座,使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转;b、对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作,然后将基片架在旋转底座上旋转180°,再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作;c、将上片后的基...

【专利技术属性】
技术研发人员:鲍兆臣张少波樊黎虎
申请(专利权)人:凯盛科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

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