一种水基清洗剂及其制备方法技术

技术编号:15628928 阅读:182 留言:0更新日期:2017-06-14 10:03
本发明专利技术属于电子产品清洗技术领域,尤其涉及一种水基清洗剂,包括以下质量百分比的组成:去离子水50~70%,乙二醇醚类10‑25%,丙二醇醚10‑20%,醇胺类5‑10%,表面活性剂4‑10%,缓蚀剂0.2‑1%,消泡剂0.5‑1.5%,稳定剂0.5‑1%。相对于现有技术,本发明专利技术所选用的各成分紧密配合,产生极好的协同增强作用效果,而且本发明专利技术中各组分都不具有毒性,安全环保,其中,缓蚀剂对清洗工件起到保护作用,避免其受大气及有害介质的腐蚀,消泡剂则起到消泡、抑泡的作用,避免在清洗过程中产生大量的气泡,影响清洗效果。另外,本发明专利技术还提供一种水基清洗剂的制备方法,该制备方法操作简单,安全环保。

【技术实现步骤摘要】
一种水基清洗剂及其制备方法
本专利技术属于电子产品清洗
,尤其涉及一种水基清洗剂及其制备方法。
技术介绍
众所周知,SMT/THT的PCBA焊接后表面残留有松香助焊剂、水溶性助焊剂、免清洗性助焊剂/焊膏、手指印、油污、灰尘等污染物。这些污染物可能直接或间接地引起PCBA潜在的风险,例如:对PCBA造成腐蚀;在通电过程中,因焊点之间的电位差造成电迁移,使产品短路失效;影响涂覆效果;经过时间和环境温度的变化,出现涂层龟裂、翘皮,从而引起可靠性问题。因此,市场上出现了所谓的水基清洗剂。水基清洗剂是借助于含有的表面活性剂、乳化剂、渗透剂等的湿润、乳化、渗透、分散、增溶等作用来实现清洁的。随着电子产品元件的微型化、元件贴装和结构的高密度化、无铅化技术的导入,日益严格的环境和物质管控,推动了水基清洗剂的迅速发展。然而,现有的水基清洗剂仍存在有以下不足:1)在洗涤过程中产生大量的泡沫,不适用于全自动清洗和超声波清洗;2)对清洗工件与皮肤有腐蚀性,不符合绿色环保和安全无害的要求。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于:针对现有技术的不足,而提供一种水基清洗剂,在清洗过程中不产生大量的气泡,对清洗工件和皮肤无腐蚀性,清洗效果好且安全环保。为了实现上述目的,本专利技术采用以下技术方案:一种水基清洗剂,包括以下质量百分比的组成:其中,所述乙二醇醚类为乙二醇丁醚、二乙二醇丁醚和三乙二醇丁醚中的至少一种。添加乙二醇醚类有机溶剂能明显增强清洗剂对油脂的溶解能力。而且这几种溶剂都是无毒的,符合安全环保的要求。所述的水基清洗剂,还包括按质量百分比计0.2~2%的防腐剂,所述防腐剂为对羟基苯甲酸乙酯。为了防止微生物引起水基清洗剂霉变,通常要加入一些防腐剂。所述醇胺类为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺和二异丙醇胺中的至少一种。添加醇胺类有机溶剂能明显增强清洗剂对油脂的溶解能力。所述表面活性剂包括非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂,所述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚和聚氧乙烯烷基胺中的至少一种,所述阴离子表面活性剂为羧酸皂、烷基苯磺酸盐、烷基磺酸盐、脂肪醇硫酸酯盐和脂肪醇磷酸酯盐中的至少一种。表面活性剂的分子结构是由亲水基团和憎水基团两部分组成。它使得水的表面张力降低,对油污产生润湿、渗透、乳化、增溶和分散等多种综合作用。在清洗过程中,首先,表面活性剂对油污进行湿润和渗透,使油污从工件表面脱离下来,然后再利用表面活性剂的乳化、增溶和分散能力,进一步把脱离下来的油污分散在水中。所述缓蚀剂为苯并三氮唑(BTA)、巯基苯并噻唑(MBT)和甲基苯并三氮唑(TTA)中的至少一种。缓蚀剂可以吸附在工件表面并形成一层很薄的膜,从而可以保护工作免受大气及有害介质的腐蚀。所述消泡剂为聚醚改性硅、乳化硅油、聚氧丙烯甘油醚和聚氧丙烯中的至少一种。消泡剂具有的消泡或抑泡能力,是由于它具有很低的表面张力进入并破坏了泡膜,产生消泡的效果。当消泡剂加入到泡沫介质中时,落到了泡的表面,同时有效地降低了接触点的表面张力,在泡外皮产生一个薄弱点,从而引起了破泡。所述稳定剂为亚磷酸三苯酯、硬脂酸镁、聚丙二醇和油酸甲酯中的至少一种。稳定剂能增强水基清洗剂的稳定性能,具有减慢反应、保持化学平衡、降低表面张力以及防止光、热分解或氧化分解等作用。优选的,所述的水基清洗剂,包括以下质量百分比的组成:更为优选的,所述的水基清洗剂,包括以下质量百分比的组成:本专利技术的另一个目的在于:提供一种水基清洗剂的制备方法,包括以下步骤:步骤一,按上述质量百分比,称取各组份备用;步骤二,将乙二醇醚类、丙二醇醚、醇胺类和表面活性剂进行混合,在常温下充分搅拌,搅拌均匀后静置得到溶液A;步骤三,将缓蚀剂和稳定剂加入反应容器内,用分散搅拌机进行搅拌,搅拌时间为25~40分钟,使其充分反应与溶解,制得溶液B;步骤四,将溶液A与溶液B进行混合,搅拌均匀后,加入去离子水,再加入消泡剂,使其充分混合溶解,静置15~30分钟,得到水基清洗剂。本专利技术的有益效果在于:本专利技术提供一种水基清洗剂,包括以下质量百分比的组成:去离子水50~70%,乙二醇醚类10-25%,丙二醇醚10-20%,醇胺类5-10%,表面活性剂4-10%,缓蚀剂0.2-1%,消泡剂0.5-1.5%,稳定剂0.5-1%。相对于现有技术,本专利技术所选用的各成分紧密配合,产生了极好的协同增强作用效果,而且本专利技术中各组分都不具有毒性,安全环保,其中,缓蚀剂对清洗工件起到保护作用,避免其受大气及有害介质的腐蚀,消泡剂则起到消泡、抑泡的作用,避免在清洗过程中产生大量的气泡,影响清洗效果。另外,本专利技术还提供一种水基清洗剂的制备方法,该制备方法操作简单,安全环保。具体实施方式下面将结合具体实施方式对本专利技术及其有益效果作进一步详细说明,但是,本专利技术的具体实施方式并不局限于此。实施例1~6制备水基清洗剂,具体组分和含量见表1,制备方法如下:步骤一,按上述质量百分比,称取各组份备用;步骤二,将乙二醇醚类、丙二醇醚、醇胺类和表面活性剂进行混合,在常温下充分搅拌,搅拌均匀后静置得到溶液A;步骤三,将缓蚀剂和稳定剂加入反应容器内,用分散搅拌机进行搅拌,搅拌时间为25~40分钟,使其充分反应与溶解,制得溶液B;步骤四,将溶液A与溶液B进行混合,搅拌均匀后,加入去离子水,再加入消泡剂,使其充分混合溶解,静置15~30分钟,得到水基清洗剂。表1实施例组分和含量表对比例1~6为了更能突出本专利技术的有益效果,采用以下对比例1~6,具体组分和含量见表2,其制备方法同实施例1~6。表2对比例组分和含量表1、清洗效果实验:A、用高松香型助焊剂喷12块电脑主机板,过锡炉,分别编号为1、2、3、……、10、11、12;B、先通过超声、滚刷及喷淋清洗再经过喷淋,再超声、滚刷及喷淋漂洗,最后干燥,用实施例1~6所制备的水基清洗剂清洗电脑主机板1、2、3、4、5和6,用对比例1~6所制备的水基清洗剂清洗电脑主机板7、8、9、10、11和12;C、检测方法:1)目视检验不使用放大镜,直接用眼睛观测印制电路板表面有无明显的残留物存在。表1清洗效果试验结果一其中,OK表示无明显残留物存在,NG表示有明显残留物存在。由此可以看出:用实施例1~6制得的水基清洗剂清洗印刷电路板,其表面基本无明显残留物存在,而用对比例1~6制得的水基清洗剂清洗,其中有大部分印刷电路板上还存在残留物,也就是说,本专利技术中的水基清洗剂清洗效果好,清洗后板面无明显残留。2)镜检使用高倍显微镜观察板面有无明显残留。表2清洗效果试验结果二由此可以看出:用实施例1~6制得的水基清洗剂清洗印刷电路板,其表面基本无明显残留物存在,而用对比例1~6制得的水基清洗剂清洗,其中有大部分印刷电路板上还存在残留物,也就是说,本专利技术中的水基清洗剂清洗效果好,清洗后板面无明显残留。2、腐蚀性实验取实施例1~6制得的水基清洗剂和对比例1~6制得的水基清洗剂各400ML分别放置于500ML烧杯中,分别编号为1、2、3、……、10、11、12,将12块相同电脑主机板放入其中24小时后,取出观察其电容、IC、插件、电阻、表面塑胶件等元器件有无明显腐蚀、溶胀。表3腐蚀性实验结果其中,OK表示无明显腐蚀、溶胀;NG表示有明显腐蚀、溶胀。由此可以看出:本专利技术实施例1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水基清洗剂,其特征在于,包括以下质量百分比的组成:

【技术特征摘要】
1.一种水基清洗剂,其特征在于,包括以下质量百分比的组成:其中,所述乙二醇醚类为乙二醇丁醚、二乙二醇丁醚和三乙二醇丁醚中的至少一种。2.根据权利要求1所述的水基清洗剂,其特征在于,还包括按质量百分比计0.2~2%的防腐剂,所述防腐剂为对羟基苯甲酸乙酯。3.根据权利要求1所述的水基清洗剂,其特征在于,所述醇胺类为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺和二异丙醇胺中的至少一种。4.根据权利要求1所述的水基清洗剂,其特征在于,所述表面活性剂包括非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂,所述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚和聚氧乙烯烷基胺中的至少一种,所述阴离子表面活性剂为羧酸皂、烷基苯磺酸盐、烷基磺酸盐、脂肪醇硫酸酯盐和脂肪醇磷酸酯盐中的至少一种。5.根据权利要求1所述的水基清洗剂,其特征在于,所述缓蚀剂为苯并三氮唑(BTA)、巯基苯并噻唑(MBT)和甲基苯并三氮唑(TTA)中的至少一种。6.根据权利要求1所述的水基清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员:轩飞
申请(专利权)人:东莞市先飞电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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