【技术实现步骤摘要】
一种控制离子圆形注入的二维扫描装置
本专利技术涉及一种控制离子圆形注入的二维扫描装置,涉及离子注入机,属于半导体装备制造领域。
技术介绍
离子注入技术是近30年来在国际上蓬勃发展和广泛应用的一种材料表面改性高新技术,已经在半导体材料掺杂,金属、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上获得了极为广泛的应用,取得了巨大的经济效益和社会效益。在电子工业中,离子注入成为了微电子工艺中的一种重要的掺杂技术,在当代制造大规模集成电路中,可以说是一种必不可少的手段。离子注入目前都采用二维扫描控制装置控制扫描输出,扫描方式有电扫描:晶片固定,水平与垂直方向都采用电子束扫描;机械扫描:束流固定,晶片运动;混合扫描:水平方向电子束扫描,晶片垂直方向机械运动。这些扫描方式都是矩形扫描,不能实现圆形扫描和任意区域扫描。本专利技术提供了一种可以实现离子注入圆形扫描和任意区域扫描的二维扫描装置。
技术实现思路
本专利技术是针对现有技术中离子注入机无控制圆形扫描和局域扫描的二维扫描装置这一问题而提出的一种离子圆形注入的二维扫描控制装置,该专利技术应用于离子注入机,能够精确控制扫描装置进行圆周扫描和局域扫描。本专利技术公开了一种控制离子圆形注入的二维扫描装置,属于半导体装备制造领域。本专利技术通过以下技术方式实现:一种控制离子圆形注入的二维扫描装置,包括主控机、通信接口电路、DSP处理器、FPGA、键盘、两路高速DAC转换电路、两路滤波电路、两路缓冲放大电路和高压放大电路。两路高压放大电路和两路缓冲放大电路连接,两路缓冲放大电路和两路高速DAC连接,FPGA和两路高速DAC连接,DSP处理器与FPG ...
【技术保护点】
一种控制离子圆形注入的二维扫描装置,包括主控机、通信接口电路、DSP处理器、FPGA、键盘、两路高速DAC转换电路、两路滤波电路、两路缓冲放大电路和高压放大电路;两路高压放大电路和两路缓冲放大电路连接,两路缓冲放大电路和两路高速DAC连接,FPGA和两路高速DAC连接,DSP处理器与FPGA连接,主控机通过通信接口电路连接DSP处理器。
【技术特征摘要】
1.一种控制离子圆形注入的二维扫描装置,包括主控机、通信接口电路、DSP处理器、FPGA、键盘、两路高速DAC转换电路、两路滤波电路、两路缓冲放大电路和高压放大电路;两路高压放大电路和两路缓冲放大电路连接,两路缓冲放大电路和两路高速DAC连接,FPGA和两路高速DAC连接,DSP处理器与FPGA连接,主控机通过通信接口电路连接DSP处理器。2.根据权利要求1所述的一种控制离子圆形注入的二维扫描装置,其特征在于:DSP处理器与FPGA相连...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘辉,童雪林,刘光灿,谢明华,熊跃军,
申请(专利权)人:长沙学院,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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