一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，包括：基板、挡板、铁笔接头、配重、吸附垫片；其中，所述基板为长方形或者正方形的板材，所述基板四周通过螺丝安装四块所述挡板，所述基板上表面中部通过螺丝安装所述铁笔接头，所述基板下表面贴有吸附垫片，所述吸附垫片吸附工件在单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上研磨抛光。该实用新型专利技术采用吸附上盘，上盘及卸盘操作方便，可与目前光学冷加工普遍使用的单轴研磨抛光机、双轴研磨抛光机配套使用，并且添加了配重，可以提高平行度修整效率，改善大口径超薄光学元件研磨抛光出现的翘角、踏边现象，可调节加压使研磨抛光更均匀、效率更高。

【技术实现步骤摘要】
一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置
本技术涉及光学元件加工
，尤其涉及一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置。
技术介绍
大口径超薄光学元件具有口径大、厚度小、透射面形精度高、平行度高及光洁度好等特点，可用作大型高能激光装置的屏蔽片、光栅基板及精密天文仪器的光学窗口等。然而目前的大口径超薄光学元件加工还存在以下问题：1.研磨抛光过程中，大口径超薄光学元件的两表面的平行度修整依靠人工加压，修整效率低；2.工件出现翘角、踏边等不良现象，对研磨抛光的操作者的经验要求高；3.采用中部加压方式，研磨抛光不均匀并且加工效率低；4.采用巨型双面研磨抛光机加工则设备投资大、成本高。因此需要一种能解决上述缺陷又适用于与目前光学冷加工普遍使用的单轴研磨抛光机、双轴研磨抛光机配套的大口径超薄光学元件研磨抛光用装置。
技术实现思路
针对现有技术缺陷，本技术提供大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，该装置与目前光学冷加工普遍使用的单轴研磨抛光机、双轴研磨抛光机配套使用，提高平行度修整效率，改善大口径超薄光学元件研磨抛光出现的翘角、踏边现象，可调节加压使研磨抛光更均匀、效率更高。为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：本技术提供一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，包括：基板、挡板、铁笔接头、配重、吸附垫片；其中，所述基板为长方形或者正方形的板材，所述基板四周通过螺丝安装四块所述挡板，所述基板上表面中部通过螺丝安装所述铁笔接头，所述基板下表面贴有吸附垫片，所述吸附垫片吸附工件在单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上研磨抛光。所述基板的材料为铝合金板材；所述基板的长度比工件的长度大1mm；所述基板的宽度比工件的宽度大1mm；所述基板的厚度为15mm；所述基板四周设置有用于安装四块所述挡板的螺纹孔A共12个；所述基板上表面中部设置有用于安装所述铁笔接头的螺纹孔B共4个；所述基板上表面边缘设置有4个螺纹孔C连接所述配重。所述挡板有4个，为长方形，所述挡板的材料为尼龙、聚四氟乙烯中的一种；所述挡板上设置有3个通孔E用于与所述基板四周的螺纹孔A配合安装。所述铁笔接头的材料为304不锈钢；所述铁笔接头边缘带有四个通孔F，所述通孔F与所述基板上表面中部的螺纹孔B配合，所述铁笔接头中部带有圆形凹坑，所述圆形凹坑与单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机的铁笔连接。所述配重有4个，为正方形铜块；所述配重中心设置有通孔H用于连接所述基板上表面边缘设置的4个螺纹孔C；所述配重的边长为100mm，厚度为25mm。所述吸附垫片为具有弹性的硅橡胶；所述吸附垫片为方形，厚度是3mm，粘贴在所述基板上；所述吸附垫片上开有方格及凹槽，所述方格的边长D为40mm，所述凹槽的宽度d为3mm，所述凹槽的深度为2mm。本技术的工作过程是：将本技术吸附垫片面向上平放，将工件放置在所述吸附垫片上压紧，工件吸附在所述吸附垫片上后，将本技术和工件连接到单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上的铁笔上进行研磨抛光；工作一段时间取下工件测量工件的四个角的厚度差，根据四个角的厚度差，调整本技术的配重，在厚度差大的区域添加配重的数量，厚度差小的区域减少配重的数量，当厚度差满足要求时取下所有配重；当工件研磨抛光完成一面时，取下工件翻面后继续研磨抛光至达到要求为止。本技术的优点是：本技术采用吸附上盘，上盘及卸盘操作方便，并且添加了配重，可以提高平行度修整效率，改善大口径超薄光学元件研磨抛光出现的翘角、踏边现象，可调节加压使研磨抛光更均匀、效率更高。附图说明图1是本技术的一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置的等轴测视图；图2是本技术的一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置的俯视图；图3是图2的A-A方向的剖视图；图4是本技术的一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置的仰视图；图中零部件及编号：1-基板，101-螺纹孔A，102-螺纹孔B，2-挡板，201-通孔E，3-铁笔接头，301-通孔F，302-圆形凹坑，4-配重，5-吸附垫片。具体实施方式下面结合实施例和附图对本技术进行进一步说明。如图1、图2、图3、图4，一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，包括：基板1、挡板3、铁笔接头3、配重4、吸附垫片5；其中，所述基板1为长方形或者正方形的板材，所述基板1四周通过螺丝安装四块所述挡板2，所述基板1上表面中部通过螺丝安装所述铁笔接头3，所述基板1下表面贴有吸附垫片5，所述吸附垫片5吸附工件6在单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上研磨抛光。所述基板1的材料为铝合金板材；所述基板1的长度比工件6的长度大1mm；所述基板1的宽度比工件6的宽度大1mm；所述基板1的厚度为15mm；所述基板1四周设置有用于安装四块所述挡板2的螺纹孔A101共12个；所述基板1上表面中部设置有用于安装所述铁笔接头3的螺纹孔B102共4个；所述基板1上表面边缘设置有4个螺纹孔C连接所述配重。所述挡板2有4个，为长方形，所述挡板2的材料为尼龙、聚四氟乙烯中的一种；所述挡板2上设置有3个通孔E201用于与所述基板1四周的螺纹孔A101配合安装。所述铁笔接头3的材料为304不锈钢；所述铁笔接头3边缘带有四个通孔F301，所述通孔F301与所述基板1上表面中部的螺纹孔B102配合，所述铁笔接头3中部带有圆形凹坑302，所述圆形凹坑302与单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机的铁笔连接。所述配重4有4个，为正方形铜块；所述配重4中心设置有通孔H用于连接所述基板1上表面边缘设置的4个螺纹孔C；所述配重4的边长为100mm，厚度为25mm。所述吸附垫片5为具有弹性的硅橡胶；所述吸附垫片5为方形，厚度是3mm，粘贴在所述基板1上；所述吸附垫片5上开有方格及凹槽，所述方格的边长D为40mm，所述凹槽的宽度d为3mm，所述凹槽的深度为2mm。所述工件6的尺寸为430mm×430mm×3mm、330mm×330mm×2mm、200mm×200mm×2mm中的任一种；所述工件6的材料为高硼硅浮法玻璃、K9玻璃、熔石英玻璃中的任一种。本技术的工作过程是：将本技术吸附垫片面向上平放，将工件6放置在所述吸附垫片5上压紧，工件6吸附在所述吸附垫片5上后，将本技术和工件6连接到单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上的铁笔上进行研磨抛光；工作一段时间取下工件6测量工件6的四个角的厚度差，根据四个角的厚度差，调整本技术的配重，在厚度差大的区域添加配重4的数量，厚度差小的区域减少配重4的数量，当厚度差满足要求时取下所有配重4；当工件6研磨抛光完成一面时，取下工件6翻面后继续研磨抛光至达到要求为止。以上所述仅为本技术实施例，并非因此限定本技术的专利范围，凡是利用本说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的
，均同理包括的本技术的专利保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，包括：基板、挡板、铁笔接头、配重、吸附垫片；其中，所述基板为长方形或者正方形的板材，所述基板四周通过螺丝安装四块所述挡板，所述基板上表面中部通过螺丝安装所述铁笔接头，所述基板下表面贴有吸附垫片，所述吸附垫片吸附工件在单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上研磨抛光。

【技术特征摘要】
1.一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，包括：基板、挡板、铁笔接头、配重、吸附垫片；其中，所述基板为长方形或者正方形的板材，所述基板四周通过螺丝安装四块所述挡板，所述基板上表面中部通过螺丝安装所述铁笔接头，所述基板下表面贴有吸附垫片，所述吸附垫片吸附工件在单轴研磨抛光机或者双轴研磨抛光机上研磨抛光。2.根据权利要求1所述的一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，其特征在于：所述基板的材料为铝合金板材；所述基板的长度比工件的长度大1mm；所述基板的宽度比工件的宽度大1mm；所述基板的厚度为15mm；所述基板四周设置有用于安装四块所述挡板的螺纹孔A共12个；所述基板上表面中部设置有用于安装所述铁笔接头的螺纹孔B共4个；所述基板上表面边缘设置有4个螺纹孔C连接所述配重。3.根据权利要求1所述的一种大口径超薄光学元件研磨抛光用装置，其特征在于：所述挡板有4个，为长方形，所述挡板的材料为尼龙、聚四氟乙烯中的一种；所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛卫平，杨明洋，张清明，熊振武，
申请(专利权)人：东莞市兰光光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44