一种粉料研磨装置制造方法及图纸

技术编号:15593528 阅读:214 留言:0更新日期:2017-06-13 21:38
本实用新型专利技术属于物理实验领域,涉及一种粉料研磨装置。一种粉料研磨装置,包括液氮室、传送装置、研磨装置和保护壳,所述液氮室由外壳、夹层、内槽、基座组成;传送装置由传送弯道、传送带、托槽和研钵组成;研磨装置由研磨器、护檐、第一研磨杆、第二研磨杆和电机室组成;保护壳上设有控制模块和出料口;本实用新型专利技术将冷却装置、研磨装置和传送装置结合起来用于XRD样品的制备,使粉末样品的制备更加自动化、标准化、智能化,大大缩短了制备时间,节约了劳动力。

【技术实现步骤摘要】
一种粉料研磨装置
本技术属于物理实验领域,涉及一种粉料研磨装置。
技术介绍
任何一种粉末衍射技术都要求样品是十分细小的粉末颗粒,使试样在受光照的体积中有足够多数目的晶粒。因为只有这样,才能满足获得正确的粉末衍射图谱数据的条件:即试样受光照体积中晶粒的取向是完全机遇的。虽然很多固体样品本身已处于微晶状态,但通常却是较粗糙的粉末颗粒或是较大的集结块,更多数的固体样品则是具有或大或小晶粒的结晶织构或者是可以辨认出外形的粗晶粒,因此实验时一般需要先加工成合用的细粉末。因为大多数固体颗粒是易碎的,所以最常用的方法是研磨和过筛,只有当样品是十分细的粉末,手摸无颗粒感,才可以认为晶粒的大小已符合要求。持续的在研钵或在球磨中研磨至<360目的粉末,可以有效的得到足够细的颗粒。衍射仪对样品粉末颗粒尺寸的要求比粉末照相法的要求高得多,有时甚至那些可以通过360目(38μm)粉末颗粒都不能符合要求。对于高吸收的或者颗粒基本是个单晶体颗粒的样品,其颗粒大小要求更为严格。例如,石英粉末的颗粒大小至少小于5μm,同一样品不同样片强度测量的平均偏差才能达到1%,颗粒大小若在10μm以内,则误差在2~3%左右。但是若样品本身已处于微晶状态,则为了能制得平滑粉末样面,样品粉末能通过300目便足够了。制备粉末需根据不同的具体情况采用不同的方法。在XRD检测过程中,对于粉末样品的准备工作,必须有足够的重视。有时常常由于急于要看到衍射图,或舍不得花必要的功夫而马虎地准备样品,这样常会给实验数据带入显著的误差甚至无法解释,造成混乱。
技术实现思路
本技术为解决XRD检测过程中,粉末样品制备要求高,制备繁琐,需要时间长的技术问题,公开了一种粉料研磨装置。为解决上述技术问题,本技术采用以下技术方案:一种粉料研磨装置,包括液氮室、传送装置、研磨装置和保护壳,所述液氮室由外壳、夹层、内槽、基座组成;传送装置由传送弯道、传送带、托槽和研钵组成;研磨装置由研磨器、护檐、第一研磨杆、第二研磨杆和电机室组成;保护壳上设有控制模块和出料口;所述液氮室上端设有端口,端口处设有盖塞,端口旁设有注口,液氮室底部设有基座,外壳和内槽之间设有夹层,内槽盛有液氮;传送弯道的进料道口与端口重合,传送道与进料道垂直设置,传送道穿过液氮室与出料口相接,传送道内设有传送带,传送带与电机相连,传送带上设有托槽,托槽内设有研钵,传送道上设有限位孔;研磨装置的第一研磨杆穿过限位孔,第一研磨杆下端设有研磨器,研磨器上罩有护檐,研磨器位于传送道内,第一研磨杆齿轮端与第二研磨杆齿轮端通过齿轮啮合,第二研磨杆另一端通过万向球设在电机室上;保护壳正面设有控制模块和出料口,控制模块通过第一导线与电机室相连,控制模块通过第二导线与电机相连。所述外壳与内槽的底部之间设有凸起,凸起具有支撑并固定内槽的作用。所述注口处设有注塞。所述限位孔由弹性材料制成,弹性材料保证在第二研磨杆接触第一研磨杆之前,研磨装置处于上浮闲置状态。所述研磨器由2-4个研磨球组成。本技术的有益效果在于:本技术将冷却装置、研磨装置和传送装置结合起来用于XRD样品的制备,使粉末样品的制备更加自动化、标准化、智能化,大大缩短了制备时间,节约了劳动力。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为搅拌装置的结构示意图。图3为保护壳的正面结构示意图。具体实施方式如图1-3所示,一种粉料研磨装置,包括液氮室、传送装置、研磨装置7和保护壳8,所述液氮室由外壳2、夹层15、内槽3、基座1组成;传送装置由传送弯道4、传送带14、托槽5和研钵16组成;研磨装置7由研磨器18、护檐17、第一研磨杆19、第二研磨杆24和电机室23组成;保护壳8上设有控制模块10和出料口11;所述液氮室上端设有端口42,端口42处设有盖塞6,端口42旁设有注口31,液氮室底部设有基座1,外壳2和内槽3之间设有夹层15,内槽3盛有液氮;传送弯道4的进料道口与端口42重合,传送道43与进料道41垂直设置,传送道43穿过液氮室与出料口11相接,传送道43内设有传送带14,传送带14与电机13相连,传送带14上设有托槽5,托槽5内设有研钵16,传送道43上设有限位孔;研磨装置7的第一研磨杆19穿过限位孔,第一研磨杆19下端设有研磨器18,研磨器18上罩有护檐,研磨器18位于传送道43内,第一研磨杆齿轮端20与第二研磨杆齿轮端21通过齿轮啮合,第二研磨杆24另一端通过万向球22设在电机室23上,当第一研磨杆19在非工作状态时,由于限位孔的作用,搅拌装置处于闲置状态;保护壳8正面设有控制模块10和出料口11,控制模块10通过第一导线9与电机室23相连,控制模块10通过第二导线12与电机13相连。所述外壳2与内槽3的底部之间设有凸起32。所述注口31处设有注塞。所述限位孔由弹性材料制成,弹性材料保证在第二研磨杆接触第一研磨杆之前,研磨装置处于上浮闲置状态。所述研磨器18由2-4个研磨球组成。本技术的使用方法如下:通过加样勺,将样品加入到研钵16内,盖上塞盖6,静置5-10min,打开开关,传送带14缓慢将样品传送至研磨装置下方,快速转动的研磨装置将样品迅速研磨,研磨之后可由传送带14传送至出料口11,本技术可实现样品的连续研磨。本文档来自技高网...
一种粉料研磨装置

【技术保护点】
一种粉料研磨装置,其特征在于:包括液氮室、传送装置、研磨装置(7)和保护壳(8),所述液氮室由外壳(2)、夹层(15)、内槽(3)、基座(1)组成;传送装置由传送弯道(4)、传送带(14)、托槽(5)和研钵(16)组成;研磨装置(7)由研磨器(18)、护檐(17)、第一研磨杆(19)、第二研磨杆(24)和电机室(23)组成;保护壳(8)上设有控制模块(10)和出料口(11);所述液氮室上端设有端口(42),端口(42)处设有盖塞(6),端口(42)旁设有注口(31),液氮室底部设有基座(1),外壳(2)和内槽(3)之间设有夹层(15),内槽(3)盛有液氮;传送弯道(4)的进料道口与端口(42)重合,传送道(43)与进料道(41)垂直设置,传送道(43)穿过液氮室与出料口(11)相接,传送道(43)内设有传送带(14),传送带(14)与电机(13)相连,传送带(14)上设有托槽(5),托槽(5)内设有研钵(16),传送道(43)上设有限位孔;研磨装置(7)的第一研磨杆(19)穿过限位孔,第一研磨杆(19)下端设有研磨器(18),研磨器(18)上罩有护檐(17),研磨器(18)位于传送道(43)内,第一研磨杆齿轮端(20)与第二研磨杆齿轮端(21)通过齿轮啮合,第二研磨杆(24)另一端通过万向球(22)设在电机室(23)上;保护壳(8)正面设有控制模块(10)和出料口(11),控制模块(10)通过第一导线(9)与电机室(23)相连,控制模块(10)通过第二导线(12)与电机(13)相连。...

【技术特征摘要】
1.一种粉料研磨装置,其特征在于:包括液氮室、传送装置、研磨装置(7)和保护壳(8),所述液氮室由外壳(2)、夹层(15)、内槽(3)、基座(1)组成;传送装置由传送弯道(4)、传送带(14)、托槽(5)和研钵(16)组成;研磨装置(7)由研磨器(18)、护檐(17)、第一研磨杆(19)、第二研磨杆(24)和电机室(23)组成;保护壳(8)上设有控制模块(10)和出料口(11);所述液氮室上端设有端口(42),端口(42)处设有盖塞(6),端口(42)旁设有注口(31),液氮室底部设有基座(1),外壳(2)和内槽(3)之间设有夹层(15),内槽(3)盛有液氮;传送弯道(4)的进料道口与端口(42)重合,传送道(43)与进料道(41)垂直设置,传送道(43)穿过液氮室与出料口(11)相接,传送道(43)内设有传送带(14),传送带(14)与电机(13)相连,传送带(14)上设有...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵瑞锋任波赵利敏田贵敏朱双美文黎魏
申请(专利权)人:河南工程学院
类型:新型
国别省市:河南,41

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