The invention discloses an aluminum anodic oxidation polishing method, which comprises the following steps: the workpiece is fixed, will be processed by aluminum or Aluminum Alloy anodized workpiece is fixed on the fixed part of the polishing polishing equipment; installation of polishing, the polishing head is fixed on the polishing machine polishing device, the polishing; cotton polishing; using filtration liquid injection, recycle slurry. By adopting the scheme, the invention in the premise of protection does not damage the anode layer under the layer of anodic polishing, polishing to achieve better effect; and the production cost is low, the equipment investment is very small, the process has less control parameters, the process is easy to control, easy to realize automation, production line for a small place, suitable for large-scale production that has a very high market value.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光工艺,尤其涉及的是,一种铝阳极氧化后抛光方法。
技术介绍
铝材及铝合金具有特殊的材料特性:材质轻,柔性强易于产品成型及阳极染色处理,因此,其在加工制造中使用的越来越广泛。传统研磨工艺是在铝阳极氧化前进行抛光处理,随着人们对电子消费性产品外观要求越来越苛刻,要求表面光滑细腻,甚至镜面,传统的打磨工艺很难达到此要求,因此,随着技术的不断提升,发现铝材阳极后抛光,抛光效果更好,但是,目前正在开发的加工工艺主要有以下几种:1)传统的布轮+蜡抛光:用电机带动布轮,配合蜡进行抛光,这是最普及也最传统的金属表面抛光方法,在铝材上缺点是切削力高、发热量大,会破坏阳极层,只能进行一些外观要求不高的产品抛光;2)流体抛光:依靠高速运动的液体及其液体中携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的,如磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动,使液体介质高速往复流过工件表面从而达到抛光效果。介质主要选用低压力下流动性好的液状、并掺入磨料而成;磨料可采用细粒度碳化硅或者氧化铝,但效率低,如提高流体速率来提高切削率,容易造成产品设计的薄弱结构部分变形,且行业内的技术并不是很成熟,产品制造水平不易控制;3)磁流变抛光:磁流变抛光是利用带磁性的液体混合磨料在磁场作用下形成研磨力,对工件进行磨削加工,此种抛光工艺与流体抛光原理相近,只是动力源不同,磁流变抛光是利用磁场改变磨料液体的物性并运用液体和工件表面的相对运动来研磨,从而达到抛光的效果,优点是可通过控制磁场对复杂结构的产品进行抛光,缺点是效率低、成本高、需要投入大量的主题设备和辅助设备,且行业内技 ...
【技术保护点】
一种铝阳极氧化后抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:D1,工件固定,将待被加工的经过阳极氧化处理的铝材或铝合金工件固定在抛光设备的抛光固定部;D2,安装抛光盘,将抛光盘固定在抛光机的机头;D3,设备进行抛光,采用抛光棉进行抛光处理;采用循环过滤注液方式,循环使用抛光液。
【技术特征摘要】
1.一种铝阳极氧化后抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:D1,工件固定,将待被加工的经过阳极氧化处理的铝材或铝合金工件固定在抛光设备的抛光固定部;D2,安装抛光盘,将抛光盘固定在抛光机的机头;D3,设备进行抛光,采用抛光棉进行抛光处理;采用循环过滤注液方式,循环使用抛光液。2.根据权利要求1所述的铝阳极氧化后抛光方法,其特征在于,步骤D2之前,还执行以下步骤D21:选取抛光设备;所述抛光设备包括手持式抛光机、湿式抛光机和Lapping机。3.根据权利要求2所述的铝阳极氧化后抛光方法,其特征在于,步骤D21之前,还执行以下步骤D211:判断工件的加工面积是否大于预设面积,是则在步骤D21中选取湿式抛光机,否则在步骤D21中选取手持式抛光机或Lapping机。4.根据权利要求3所述的铝阳极氧化后抛光方法,其特征在于,所述手持式抛光机的转速大于100转/分;所述Lapping机的转速为20-60转/分;所述湿式...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘刚,
申请(专利权)人:深圳市泽米诺科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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