一种金属有机化学气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种金属有机化学气相沉积设备，包括反应腔、加热器和设置在反应腔内的衬底托盘，加热器设置在反应腔的外周，反应腔上端设有进气装置、下端设有底板，底板下面设有旋转机构和升降机构，旋转机构包括支柱和旋转装置，支柱的上端穿过底板与衬底托盘固定连接、下端与旋转装置连接，升降机构包括升降杆和升降装置，升降杆的上端与底板固定连接，下端通过升降板与升降装置连接，旋转装置放置在升降板上，支柱上位于底板的上面和下面分别设有卡块。本实用新型专利技术提供的金属有机化学气相沉积设备结构简单，成本低，且有利于提高产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种金属有机化学气相沉积设备
本技术属于半导体制造设备
，具体涉及一种金属有机化学气相沉积设备。
技术介绍
现有一种金属有机化学气相沉积设备包括反应腔，反应腔的顶部设有进气装置，反应腔的底部设有衬底托盘和加热器，进气装置与衬底托盘相对设置，加热器设置在衬底托盘背离进气装置的一侧，加热器用于加热衬底托盘，进而加热设置在衬底托盘上的基片。这种金属有机化学气相沉积设备，由于加热器设置在反应腔内，因此，对加热器的材料要求很高，价格昂贵，同时，加热器成为潜在的污染源，会对反应腔造成污染，进而影响沉积薄膜的质量。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种金属有机化学气相沉积设备，解决现有技术存在的加热器价格昂贵且对反应腔会造成污染的问题。本技术的技术方案为，一种金属有机化学气相沉积设备，包括反应腔、加热器和设置在反应腔内的衬底托盘，加热器设置在反应腔的外周，反应腔上端设有进气装置、下端设有底板，底板下面设有旋转机构和升降机构，旋转机构包括支柱和旋转装置，支柱的上端穿过底板与衬底托盘固定连接、下端与旋转装置连接，升降机构包括升降杆和升降装置，升降杆的上端与底板固定连接，下端通过升降板与升降装置连接，旋转装置放置在升降板上，支柱上位于底板的上面和下面分别设有卡块。优选地，上述加热器的高度等于反应腔的高度。优选地，上述进气装置与反应腔之间设有绝热层。优选地，上述升降杆为多根，多根升降杆通过升降板与升降装置连接。优选地，上述升降装置为油缸。优选地，上述衬底托盘上设有用于定位基片的定位销，立柱的材料为绝热材料。本技术具有如下有益效果：1、本技术将加热器设置在反应腔外周围，对反应器材料无特殊要求，降低了反应器成本，同时避免了加热器对反应腔的污染，有利于提高沉积薄膜的质量；衬底托盘与旋转机构连接，可在薄膜生长的时候进行旋转，有利于提高薄膜成分的均匀性和薄膜厚度的均匀性；底板与升降机构连接，支柱通过卡块随底板升降，反应结束后可快速使衬底托盘上的沉积薄膜离开高温区，有利于提高薄膜质量。2、本技术的衬底托盘上设置定位销来定位基片，避免了现有技术采用定位槽来定位基片导致的基片受热不均匀的问题。3、本技术结构简单，成本低。附图说明图1为本技术实施例提供的金属有机化学气相沉积设备结构示意图；图2为图1的A-A视图；图3为图1的B-B视图；图4为本技术实施例提供的衬底托盘结构示意图。图中，1.反应腔，2.加热器，3.衬底托盘，3-1.定位销，4.进气装置，5.底板，6-1.支柱，6-2.旋转装置，7-1.升降杆，7-2.升降装置，7-3.升降板，8.绝热层。具体实施方式下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步详细的说明。实施例一种金属有机化学气相沉积设备，参见图1、图2和图3，包括反应腔1、加热器2和设置在反应腔1内的衬底托盘3，加热器2设置在反应腔1的外周，反应腔1上端设有进气装置4，反应腔1下端设有底板5，底板5下面设有旋转机构6和升降机构7，旋转机构6包括支柱6-1和旋转装置6-2，支柱6-1的上端穿过底板5与衬底托盘3固定连接，支柱6-1的下端与旋转装置6-2连接，升降机构7包括升降杆7-1和升降装置7-2，升降杆7-1的上端与底板5连接，升降杆7-1的下端与升降装置7-2连接，支柱6-1上位于底板5的上面和下面分别设有卡块。本实施例金属有机化学气相沉积设备的使用方法如下：通过加热器2将反应腔1加热，通过进气装置4将反应气体送入反应腔1内，衬底底盘3内的基片在旋转机构的带动下匀速旋转，反应气体均匀的沉积在基片上形成薄膜。待反应结束后，升降机构下降，同时，通过底板5带动衬底托盘3下降，从而使薄膜迅速离开高温反应区。由于升降杆7-1与底板5固定连接，而支柱6-1与衬底托盘3固定连接，支柱6-1上设有两个卡快，这两个卡快分别位于底板5的上面和下面，使得支柱6-1能够相对于底板5旋转，但不能相对于底板5升降，因此底板5随着升降杆7-1的升降而升降时会通过支柱6-1带动衬底托盘3升降。当进行下一个工作周期时，通过升降机构将底板5和衬底托盘3升起，送到相应的位置。为了保证反应腔1均匀受热，优选加热器2的高度等于反应腔1的高度。为了避免热传导，减小反应腔1的高温对进气装置4的影响，优选进气装置4与反应腔1之间设有绝热层。为了保证衬底托盘3升降平稳，升降杆7-1为多根，优选三根，三根升降杆7-1均匀设置在底板5的下面且通过升降板7-3与升降装置7-2连接。为了结构简单，使用方便，升降装置7-2优选油缸。为了避免传统的采用定位槽来定位基片导致的基片受热不均匀的问题，本实施例的衬底托盘3上设有用于定位基片的定位销3-1，参见图4，定位销3-1的材料为绝热材料。本技术将加热器设置在反应腔外周围，对反应器材料无特殊要求，降低了反应器成本，同时避免了加热器对反应腔的污染，有利于提高沉积薄膜的质量；衬底托盘与旋转机构连接，可在薄膜生长的时候进行旋转，有利于提高薄膜成分的均匀性和薄膜厚度的均匀性；底板与升降机构连接，支柱通过卡块随底板升降，反应结束后可快速使衬底托盘上的沉积薄膜离开高温区，有利于提高薄膜质量。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属有机化学气相沉积设备，其特征在于：包括反应腔(1)、加热器(2)和设置在反应腔(1)内的衬底托盘(3)，所述加热器(2)设置在反应腔(1)的外周，所述反应腔(1)上端设有进气装置(4)，下端设有底板(5)，所述底板(5)下面设有旋转机构和升降机构，所述旋转机构包括支柱(6‑1)和旋转装置(6‑2)，所述支柱(6‑1)的上端穿过底板(5)与衬底托盘(3)固定连接、下端与旋转装置(6‑2)连接，所述升降机构包括升降杆(7‑1)和升降装置(7‑2)，所述升降杆(7‑1)的上端与底板(5)固定连接，下端通过升降板(7‑3)与升降装置(7‑2)连接，所述旋转装置(6‑2)放置在升降板(7‑3)上，所述支柱(6‑1)上位于底板(5)的上面和下面分别设有卡块。

【技术特征摘要】
1.一种金属有机化学气相沉积设备，其特征在于：包括反应腔(1)、加热器(2)和设置在反应腔(1)内的衬底托盘(3)，所述加热器(2)设置在反应腔(1)的外周，所述反应腔(1)上端设有进气装置(4)，下端设有底板(5)，所述底板(5)下面设有旋转机构和升降机构，所述旋转机构包括支柱(6-1)和旋转装置(6-2)，所述支柱(6-1)的上端穿过底板(5)与衬底托盘(3)固定连接、下端与旋转装置(6-2)连接，所述升降机构包括升降杆(7-1)和升降装置(7-2)，所述升降杆(7-1)的上端与底板(5)固定连接，下端通过升降板(7-3)与升降装置(7-2)连接，所述旋转装置(6-2)放置在升降板(7-3)上，所述支柱(6-1)...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘丹丹，陈昌东，王耀先，李松田，
申请(专利权)人：平顶山学院，
类型：新型
国别省市：河南,41