掩膜板和蒸镀装置制造方法及图纸

一种掩膜板和蒸镀装置，该掩膜板包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶；所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸，所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。该掩膜板通过改变框架和固定在其上的掩膜条的设计，有效解决了玻璃基板被刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。

Mask plate and evaporation device

A mask and a vapor deposition device, the mask plate comprises a frame and arranged inside the frame of the first mask, wherein, the frame comprises an outer frame and an inner frame, wherein the frame is located on the outside and has a first plane, the inner frame is positioned on the inner side and has a second plane, the first the plane is higher than that of the plane formed second steps; the first mask strip is fixed at both ends of the frame extending side edge in the frame and the frame by the first mask in the second plane projection and the inner frame on the side at least partially overlap. The mask plate effectively solves the problem of scratching the glass substrate by changing the design of the frame and the mask strip fixed thereon, thereby effectively improving the yield and the life of the subsequent product.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板和蒸镀装置
本技术的实施例涉及一种掩膜板和蒸镀装置。
技术介绍
蒸镀工艺被广泛地应用于电子器件的镀膜过程中，其原理是将待蒸镀的基板放置于真空环境中，使蒸镀材料沉积在待蒸镀的基板表面而完成镀膜，而待蒸镀基板的镀膜区域通常通过掩膜条来限定。在蒸镀工艺中，如果基板边缘被刮伤易造成周边线路断路、封装失效等问题，从而影响产品良率和产品寿命。基板边缘的刮伤通常是掩膜条与玻璃基板接触时的相对运动引起的。目前，解决上述基板边缘易被刮伤的问题主要从两个方面入手，一是有效控制掩膜条边缘的锋利程度和粗糙度；二是减缓掩膜条与玻璃基板的相对运动，减弱二者的相互作用力。但是，为了确保掩膜条与玻璃基板接触时的平整度要求，掩膜条的厚度通常薄至100um或者更薄，这样不可避免的掩膜条的边缘会很锋利。而掩膜条是通过刻蚀工艺制成的，通过调整刻蚀工艺的参数来控制掩膜条边缘的锋利程度和粗糙度的难度很大。
技术实现思路
本技术至少一实施例提供一种掩膜板以及蒸镀装置。该掩膜板通过改变框架的结构将其设计成具有不同高度的两个平面由此形成台阶，然后将该第一掩膜条搭接在该框架上，使其主体部分与框架隔离开，避免了第一掩膜条给玻璃基板带来的刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。本技术至少一个实施例中，掩膜板包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶；所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸，且所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为1-10mm。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为5mm。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，在所述第一平面上且与所述第一掩膜条延伸方向垂直的方向上，所述第一掩膜条的主体部分与所述外框之间的距离为0.5mm-2mm。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，还包括设置在所述框架内侧的第二掩膜条。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第二掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的另一侧边延伸，且所述第二掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述另一侧边至少部分交叠。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第二掩膜条与所述第一掩膜条具有交叉区域。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第二掩膜条通过两端固定在所述外框上且与所述第一掩膜条的中部交叉，将所述框架所包围的区域划分为多个子区域。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的厚度相等。例如，在本技术一实施例中，在该掩膜板中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的厚度均为50-100μm。本技术至少一个实施例中，该蒸镀装置包括上述中的掩膜板。例如，在本技术一实施例中，该蒸镀装置还包括与所述掩膜板相对设置的磁体，所述第一掩膜条具有磁性，所述第一掩膜条可被所述磁体吸附而移动。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本技术的一些实施例，而非对本技术的限制。图1为一种掩膜板的平面结构示意图；图2为本技术实施例提供的掩膜板的平面结构示意图；图2a-2b为图2中所示掩膜板的截面结构示意图；图3为本技术实施例提供的掩膜板的平面结构示意图；图3a为图3中所示掩膜板的截面结构示意图；图4为本技术实施例提供的框架的平面结构示意图；图4a-4d为图4中所示框架的截面结构示意图；图5a为一种掩膜板的平面结构示意图；图5b为将图5a中的掩膜板用于蒸镀装置中的截面结构示意图。附图标记：100-掩膜板；101-框架；1011-外框；1012-内框；102-掩膜条；1021-第一掩膜条；1022-第二掩膜条；103-第一平面；104-第二平面；105-台阶；201-磁体；202-待蒸镀的玻璃基板。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例的附图，对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。图1为一种掩膜板的平面结构示意图，如图1所示，该掩膜板100包括框架101和固定在框架101上的掩膜条102。从图1中可以看出，该掩膜板100包括六条掩膜条102，其中四条掩膜条固定在框架101的周边并与框架直接接触，该四条掩膜条在与框架接触的平面上的正投影与该框架交叠，另外两条掩膜条搭接在框架101上。专利技术人在研究中发现：固定在框架101周边的四条掩膜条是造成基板被刮伤的关键因素，由于周边的掩膜条的主体部分与框架101直接接触，周边的掩膜条在受到磁体的磁力吸引作用力时，其翻转运动会受到限制，会造成掩膜条向上运动与玻璃基板刮擦的几率增大，即掩膜条自身的自由度会受到很多限制，造成掩膜条与玻璃基板的相互作用力增加，从而造成对玻璃基板的刮伤。如果从增强掩膜条自身的自由度入手，可减缓掩膜条与玻璃基板的相对运动来解决基板边缘被刮伤问题。例如，将周边的四条掩膜条与另外两条掩膜条一样制作成与框架搭接的形式，掩膜条对玻璃基板的刮伤问题会得到明显的改善。但这样又会造成蒸镀时的漏膜现象，从而降低了产品的良率。针对上述问题，本技术通过改变框架的结构将其设计成具有不同高度的两个平面由此形成台阶，然后将该第一掩膜条搭接在该框架的外框上，使其主体部分与框架不接触，避免了第一掩膜条给玻璃基板带来的刮伤的问题，有效提升了后续产品的良率和寿命。本技术至少一实施例提供一种掩膜板，该掩膜板包括框架和设置在框架内侧的第一掩膜条，框架包括位于外侧且具有第一平面的外框和位于内侧且具有第二平面的内框，第一平面高于第二平面由此形成台阶；第一掩膜条通过两端固定在外框上且在该外框内沿框架的一侧边延伸，且第一掩膜条在第二平面上的正投影与内框在侧边至少部分交叠。下面通过几个实施例进行说明。实施例一本实施例提供一种掩膜板，图2为本技术实施例提供的掩膜板的平面结构示意图，图2a和图2b为图2中所示掩膜板的截本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶；所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸，所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括框架和设置在所述框架内侧的第一掩膜条，其中，所述框架包括外框和内框，所述外框位于外侧且具有第一平面，所述内框位于内侧且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成台阶；所述第一掩膜条通过两端固定在所述外框上且在所述外框内沿所述框架的一侧边延伸，所述第一掩膜条在所述第二平面上的正投影与所述内框在所述侧边至少部分交叠。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为1-10mm。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一平面和所述第二平面之间的高度差为5mm。4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，在所述第一平面上且与所述第一掩膜条延伸方向垂直的方向上，所述第一掩膜条的主体部分与所述外框之间的距离为0.5mm-2mm。5.根据权利要求1-4中任一项所述的掩膜板，其特征在于，还包括设置在所述框架内侧的第二掩膜条。6.根据权利要求5所述的掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐鹏，乔永康，潘晟恺，刘杰，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34