一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法技术

本发明专利技术涉及水稻种植技术领域，具体是一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法。水稻采用盆栽种植，水稻种植管理同大田生产；搭建不锈钢框架，利用透气不透光的遮光布遮光；将处于7.0‑9.1叶期水稻移入暗室进行短日照处理7‑10d；按照水稻从播种到水稻齐穗所经历的时间长短，将水稻品种分为光周期高敏感、中敏感、低敏感三类。本发明专利技术通过多个品种、多个叶龄的苗期缩短光照处理，明确7.0‑9.1叶是水稻生育期中对短日照处理最敏感的时期，通过多品种7叶期开始的7天短日光照处理，以生育期缩短的长短作为敏感性分级标准，发明专利技术一种水稻省时省力、操作性强、可靠性好、稳定性好、鉴定效率高的水稻品种光周期敏感性鉴定的方法。

A method for identifying photoperiod sensitivity of Rice Varieties

The invention relates to the technical field of rice planting, in particular to a method for identifying the photoperiod sensitivity of rice varieties. The pot planting rice, rice planting with field production management; build a stainless steel frame, the use of breathable shading cloth shading opaque; in the 7 9.1 leaf stage rice into the chamber for 7 SHORTDAY 10d; when the rice from sowing to heading through rice according to the length of the rice varieties, divided into light high sensitive, sensitive period and low sensitive three. The present invention through multiple varieties and multiple leaf seedling to shorten the light treatment, clear 7 9.1 leaf is the most sensitive to short photoperiod treatment during rice growth period, through 7 days short day varieties 7 leaf stage photo processing, to shorten the growth period length as sensitivity classification standard, a rice time-saving, strong operability, good reliability, good stability and high efficiency of the method of identification of rice photoperiod sensitivity identification.

【技术实现步骤摘要】
一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法
本专利技术涉及水稻种植
，具体是一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法。
技术介绍
水稻是我国主要粮食作物，其我种植季节多种、生态环境多样、品种类型各异。水稻感光性是决定水稻生育时期的重要水稻品种特性之一，根据水稻光周期特性，可以为水稻引种和种植季节调整提供依据。目前水稻品种感光性评价的方法都是在人工气候箱进行光照处理，且多在是整个苗期或者是叶龄为3-5叶时进行处理，且处理时间长，多在1个月以上。人工气候箱光照模拟对长日照条件具有较好的模拟作用，模拟自然条件短日照可行性较低，叶龄在3-5叶时水稻处于苗期，对光温反应并不是很明显，长时间的光周期处理才会出现品种差异。分子生物学鉴定主要通过H3d1和RFT12个基因表达进行，多数研究也在水稻3-5叶苗期进行取样鉴定。在水稻3-5叶苗期进行评价准确性不高，针对性不强。光周期敏感性的方法也可以在不同纬度地区进行种植，这种方法准确性高，但效率低，需要多点种植。我们通过试验明确了7-9叶是水稻生育期中对短日照处理最敏感的时期，7d的短日照处理，水稻生育期就能出现显著的变化，以生育历期变化为参数，采用100％暗室进行短日照处理，水稻品种光周期评价快速、方便。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对上述技术存在的问题，提供一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法，步骤包括：(1)水稻进行盆栽种植，水稻种植管理同大田生产；(2)搭建高为1.5-1.8m、长为5-6m、宽为3-4m的不锈钢框架，利用透气不透光的遮光布遮光；(3)将处于7.0-9.1叶期水稻移入暗室进行短日照处理7-10d；(4)按照水稻从播种到水稻齐穗所经历的时间长短，将水稻品种分为光周期高敏感、中敏感、低敏感三类。进一步的，步骤(1)中，所述盆栽种植塑料盆规格长、宽、高分别为25cm、15cm、28cm。进一步的，步骤(2)中，所述遮光布为涤棉和涤纶。进一步的，步骤(3)中，所述处理时间为17:00-次日早上7:00进行遮光。进一步的，步骤(4)中，所述高敏感指短日照处理后水稻播种到抽穗时间与未处理水稻相比缩短20d以上，所述中敏感指短日照处理后与未处理水稻相比生育期缩短10-20d，所述低敏感指短日照处理后水稻生育期比未处理水稻生育期缩短0-10d。本专利技术的有益技术效果是：本专利技术通过多个品种、多个叶龄的苗期缩短光照处理，明确7-9叶是水稻生育期中对短日照处理最敏感的时期，通过多品种7叶期开始7天的短日光照处理，以生育期缩短的长短作为敏感性分级标准，专利技术一种水稻省时省力、可靠性好、操作性强、鉴定效率高的水稻品种光周期敏感性鉴定的方法。本方法操作方便，不需要多点多地规模种植，只需在一个地方进行盆栽种植，成本低，盆栽用盆子为聚乙烯塑料盆，成本低。暗室采用不锈钢管构成，可以多年重复利用。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是光周期高度敏感性品种甬优538在不同生育期处理7d生育期变化；图2低度敏感品种临稻11在不同生育期处理7d生育期变化具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例1(1)水稻进行盆栽种植，盆栽种植塑料盆规格长、宽、高分别为25cm、15cm、28cm，管理同大田生产；(2)搭建高为1.5m、长为5m，宽为3m的不锈钢框架，利用透气100％不透光的遮光布遮光，遮光布的材质为涤棉和涤纶；(3)将处于7-9.1叶期水稻移入暗室进行短日照处理7-10d，处理时段为17:00-次日早上7:00进行遮光；(4)按照水稻从播种到水稻齐穗所经历的时间长短，将水稻品种分为光周期高敏感、中敏感、低敏感三类；光周期高敏感指短日照处理后水稻播种到抽穗时间与未处理水稻相比缩短20d以上，中敏感指短日照处理后与未处理水稻相比生育期缩短10-20d，低敏感指短日照处理后水稻生育期比未处理水稻生育期缩短0-10d。应用实施例2选择甬优538、甬优12、甬优9号、春优115、徐稻3号、津原45、秀水134、中浙优1号、秀水09、武运粳7号、豫粳6号、南粳49、Y两优646、连粳7号、临稻11号和楚粳27，按实施例1方进行处理，结果见表1所示。表1不同光周期敏感品种在7.1叶处理7d时生育期的变化光周期高敏感性品种甬优538在不同生育期处理7d生育期变化如图1所示，光周期低敏感品种临稻11在不同生育期处理7d生育期变化如图2所示。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本专利技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。最后所应说明的是：以上实施例仅用以说明而非限制本专利技术的技术方案，尽管参照上述实施例对本专利技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应该理解：依然可以对本专利技术进行修改或者等同替换，而不脱离本专利技术的精神和范围的任何修改或局部替换，其均应涵盖在本专利技术的权利要求范围当中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法，其特征在于，步骤包括：(1)水稻进行盆栽种植，水稻种植管理同大田生产；(2)搭建高为1.5‑1.8m、长为5‑6m、宽为3‑4m的不锈钢框架，利用透气不透光的遮光布遮光；(3)将处于7.0‑9.1叶期水稻移入暗室进行短日照处理7‑10d；(4)按照水稻从播种到水稻齐穗所经历的时间长短，将水稻品种分为光周期高敏感、中敏感、低敏感三类。

【技术特征摘要】
1.一种水稻品种光周期敏感性鉴定方法，其特征在于，步骤包括：(1)水稻进行盆栽种植，水稻种植管理同大田生产；(2)搭建高为1.5-1.8m、长为5-6m、宽为3-4m的不锈钢框架，利用透气不透光的遮光布遮光；(3)将处于7.0-9.1叶期水稻移入暗室进行短日照处理7-10d；(4)按照水稻从播种到水稻齐穗所经历的时间长短，将水稻品种分为光周期高敏感、中敏感、低敏感三类。2.根据权利要求1所述水稻品种光周期敏感性鉴定方法，其特征在于，步骤(1)中，所述盆栽种植塑料盆规格长、宽、高分别为25cm、15cm、28cm。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：王亚梁，朱德峰，张玉屏，
申请(专利权)人：中国水稻研究所，
类型：发明
国别省市：浙江,33