一种掩膜版，彩膜基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供了一种掩膜版，彩膜基板及其制作方法，该掩膜版包括第一开口区，对应于显示面板的显示区域，包括用于形成显示区域像素图案的开口；以及第二开口区，对应于显示面板的非显示区域，其中，所述第二开口区用于形成像素测试图案，包括纵向设置的第一矩形子开口和第二矩形子开口，两个矩形子开口沿长边纵向排列设置并且所述第二矩形子开口相对于所述第一矩形子开口横向偏移预定距离。本发明专利技术可以采用共用掩膜版来形成像素测试图案，并且不会发生误抓取的状况。

Mask plate, color film substrate and manufacturing method thereof

The invention provides a mask, color film substrate and manufacturing method thereof, the mask includes a first opening region corresponding to the display area of the display panel, including opening for forming a display area pixel pattern; and a second opening area, a non display area, corresponding to the display panel wherein the second opening used for forming a pixel test pattern, including the first longitudinal rectangular sub opening set and second sub rectangular openings, two sub rectangular openings are arranged longitudinally along the long side and the second sub rectangular openings relative to the first rectangular sub opening laterally offset a predetermined distance. The invention can form a pixel test pattern by using a common mask plate, and the condition of false fetching can not occur.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版，彩膜基板及其制作方法
本专利技术属于显示面板制作
，具体的说，尤其涉及一种掩膜版，彩膜基板及制作方法。
技术介绍
纵观手机发展的这些年，其从一个简简单单的通讯设备已经变成了一部功能强大的智能终端。相比最开始的手机，现在的智能手机已经可以做很多事情了，比如观看高清视频以及玩游戏等等。做到以上这些，智能手机除了需要功能强大的处理器之外，还要有一块显示清晰，表现细腻的显示屏支持。对于手机屏幕，除了尺寸大小的区别以外，最主要的还要看其材质以及采用的显示技术。目前智能机中比较主流的显示技术及材质包括IPS、SuperAMOLEDPlus、SLCD2、ASV等等，它们都是基于TFT材质的屏幕通过自身的技术优化而成的。但是，现有的手机屏幕中像素部分，由于形成红绿蓝像素共用同一掩膜版，在像素测试区抓取红绿蓝边界的时候会导致误抓取。
技术实现思路
为解决以上问题，本专利技术提供了一种掩膜版，彩膜基板及其制作方法，用于采用共用掩膜版来形成像素测试图案。根据本专利技术的一个方面，提供了一种掩膜版，包括：第一开口区，对应于显示面板的显示区域，包括用于形成显示区域像素图案的开口；第二开口区，对应于显示面板的非显示区域，其中，所述第二开口区用于形成像素测试图案，包括纵向设置的第一矩形子开口和第二矩形子开口，两个矩形子开口沿长边纵向排列设置，并且所述第二矩形子开口相对于所述第一矩形子开口横向偏移预定距离。根据本专利技术的一个实施例，所述第一矩形子开口和所述第二矩形子开口横向距离最远的两边之间的横向距离，等于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度。根据本专利技术的一个实施例，所述第一矩形子开口的横向宽度和所述第二矩形子开口的横向宽度均大于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度的二分之一，并且小于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度。根据本专利技术的一个实施例，所述第一矩形子开口的横向宽度等于所述第二矩形子开口的横向宽度。根据本专利技术的另一个方面，还提供了一种彩膜基板，包括：显示区域，包括用于进行显示的像素矩阵；非显示区域，包括用于检测像素矩阵中各颜色像素的像素测试图案，其中，每一颜色像素对应的像素测试图案包括第一矩形测试图案和第二矩形测试图案，两个矩形测试图案的长边纵向排列设置，并且所述第二矩形测试图案相对所述第一矩形测试图案横向偏移预定距离设置，相邻不同颜色像素对应的测试图案的第一矩形测试图案之间和第二矩形测试图案之间具有间隙。根据本专利技术的一个实施例，所述第一矩形测试图案和所述第二矩形测试图案横向距离最远的两边之间的横向距离，等于所述显示区域相同颜色像素的横向宽度。根据本专利技术的一个实施例，所述第一矩形测试图案的横向宽度和所述第二矩形测试图案的横向宽度均大于所述显示区域的对应颜色像素的横向宽度的二分之一，并且小于所述显示区域的对应颜色像素的横向宽度。根据本专利技术的一个实施例，所述第一矩形测试图案的横向宽度等于所述第二矩形测试图案的横向宽度。根据本专利技术的一个实施例，所述显示区域的像素矩阵中各颜色像素的横向宽度相等。根据本专利技术的再一个方面，还提供了一种采用以上所述掩膜版来制作彩膜基板的方法，在形成像素测试图案时包括以下步骤：采用所述掩膜版曝光形成第一颜色像素对应的测试图案；将所述掩膜版横向移动显示区域一个像素的横向距离并曝光形成第二颜色像素对应的测试图案；将所述掩膜版横向移动一个像素的横向距离并曝光形成第三颜色像素对应的测试图案。本专利技术的有益效果：本专利技术通过设置具有两个矩形开口的掩膜版，形成对应显示区域同一颜色像素的两个像素测试图案，可以采用共用掩膜版来形成像素测试图案，并且不会发生误抓取的状况。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要的附图做简单的介绍：图1是现有技术中一种采用共用掩膜版的像素测试图案示意图；图2是现有技术中一种采用独立掩膜版的像素测试图案示意图；图3是根据本专利技术的一个实施例的采用共用掩膜版的像素测试图案示意图；图4是根据本专利技术的一个实施例的掩膜版结构示意图；图5是根据本专利技术的一个实施例的采用图4所示掩膜版形成像素测试图案的流程图。具体实施方式以下将结合附图及实施例来详细说明本专利技术的实施方式，借此对本专利技术如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本专利技术中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本专利技术的保护范围之内。如图1所示为现有技术中共用掩膜版时形成的像素测试图案示意图。一般共用掩膜版时，完成红像素图案11之后，通过将掩膜版横向移动一个红像素图案11距离，就可以用同一张掩膜版完成绿像素图案12制程。这样做出来的绿像素图案12在显示区不会有影响。但是，因为绿像素图案12和蓝像素图案13的测试图案均是通过移动一个红像素图案11的距离形成的，所以会形成了如图1中所示的重叠区域A，这会导致在抓取红像素图案对应的测试图案的横向边界RCD时出现误抓取的状况。此处为有利于说明，横向表示面对显示面板时的水平方向，纵向表示面对显示面板时的垂直方向，上下左右均以面对显示面板方向为基准说明。如图2所示为现有技术中采用独立掩膜版分别形成红绿蓝三像素的像素测试图案的示意图。由于红像素测试图案21、绿像素测试图案22和蓝像素测试图案23之间留有空隙，其本质是由于红绿蓝三像素边界之间留有一定间隙。在量测各像素的横向宽度的时候，抓取边界时不会出现误抓取的状况。因此，本专利技术提供了一种掩膜版，用于解决红绿蓝三像素共用掩膜版，不会影响红绿蓝三像素的特性&检测问题。如图3所示为采用本专利技术的掩膜版形成的像素测试图案示意图，如图4所示为根据本专利技术的一个实施例的部分掩膜版结构示意图，以下参考图3和图4来对本专利技术进行详细说明。根据本专利技术的一个实施例，该掩膜版包括第一开口区和第二开口区。第一开口区对应于显示面板的显示区域，包括用于形成显示区像素图案的开口。第二开口区对应于显示面板的非显示区域。其中，第二开口区用于形成像素测试图案，包括纵向设置的第一矩形子开口301和第二矩形子开口302，两个矩形子开口沿长边纵向排列设置并且第二矩形子开口相对于第一矩形子开口横向偏移预定距离，如图4所示。如图4所示为对应非显示区的第二开口区的结构示意图，此处设定上层开口为第一矩形子开口301，下层开口为第二矩形子开口302。这两个矩形子开口沿长边纵向排列设置，即两个矩形子开口的长边沿垂直方向平行设置。并且，第二矩形子开口302相对于第一矩形子开口301横向偏移第一预定距离，如图4所示。第二矩形子开口302相对第一矩形子开口301向右水平偏移了一定距离，导致两个矩形子开口错位设置。这两个矩形子开口用于形成同一颜色的像素对应的两个测试图案，通过这两个矩形子开口形成的两个测试图案的总体横向距离来表示显示区域对应颜色的像素的横向宽度。通过移动掩膜版一个像素图案的横向宽度对应的距离形成的另一颜色像素对应的测试图案，与其他颜色像素对应的测试图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版，包括：第一开口区，对应于显示面板的显示区域，包括用于形成显示区域像素图案的开口；第二开口区，对应于显示面板的非显示区域，其中，所述第二开口区用于形成像素测试图案，包括纵向设置的第一矩形子开口和第二矩形子开口，两个矩形子开口沿长边纵向排列设置，并且所述第二矩形子开口相对于所述第一矩形子开口横向偏移预定距离。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，包括：第一开口区，对应于显示面板的显示区域，包括用于形成显示区域像素图案的开口；第二开口区，对应于显示面板的非显示区域，其中，所述第二开口区用于形成像素测试图案，包括纵向设置的第一矩形子开口和第二矩形子开口，两个矩形子开口沿长边纵向排列设置，并且所述第二矩形子开口相对于所述第一矩形子开口横向偏移预定距离。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一矩形子开口和所述第二矩形子开口横向距离最远的两边之间的横向距离，等于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一矩形子开口的横向宽度和所述第二矩形子开口的横向宽度均大于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度的二分之一，并且小于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一矩形子开口的横向宽度等于所述第二矩形子开口的横向宽度。5.一种彩膜基板，包括：显示区域，包括用于进行显示的像素矩阵；非显示区域，包括用于检测像素矩阵中各颜色像素的像素测试图案，其中，每一颜色像素对应的像素测试图案包括第一矩形测试图案和第二矩形测试图案，两个矩形测试图案的长边纵向排列设...

【专利技术属性】
技术研发人员：王威，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42