The present disclosure provides a reflective type photonic crystal color film, a display device using the same, and a method of manufacturing the same. The reflective photonic crystal color film includes a substrate, a two-dimensional photonic crystal structure formed on the substrate and periodically distributed on the substrate surface, wherein the two-dimensional photonic crystal structure is composed of material containing silicon. By designing and adjusting the geometrical parameters and thickness of the two-dimensional photonic crystal structure, only red, green, blue, green and yellow colors are reflected. The disclosed photonic crystal color film will not only be able to replace the traditional color film substrate, but also can broaden the gamut of traditional color film to achieve the cyan and yellow color light, with the RGB three color color film, RGBCY color, natural color reduction, so as to achieve a more realistic display. At the same time, by optimizing the geometric parameters of two-dimensional photonic crystal structure, the spectral width of RGB is narrower than that of traditional color film, and relatively high color saturation is realized, so that the display screen is more vivid.
【技术实现步骤摘要】
反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法
本公开涉及显示
,具体而言,涉及一种反射式光子晶体彩膜、使用其的显示器件及其制造方法。
技术介绍
目前国际上主流的三基色的色域指标已经不能满足一些高端显示领域的色彩饱和度的要求,比如某些专业广告,高清屏幕等。因此,寻找新的方法来提高屏幕显色的真实性是显示领域最为迫切需要解决的问题之一。虽然基于三基色LED显示设备的色域再现能力已经达到NTSC标准色域的120%,但是,在CIE标准色域图中,还有接近40%的面积在三基色LED显示区域之外。怎样进一步扩大显示色域的范围是我们满足高端需求的重要探索方向。通过对各种扩展色域方案的对比的五基色(RGBCY)显示采用增加黄色(Yellow)、青色(Cyan)的方法将颜色由RGB构成的三角形扩展为五边形,能有效扩大系统所能再现的色域,理想RGBCY可以实现完全覆盖PointerGamut。RGBCY显示颜色更加鲜艳逼真,色彩过渡更加自然,具有更好的视觉效果,可以实现对高色域和饱和度照片的真实再现。实现RGBCY五基色LED理论分析没有问题,实际工业化也有很多难题需要攻克,其中青色和黄色如何实现是目前研究的重点。此外,在彩色显示领域,包括传统的液晶显示(LCD)、有机发光二极管(OLED)等显示技术都使用传统的彩膜基底来实现RGB彩色显示。但是传统彩膜基底是通过对白色入射光的各基色进行过滤来实现RGB,因此大约有2/3的入射光会被彩膜基底吸收而损失,导致透过率低,且传统RGB彩色显示拓宽至RGBCY五色时,其各色光谱的半峰宽较宽,导致色饱和度不高等。光子晶体(Phot ...
【技术保护点】
一种反射式光子晶体彩膜,包括;基底;形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构,其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。
【技术特征摘要】
1.一种反射式光子晶体彩膜,包括;基底;形成在基底上且在基底表面上周期性分布的二维光子晶体结构,其中所述二维光子晶体结构由包含硅的材料构成。2.根据权利要求1所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为柱状或孔状结构。3.根据权利要求2所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为圆柱或方块结构。4.根据权利要求2所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为圆孔或方孔结构。5.根据权利要求3所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为圆柱结构,所述二维光子晶体结构的周期为330-450nm,所述二维光子晶体结构的占空比为20-30%,其中圆柱的高度为110-130nm,圆柱的直径为190-210nm。6.根据权利要求4所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为圆孔结构,所述二维光子晶体结构的周期为240-280nm,所述二维光子晶体结构的占空比为20-30%,其中圆孔的深度为110-130nm,圆孔的直径为125-145nm。7.根据权利要求4所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为圆孔结构,所述二维光子晶体结构的周期为120-200nm,所述二维光子晶体结构的占空比为20-30%,其中圆孔的深度为90-110nm,圆孔的直径为90-110nm。8.根据权利要求3所述的反射式光子晶体彩膜,其特征在于,所述二维光子晶体结构为圆柱结构,所述二维光子晶体...
【专利技术属性】
技术研发人员:孟宪芹,杨亚锋,吕敬,陈小川,王维,谭纪风,孟宪东,田允允,高健,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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