一种挡板及包含该挡板的真空干燥机制造技术

本发明专利技术涉及液晶显示面板制造技术领域，本发明专利技术提出了一种挡板，该挡板包括第一板面、第二板面，第一板面与第二板面相互平行，第一板面与第二板面分别设置在挡板的两侧，沿所述第一板面的法线方向观测，挡板的中心区域设置有孔洞，该孔洞穿过挡板的第一板面和第二板面，在真空干燥机中，将该挡板放置在待干燥的阵列基板的上方，排气管道可直接从挡板的中心处对阵列基板进行抽气干燥，使得阵列基板中心区域的气流路径缩短，改善了阵列基板中心区域的抽气效果，使得阵列基板上方的气流更加均匀，避免了由于抽气不均导致的中心缺陷，提高了产品的品质。本发明专利技术同时提出了一种包含该挡板的真空干燥机。

Baffle and vacuum drier containing the baffle

The present invention relates to the technical field of manufacturing liquid crystal display panel, the invention provides a baffle, the baffle plate includes a first surface and second surface, the first surface and the second surface are parallel to each other, the first and second surface are respectively arranged on the both sides of the baffle plate, the normal direction of the first surface observation center area baffle provided with holes. The first, the hole through the baffle plate and the second surface in vacuum dryer, above the baffle is arranged on the array substrate to be dried, the exhaust pipe can be directly pumping air drying on the array substrate from the baffle plate at the center of the flow path of the central region of the array substrate is shortened, improving the effect of gas pumping array substrate the center region, the flow of air at the top of the array substrate is more uniform, to avoid the defects caused by uneven center pumping, improve production Quality of goods. The invention also provides a vacuum drying machine comprising the baffle plate.

【技术实现步骤摘要】
一种挡板及包含该挡板的真空干燥机
本专利技术涉及液晶显示面板制造
，尤其涉及一种挡板及包含该挡板的真空干燥机，该挡板设置在真空干燥机的气室内，且位于待干燥的基板和排气管道之间。
技术介绍
光刻胶，又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，其中的溶剂主要为有机溶剂，感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲和性等发生明显变化，经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。在液晶显示面板制造技术中，在制作阵列基板的制程中，在照相蚀刻技术中，需要用涂布机将光刻胶涂布到基板上，为了防止光刻胶涂布后在基板上流动，在涂布机将光刻胶涂布到基板之后，会使用真空干燥机将光刻胶中70～80％的有机溶剂抽走，以减少膜面流动性，保证膜面的平坦度及光刻胶稳定性。目前，在使用真空干燥机对阵列基板进行干燥时，无论是向上抽气还是向下抽气，都会在基板上方增加一片挡板，制造出一个狭缝抽气的环境(如图1所示)，在真空干燥机的基台11上设置有待干燥的阵列基板12，在真空干燥机的气室14内位于阵列基板12的正上方位置设置有挡板13，在挡板13和阵列基板12之间形成狭缝16，当排气管道15开始工作时，涂布在阵列基板12上的光刻胶的有机溶剂挥发，沿图1中的气流方向经过排气管道15排出，由于设置了狭缝16保证了抽气的稳定性，能够防止光刻胶中的有机溶剂突沸造成气孔，但这种方式会使阵列基板中心处抽气量相对减少，经过气流模拟，发现这种方式会使得阵列基板上方的气流形成类似“X”型的气流分布图，如图2，从图2中可以看出，挡板边角区21处的气流较强，然后气流从边角区向挡板中心处气流减弱，而且气流较弱区23呈现出类似“十”字形状，且沿阵列基板对角线位置处出现最弱区，这样就造成阵列基板抽气不均匀，导致中心处抽气不良，在阵列基板的中心区域形成缺陷120(如图3)。现有技术中，为了解决中心抽气不良的问题，主要有两种方法：第一种是增加抽气量，即增加抽气速率或抽气时间，这种方法对中心抽气不良问题有一定的改善，但是偶尔会出现边缘抽气过度的问题，而且增加抽气量会给厂务端真空和排气系统增加负担；第二种方法是增加抽气管路，一般由一个或两个抽气管路增加至八个，然而这种方法对于抽气管间的抽气均一性会有更高的要求，且抽气管路增多，使得抽气管出现问题的概率增大，保养频率也随之增加。
技术实现思路
为了解决现有技术中的挡板造成的阵列基板抽气不均匀导致中心处抽气不良问题，本专利技术提出了一种挡板，并进一步提出了一种包含该挡板的真空干燥机。本专利技术提出的挡板，包括第一板面和第二板面，所述第一板面与所述第二板面相对平行设置，所述挡板的中心区域设置有穿过所述第一板面和所述第二板面的孔洞。由于阵列基板的中心处抽气不良，所以当阵列基板正上方的挡板的中心区域设置孔洞后，排气管道可直接从挡板的中心处对阵列基板进行抽气干燥，使得阵列基板中心区域的气流路径缩短，很好的改善了阵列基板中心区域的抽气效果，使得阵列基板上方的气流更加均匀。作为对本专利技术的进一步改进，所述孔洞的截面呈“X”型，且沿所述第一板面的法线方向观测，所述挡板呈正四边形，所述孔洞的两条对角边分别沿所述挡板的两条对角线方向设置，进一步，所述孔洞的对称轴与所述挡板的对称轴重合。从气流的模拟效果图中可以看出，由于阵列基板呈长方形，所以沿长方形阵列基板的边角区向中心处气流减弱，且气流流速变化呈现出类似“十”字型，为了改善气流不均衡的问题，当如上设置挡板中心处的孔洞时，减小了挡板在中心区域的遮挡面积，使得阵列基板对角线处和中心区域的挥发气体可以直接经过孔洞进入排气管道，缩短了中心区域挥发气体的流动路径，大大改善了阵列基板中心区域处的气体流速，使得阵列基板上方的气流更加均匀，避免中心区域由于抽气不良导致的缺陷。在本专利技术的一个实施例中，所述孔洞的周面与所述第一板面垂直，这种设置，有利于挡板的加工制造。在本专利技术的一个实施例中，从第二板面至第一板面，所述孔洞的周面的横截面沿所述第一板面的法线方向逐渐缩小，由于靠近阵列基板处的挥发气体浓度较高，这种设置，当对阵列基板进行干燥时，可以使挡板的第二板面正对阵列基板的干燥面，从而使得靠近阵列基板处的孔洞较大，更有利于浓度较高的气体通过孔洞，且由于孔洞的周面与第二板面呈一坡度，避免在第二板面与孔洞的周面处形成死角，从而避免了挥发气体形成涡流对基板的光刻胶面造成冲击，进一步防止了缺陷的发生。优选地，所述孔洞的周面与所述第一板面的夹角呈30度。作为对挡板的进一步改进，从第二板面至第一板面，所述挡板的外周面的横截面沿所述第一板面的法线方向逐渐增大，优选地，所述挡板的外周面与所述第一板面的夹角呈30度。这样设置，挡板的外周面成为斜面，不再是直角，这就缓冲了沿挡板周边的气流流速，使得气流流通更平缓、顺畅，防止挡板周边边缘抽气过快导致溶剂突沸，提高了干燥的效率。本专利技术同时提出了一种真空干燥机，包括基台、气室和排气管道，还包括本专利技术提出的挡板，其中，待干燥的阵列基板设置在所述基台上，阵列基板的待干燥面朝向所述排气管道，所述挡板设置在阵列基板的正上方，且所述挡板的第二板面与阵列基板的待干燥面相对设置，所述挡板的第一板面朝向所述排气管道。上述真空干燥机，由于使用了本专利技术提出的挡板，使得阵列基板上的气流更均匀，由于挡板中心处的孔洞的设置，避免了阵列基板中心处抽气不良，使得抽气更均匀，进一步提高了真空干燥机的效率，提高了产品的品质。附图说明在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。其中：图1为现有技术中真空干燥机及挡板的工作原理示意图；图2为图1所示的阵列基板上方的气流模拟效果图；图3为图1中的真空干燥机导致基板中心抽气不良出现缺陷示意图；图4为图2的气流补充图像示意图；图5为本专利技术提出的挡板示意图；图6为图5的挡板剖面图；图7为第二个实施例的挡板的剖面图；图8为本专利技术提出的真空干燥机结构示意图；图9a为使用现有技术的挡板的阵列基板上方的气流模拟效果图；图9b为使用本专利技术的挡板的阵列基板上方的气流模拟效果图。在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例。具体实施方式下面将结合附图，对本专利技术的内容作出进一步的说明，以下内容为本专利技术的优选实施方式，不应理解为对本
技术实现思路
的限制。针对图1中的挡板导致的阵列基板上方气流不均的问题，根据图2所示效果图，经过研究，可以采用一种对图2所示效果进行气流补充的方法，即在挡板的中心区域增设孔洞，经过多次试验验证，发现当增设的孔洞与图2中中心区域23相匹配时，如图4所示效果，可以均衡阵列基板上方的气流，再经过多次研究，提出了本专利技术中的挡板，可以更好的均衡阵列基板上方的气流。实施例一：如图5为本专利技术提出的第一种挡板23的示意图，图6为图5的A-A截面图，结合图5和图6，挡板23包括第一板面233、第二板面234，第一板面233和第二板面234相对平行设置，且第一板面233和第二板面234分别设置在挡板23的两侧，沿第一板面的法线方向观测，挡板23的中心区域有穿过第一板面233和第二板面234的孔洞232，如图5所示，孔洞232穿过第一板面233和第二面板234，其中，孔洞232的大小可根据实际进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种挡板，其特征在于，包括第一板面和第二板面，所述第一板面与所述第二板面相对平行设置，所述挡板的中心区域设置有穿过所述第一板面和所述第二板面的孔洞。

【技术特征摘要】
1.一种挡板，其特征在于，包括第一板面和第二板面，所述第一板面与所述第二板面相对平行设置，所述挡板的中心区域设置有穿过所述第一板面和所述第二板面的孔洞。2.根据权利要求1所述的挡板，其特征在于，所述孔洞的截面呈“X”型。3.根据权利要求2所述的挡板，其特征在于，沿所述第一板面的法线方向观测，所述挡板呈正四边形，所述孔洞的两条对角线分别沿所述挡板的两条对角线方向设置。4.根据权利要求3所述的挡板，其特征在于，所述孔洞的对称轴与所述挡板的对称轴重合。5.根据权利要求1至4任一项所述的挡板，其特征在于，所述孔洞的周面与所述第一板面垂直。6.根据权利要求1至4任一项所述的挡板，其特征在于，从第二板面至第一板面，所述孔洞的周面...

【专利技术属性】
技术研发人员：许可，徐彬，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42