一种蒸镀源、蒸镀装置及其蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术的实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及其蒸镀方法，涉及显示技术领域，可提高蒸镀的均一性。所述蒸镀源，包括坩埚盖，喷嘴设置在所述坩埚盖上，且所述喷嘴超出所述坩埚盖的外表面；还包括第一控制结构，所述第一控制结构带动所述喷嘴相对所述坩埚盖匀速原地转动。

Evaporation source, evaporation device and evaporation method thereof

The embodiment of the invention provides a vapor deposition source, a vapor deposition device and a vapor deposition method thereof, relating to the display technology field, and improving the uniformity of evaporation. The evaporation source, including the crucible cover, the nozzle is arranged in the crucible, and the nozzle beyond the outer surface of the crucible lid; also includes a first control structure, the first control structure drives the nozzle relative to the crucible cover uniform in-situ rotation.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀源、蒸镀装置及其蒸镀方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种蒸镀源、蒸镀装置及其蒸镀方法。
技术介绍
目前，OLED显示器件因具有制作工艺简单、颜色可调、功耗低等诸多优点，在显示和照明领域都是开发与投资的热点。随着OLED显示器件的用途愈加广泛，其制作工艺也日趋成熟。当前，OLED显示器件常用的制作方法包括蒸镀、喷墨打印、热传印等多种方式。在这些制作方法中，蒸镀方式是一种比较成熟的方法，且已经运用于量产。但是采用现有技术中的蒸镀装置进行蒸镀时，有机分子从蒸镀源中喷出后，呈中间多外围少的状态，使得蒸镀的均一性较差，从而导致OLED显示器件的亮度均一性较差。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及其蒸镀方法，可提高蒸镀的均一性。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种蒸镀源，包括坩埚盖，喷嘴设置在所述坩埚盖上，且所述喷嘴超出所述坩埚盖的外表面；还包括第一控制结构，所述第一控制结构带动所述喷嘴相对所述坩埚盖匀速原地转动。优选的，所述第一控制结构与所述喷嘴一一对应。优选的，所述蒸镀源还包括第二控制结构和固定在所述喷嘴内部的疏通部件；所述第二控制结构用于带动所述疏通部件在所述喷嘴内上下移动。进一步优选的，所述喷嘴的内壁和外壁之间具有中空部分，所述中空部分围绕所述内壁一圈设置，所述第二控制结构设置在所述中空部分。进一步优选的，所述第二控制结构包括至少一个电磁铁，所述疏通部件包括至少一个弹簧。进一步优选的，所述弹簧为多个，多个所述弹簧在所述喷嘴内由上到下依次排布。第二方面，提供一种蒸镀装置，包括第一方面所述的蒸镀源。第三方面，提供一种如第二方面所述的蒸镀装置的蒸镀方法，所述方法包括：当蒸镀时，第一控制结构带动喷嘴以第一预设转速沿第一方向相对坩埚盖原地匀速转动；其中，所述第一方向为顺时针方向或逆时针方向。优选的，所述方法还包括：当疏通喷嘴时，所述第一控制结构带动所述喷嘴以第二预设转速沿第二方向相对所述坩埚盖原地转动；所述第二方向与所述第一方向相反；其中，所述第二预设转速大于等于所述第一预设转速。基于上述，优选的，所述方法还包括：当疏通喷嘴时，第二控制结构带动疏通部件在所述喷嘴内上下移动。本专利技术实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及其蒸镀方法，通过在蒸镀源上设置第一控制结构，当蒸镀工艺进行时，第一控制结构带动喷嘴相对坩埚盖匀速原地转动，这样一来，待喷出的有机分子在喷嘴内充分混合后再从喷嘴喷出，使得喷出的有机分子更加均匀，从而提高了蒸镀成膜的均一性。在此基础上，由于喷嘴旋转，在离心力作用下使得从喷嘴喷出的有机分子的范围更广，从而可加大蒸镀源的成膜保证区面积。此外，由于整个蒸镀过程中喷嘴处于旋转状态，使得有机分子无法在某一位置大量积累，从而可以减少蒸镀过程中喷嘴堵塞的概率。进一步的，若喷嘴发生堵塞，第一控制结构通过控制喷嘴反向旋转，使堵塞在喷嘴内的有机材料在反向离心力的作用下松动掉落，从而达到疏通喷嘴的效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图一；图2为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图二；图3为现有技术提供的蒸镀源的蒸镀效果的示意图；图4为本专利技术实施例提供的蒸镀源的蒸镀效果的示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种喷嘴的结构示意图一；图6为本专利技术实施例提供的一种喷嘴的结构示意图二；图7为本专利技术实施例提供的一种喷嘴的结构示意图三；图8为本专利技术实施例提供的一种喷嘴的结构示意图四。附图标记10-坩埚盖；20-喷嘴；21-内壁；22-外壁；30-第一控制结构；40-第二控制结构；50-疏通部件。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种蒸镀源，如图1和图2所示，包括坩埚盖10，喷嘴20设置在坩埚盖10上，且喷嘴20超出坩埚盖10的外表面；还包括第一控制结构30，第一控制结构30带动喷嘴20相对坩埚盖10匀速原地转动。需要说明的是，第一，本专利技术实施例不对喷嘴20在坩埚盖10上的具体位置进行限定，例如，如图1所示，若本专利技术实施例提供的蒸镀源为点源式蒸镀源，则喷嘴20可以设置在坩埚盖10的中心；如图2所示，若本专利技术实施例提供的蒸镀源为线源式蒸镀源，则喷嘴20可以在坩埚盖10上均匀排布。其中，不对喷嘴20的具体形状进行限定，图1和图2中喷嘴20的形状仅为示意。此外，本领域技术人员应该明白，第一控制结构30带动喷嘴20相对坩埚盖10原地转动时，应保持蒸镀源内部处于密封状态。第二，喷嘴20超出坩埚盖10的外表面，即，如图1和图2所示，喷嘴20的上表面高出坩埚盖10的上表面。其中，本领域技术人员应该明白，待蒸镀材料要从喷嘴20喷出，坩埚盖10与喷嘴10对应位置处应设置有通孔，且喷嘴20为两端开口的中空结构，喷嘴20可以从坩埚盖10的内表面一侧穿过通孔延伸至超出坩埚盖10的外表面，也可以直接设置在坩埚盖10的外表面，喷嘴20的中空部分与通孔对应，当然还可以是其他设置方式。第三，本专利技术实施例不对第一控制结构30进行具体限定，例如可以但不限于是电机。其中，不对第一控制结构30与喷嘴20的链接方式进行限定，能够带动喷嘴20进行转动即可，例如可以但不限于是通过电机的转轴直接带动喷嘴20进行转动。此外，不对第一控制结构30的具体设置位置进行限定，如图1和图2所示，可以但不限于设置在坩埚盖10上。再者，不对第一控制结构30与喷嘴10的对应关系进行限定，图2中以第一控制结构30与喷嘴10一一对应进行示意，当然，也可以是一个控制结构30同时控制多个喷嘴10。第四，第一控制结构30带动喷嘴20相对坩埚盖10匀速原地转动，喷嘴20原地转动是指，在图1和图2所示的蒸镀源的视角下，喷嘴20在转动时，不会相对坩埚盖10发生左右移动或者前后移动，只会沿平行于坩埚盖10的平面发生顺时针或逆时针转动。喷嘴20匀速转动是指，喷嘴20在沿同一方向转动时是以同一速度转动。即，喷嘴20顺时针转动过程中，以第一速度转动；喷嘴20逆时针转动过程中，以第二速度转动。第一速度与第二速度可以相等，也可以不相等。喷嘴20的转速由第一控制结构30控制。第五，如图3所示，蒸镀工艺进行时，喷嘴20不旋转，喷出到基板上的成膜保证区的面积基本等于喷嘴20的中空部分的面积。如图4所示，蒸镀工艺进行时，第一控制结构30控制喷嘴20旋转，则在离心力作用下，喷出到基板上的成膜保证区的面积会明显大于喷嘴20的中空部分的面积。本专利技术实施例提供一种蒸镀源，通过在蒸镀源上设置第一控制结构30，当蒸镀工艺进行时，第一控制结构30带动喷嘴20相对坩埚盖10匀速原地转动，这样一来，待喷出的有机分子在喷嘴20内充分混合后再从喷嘴20喷出，使得喷出的有机分子更本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀源，包括坩埚盖，喷嘴设置在所述坩埚盖上，且所述喷嘴超出所述坩埚盖的外表面；其特征在于，还包括第一控制结构，所述第一控制结构带动所述喷嘴相对所述坩埚盖匀速原地转动。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀源，包括坩埚盖，喷嘴设置在所述坩埚盖上，且所述喷嘴超出所述坩埚盖的外表面；其特征在于，还包括第一控制结构，所述第一控制结构带动所述喷嘴相对所述坩埚盖匀速原地转动。2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述第一控制结构与所述喷嘴一一对应。3.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，还包括第二控制结构和固定在所述喷嘴内部的疏通部件；所述第二控制结构用于带动所述疏通部件在所述喷嘴内上下移动。4.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷嘴的内壁和外壁之间具有中空部分，所述中空部分围绕所述内壁一圈设置，所述第二控制结构设置在所述中空部分。5.根据权利要求4所述的蒸镀源，其特征在于，所述第二控制结构包括至少一个电磁铁，所述疏通部件包括至少一个弹簧。6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾文斌，孙力，王欣欣，彭锐，万想，任军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11