一种OLED薄膜封装结构及方法技术

一种OLED薄膜封装结构，TFT基板、OLED、第一阻挡层、第一缓冲层以及第二阻挡层；其中，所述OLED设置在所述TFT基板上，所述第一阻挡层设置在OLED四周和上表面，第一缓冲层设置在所述第一阻挡层的上表面，第二阻挡层包覆第一阻挡层和第一缓冲层。一种OLED薄膜封装方法，包括以下步骤：用第一模具制备第一阻挡层；用第一模具制备第一缓冲层；用第二模具制备第二阻挡层。通过将原本设置在阻挡层四周的缓冲层去掉，仅仅在阻挡层上表面设置缓冲层，可以减少模具更换的次数，降低颗粒的个数，提高薄膜封装的效果。

OLED film packaging structure and method

A OLED thin film encapsulation structure, TFT substrate, OLED, the first barrier layer, a first buffer layer and a second barrier layer; wherein, the OLED is arranged on the TFT substrate, the first barrier layer is disposed on the upper surface and around the OLED, the first buffer layer is arranged on the upper surface of the first barrier layer. The second barrier layer covers the first barrier layer and a first buffer layer. A OLED film packaging method comprises the following steps: a first barrier layer is prepared by a first mold; a first buffer layer is prepared with a first mold; and a second barrier layer is prepared with a second mold. By removing the buffer layer which is originally arranged around the barrier layer, the buffer layer is arranged on the upper surface of the barrier layer, the number of the replacement of the die can be reduced, the number of particles can be reduced, and the effect of the film package can be improved.

【技术实现步骤摘要】
一种OLED薄膜封装结构及方法
本专利技术是应用于液晶显示领域的一种OLED薄膜封装的结构及方法。
技术介绍
OLED显示器是新一代的显示器，通过在OLED基板上制作有机薄膜，其中有机薄膜被包在阴极和阳极金属之间，给两电极加电压，则有机薄膜会发光。OLED显示器有诸多优点，其中包括可实现灵活的(flexible)显示。如以可绕曲的塑胶基板等为载体，再配合薄膜封装制程，即可实现可绕曲的OLED面板。目前OLED薄膜封装主要采用阻挡层(barrierlayer)和缓冲层(bufferlayer)叠层的结构，如图1所示(3层结构)：包括设置在TFT基板1上的OLED2、包覆OLED2的阻挡层3、包覆阻挡层3的缓冲层4以及包覆缓冲层的最外层阻挡层5。阻挡层采用无机材料，如氮化硅材料；缓冲层常采用有机或偏有机类材料。阻挡层起到阻隔水氧的作用；缓冲层主要为消除两层阻挡层间的应力，覆合不良和针孔等作用。阻挡层及缓冲层均可由等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)机台制备。此时PECVD机台需配备模具(mask)，模具覆盖在OLED器件上，制程气体会透过模具开口区在OLED器件上生成薄膜，将OLED器件与外界空气隔离，从而达到薄膜封装的目的。为避免OLED器件侧面有水氧入侵，需后一层薄膜面积大于前一层，保证OLED器件侧面与顶部有同样多的薄膜层数的保护，如图2(a)、图2(b)、图2(c)、图2(d)和图2(e)所示，分别现有的OLED薄膜封装方法制备的五个步骤，依次在OLED上覆盖阻挡层和缓冲层，在图2(a)中，在OLED上覆盖一层阻挡层，在图2(b)中，在图2(a)的基础上覆盖一层缓冲层，以此类推，这样就需要后一层薄膜沉积用的模具开口区域大于前一层的，以5层薄膜结构为例，则需要5张不同的模具，单腔体同时制备两种薄膜时需更换4次模具(第1张已在机台中)，因目前PECVD对于阻挡层和缓冲层均可制备，所以许多单位在研发阶段为成本考量，只配备单个制程腔体用来同时制备两种薄膜，如此除需承担两种膜质间的相互污染外，还需要频繁更换模具(每制作一层薄膜需要更换一次模具)，频繁更换模具必然会带来大量颗粒，而颗粒被视为影响薄膜封装效果最主要的因素之一，水氧会从颗粒边缘缝隙侵入，减少颗粒数量对薄膜封装至关重要。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有设备频繁更换模具带来大量颗粒影响薄膜封装效果的缺点，减少模具的更换带来的薄膜封装效果不佳。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。一种OLED薄膜封装结构，包括：TFT基板、OLED、第一阻挡层、第一缓冲层以及第二阻挡层；其中，所述OLED设置在所述TFT基板上，所述第一阻挡层设置在OLED四周和上表面，第一缓冲层设置在所述第一阻挡层的上表面，第二阻挡层包覆第一阻挡层和第一缓冲层。所述的OLED薄膜封装结构，其中，设置在OLED四周的第一阻挡层的厚度等于设置在OLED上表面的第一阻挡层与第一缓冲层的厚度之和。所述的OLED薄膜封装结构，其中，还包括设置在第二阻挡层上表面的第二缓冲层以及包覆第二缓冲层与第二阻挡层的第三阻挡层。所述的OLED薄膜封装结构，其中，设置在第一阻挡层和第一缓冲层四周的第二阻挡层的厚度等于第二缓冲层与设置在第一缓冲层上表面的第二阻挡层的厚度之和。所述的OLED薄膜封装结构，其中，设置在OLED上表面的第一阻挡层的厚度与第一缓冲层的厚度相同。所述的OLED薄膜封装结构，其中，设置在第二缓冲层上表面的第二阻挡层的厚度与第二缓冲层的厚度相同。一种OLED薄膜封装方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)、用第一模具制备第一缓冲层和第一阻挡层；(2)、用第二模具制备第二阻挡层；(3)、将OLED设置在TFT基板上；(4)、将第一阻挡层设置在OLED四周和上表面(5)、将第一缓冲层设置在阻挡层上表面；(6)、将第二阻挡层覆盖在第一缓冲层和第一阻挡层四周和上表面。所述的OLED薄膜封装方法，还包括以下步骤：(7)、用第二模具制备第二缓冲层；(8)、用第三模具制备第三阻挡层；(9)、将第二缓冲层设置在第二阻挡层上表面；(10)、将第三阻挡层设置在第二阻挡层和第二缓冲层的四周和上表面。所述的OLED薄膜封装方法，其中，第二模具的开口尺寸大于第一模具的开口尺寸。所述的OLED薄膜封装方法，其中，第三模具的开口尺寸大于第二模具的开口尺寸通过将原本设置在阻挡层四周的缓冲层去掉，仅仅在阻挡层上表面设置缓冲层，可以减少模具更换的次数，降低颗粒的个数，提高薄膜封装的效果。增加设置在OLED四周的阻挡层的厚度，保证原有膜的总厚度不改变，不影响阻挡作用。附图说明在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。其中：图1是现有技术OLED三次薄膜封装结构示意图图2(a)是现有技术OLED薄膜封装方法步骤1的示意图图2(b)是现有技术OLED薄膜封装方法步骤2的示意图图2(c)是现有技术OLED薄膜封装方法步骤3的示意图图2(d)是现有技术OLED薄膜封装方法步骤4的示意图图2(e)是现有技术OLED薄膜封装方法步骤5的示意图图3是本专利技术OLED三层薄膜封装结构示意图。图4是本专利技术OLED五层薄膜封装结构示意图。在附图中，相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术作进一步说明。如图3所示，为本专利技术OLED三层薄膜封装结构示意图，包括：TFT基板1和设置在TFT基板上的OLED2。在所述OLED四周和上表面设置有第一阻挡层31，在所述第一阻挡层31上表面设置有第一缓冲层41，包覆第一阻挡层31和第一缓冲层41还设置有第二阻挡层32。其中，设置在机发光二极管2四周的第一阻挡层的厚度等于设置在机发光二极管2上表面的第一阻挡层与第一缓冲层的厚度之和。而设置在OLED2上表面的第一阻挡层的厚度与所述第一缓冲层的厚度一致。这样的设置，通过增加设置在OLED2四周的阻挡层厚度，使设置在OLED四周的膜厚厚度不便，起到更好的阻挡作用。也就是说，在平行于OLED上表面方向上的三层膜的厚度之和与现有技术的平行于OLED上表面方向上的三层膜的厚度之和相同。平行于OLED四周方向上的两层膜的厚度与现有技术的平行于OLED四周方向上的两层膜的厚度相同。缓冲层是有机材料，质地偏软，能够消除两层阻挡层间的应力，覆合不良和针孔。如图2所示，为本专利技术OLED五层薄膜封装结构示意图，包括TFT基板1和设置在TFT基板1上的OLED2。在所述OLED2四周和上表面设置有第一阻挡层31，在所述第一阻挡层31上表面设置有第一缓冲层41，包覆第一阻挡层31和第一缓冲层41还设置有第二阻挡层32。还包括设置在第二阻挡层32上表面的第二缓冲层42以及包覆第二缓冲层42与第二阻挡层32的第三阻挡层33。其中，设置在第一阻挡层31和第一缓冲层41四周的第二阻挡层的厚度等于第二缓冲层42与设置在第一缓冲层41上表面的第二阻挡层的厚度之和。设置在第二缓冲层42上表面的第二阻挡层的厚度与第二缓冲层42的厚度相同。增加设置在第一阻挡层四周的第二阻挡层的厚度，使设置在OLED四周的膜厚厚度不便，起到更好的阻挡作用。在平行于OLED上表面方向上的五层膜的厚度之和与现有技术的平行于OLED上表面方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED薄膜封装结构，其特征在于，包括:TFT基板、OLED、第一阻挡层、第一缓冲层以及第二阻挡层；其中，所述OLED设置在所述TFT基板上，所述第一阻挡层设置在OLED四周和上表面，第一缓冲层设置在所述第一阻挡层的上表面，第二阻挡层包覆第一阻挡层和第一缓冲层。

【技术特征摘要】
1.一种OLED薄膜封装结构，其特征在于，包括:TFT基板、OLED、第一阻挡层、第一缓冲层以及第二阻挡层；其中，所述OLED设置在所述TFT基板上，所述第一阻挡层设置在OLED四周和上表面，第一缓冲层设置在所述第一阻挡层的上表面，第二阻挡层包覆第一阻挡层和第一缓冲层。2.根据权利要求1所述的OLED薄膜封装结构，其特征在于，设置在OLED四周的第一阻挡层的厚度等于设置在OLED上表面的第一阻挡层与第一缓冲层的厚度之和。3.根据权利要求1所述的OLED薄膜封装结构，其特征在于：还包括设置在第二阻挡层上表面的第二缓冲层以及包覆第二缓冲层与第二阻挡层的第三阻挡层。4.根据权利要求3所述的OLED薄膜封装结构，其特征在于：设置在第一阻挡层和第一缓冲层四周的第二阻挡层的厚度等于第二缓冲层与设置在第一缓冲层上表面的第二阻挡层的厚度之和。5.根据权利要求1所述的OLED薄膜封装结构，其特征在于：设置在OLED上表面的第一阻挡层的厚度与第一缓冲层的厚度相同。6.根据权利要求3所述的OLE...

【专利技术属性】
技术研发人员：余威，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42