一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片和镀膜层，透过率在50％左右，镀膜层采用扩散系数很低的氮化硅膜层作为保护层，并依次溅射相应厚度的金属镍铬层、金属银层、金属镍铬层、氮化硅层，有较好的稳定性，针孔密度非常低，磁控溅射沉积的氮化硅膜层致密、平整且硬度很高，对可动离子有非常强的阻挡能力，在1200℃时不发生氧化，有较好的抗蚀性，膜层在钢化炉中进行高温热处理时而不受损坏，保持了原有的热工性能。实现了离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃耐高温、高隔热，强阻隔红外线的性能，并实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工。

Off line toughened fifty transmittance low radiation coated glass and preparation method thereof

The invention discloses an off-line temperable Low-E glass fifty transmittance and a preparation method thereof, which comprises a glass substrate and a coating layer, the transmittance at around 50%, the coating layer by diffusion coefficient of low silicon nitride film as a protective layer, and then the corresponding thickness of metal sputtering nickel chromium layer and silver layer the metal nickel layer, a silicon nitride layer has a good stability and very low pinhole density, magnetron sputtering deposition of silicon nitride film is dense and smooth and the hardness is very high, with barrier capability is very strong on mobile ions, oxidation does not occur at 1200 DEG C, has better corrosion resistance, film processing and the damaged heat in tempering furnace, maintain the thermal performance of the original. The utility model has the advantages of off-line, toughened fifty, low transmittance, high temperature resistance, high heat insulation, strong insulation and strong infrared blocking performance, and realizes remote remote cutting, grinding, tempering and hollow processing.

【技术实现步骤摘要】
一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术涉及玻璃及其制备领域，尤其涉及一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是指对红外辐射具有高反射率，对可见光具有良好透射率的平板镀膜玻璃，低辐射镀膜玻璃具有良好的透光，辐射、隔热性能，广泛应用于窗户、冷藏柜门等地方。低辐射镀膜玻璃一般包括玻璃基体和镀膜层，镀膜层在很大程度上决定了低辐射膜的性能。现有的低辐射镀膜玻璃存在透过率与红外线阻隔效果以及隔热效果难以兼顾的缺点，通常存在红外线阻隔效果差，隔热功效不好且异地化后续深加工难以实现的问题。因此，需要一种新的技术方案去解决上述问题。
技术实现思路
专利技术目的：为了克服现有技术中存在的问题，本专利技术提出了一种透过率在50％、对红外线阻隔效果好，隔热功效佳，同时能够实现异地化后续深加工的离线可钢化五十透过率镀膜玻璃及其制备方法。技术方案：为了解决上述技术问题，本专利技术所采用的技术方案为：一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氮化硅层组成；所述第一氮化硅层的厚度为30-40nm、所述第一金属镍铬层的厚度为15-20nm、所述金属银层的厚度为10-15nm、所述第二金属镍铬层的厚度为15-20nm、所述第二氮化硅层的厚度为55-65nm。为了获得更加的性能，所述玻璃基片的厚度为3-15mm。更进一步的，所述玻璃基片的厚度为6mm。为了获得最优的镀膜玻璃片的品质，所述第一氮化硅层的厚度为38nm、所述第一金属镍铬层的厚度为18nm、所述金属银层的厚度为15nm、所述第二金属镍铬层的厚度为18nm、所述第二氮化硅层的厚度为60nm。本专利技术还公开了上述离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为3.5m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为85-100KW，在玻璃基片上溅射第一层厚度为30-40nm的第一氮化硅层；(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为5-6KW，在玻璃基片上溅射第二层厚度为15-20nm的第一金属镍铬层；(5)设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-5KW，在玻璃基片上溅射第三层厚度为10-15nm的金属银层；(6)设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为5-6KW，在玻璃基片上溅射第四层厚度为15-20nm的第二金属镍铬层；(7)设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为155-170KW，在玻璃基片上溅射第五层厚度为55-65nm的第二氮化硅层；即得所需离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃。更为优选的，所述步骤(1)中选择厚度为6mm的玻璃基片。在一些实施方式中，所述步骤(3)中在玻璃基片上溅射的第一氮化硅层的厚度为38nm、步骤(4)中在玻璃基片上溅射的第一金属镍铬层的厚度为18nm、步骤(5)中在玻璃基片上溅射的金属银层的厚度为15nm、步骤(6)中在玻璃基片上溅射的第二金属镍铬层的厚度为18nm、步骤(7)中在玻璃基片上溅射的第二氮化硅层的厚度为60nm。更为优选的，所述步骤(3)中设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为90KW、步骤(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为5KW、步骤(5)中设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.5KW、步骤(6)中设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为5KW、步骤(7)中设置第五高真空磁控溅射镀膜设备的功率为160KW。有益效果：本专利技术提供的一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片和镀膜层，透过率在50％左右，镀膜层采用扩散系数很低的氮化硅膜层作为保护层，并依次溅射相应厚度的金属镍铬层、金属银层、金属镍铬层、氮化硅层，有较好的稳定性，针孔密度非常低，磁控溅射沉积的氮化硅膜层致密、平整且硬度很高，对可动离子有非常强的阻挡能力，在1200℃时不发生氧化，有较好的抗蚀性，膜层在钢化炉中进行高温热处理时而不受损坏，保持了原有的热工性能。实现了离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃耐高温、高隔热，强阻隔红外线的性能，并实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工。附图说明图1为本专利技术具体实施方式离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃镀膜层的截面结构示意图。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步的详细说明：实施例1：一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层1、第一金属镍铬层2、金属银层3、第二金属镍铬层4、第二氮化硅层5组成。为了获得更加的性能，所述玻璃基片的厚度为6mm。为了获得最优的镀膜玻璃片的品质，所述第一氮化硅层1的厚度为38nm、所述第一金属镍铬层2的厚度为18nm、所述金属银层3的厚度为15nm、所述第二金属镍铬层4的厚度为18nm、所述第二氮化硅层5的厚度为60nm。上述离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择6mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为3.5m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为90KW，在玻璃基片上溅射第一层厚度为38nm的第一氮化硅层1；(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为5KW，在玻璃基片上溅射第二层厚度为18nm的第一金属镍铬层2；(5)设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.5KW，在玻璃基片上溅射第三层厚度为15nm的金属银层3；(6)设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为5KW，在玻璃基片上溅射第四层厚度为18nm的第二金属镍铬层4；(7)设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为160KW，在玻璃基片上溅射第五层厚度为60nm的第二氮化硅层5；即得所需离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃。实施例2：一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层1、第一金属镍铬层2、金属银层3、第二金属镍铬层4、第二氮化硅层5组成。为了获得更加的性能，所述玻璃基片的厚度为3mm。为了获得最优的镀膜玻璃片的品质，所述第一氮化硅层1的厚度为30nm、所述第一金属镍铬层2的厚度为15nm、所述金属银层3的厚度为10nm、所述第二金属镍铬层4的厚度为15nm、所述第二氮化硅层5的厚度为55nm。上述离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：(1)选择3mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为3.5m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为85KW，在玻璃基片上溅射第一层厚度为30nm的第一氮化硅层1；(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为5.5KW，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层(1)、第一金属镍铬层(2)、金属银层(3)、第二金属镍铬层(4)、第二氮化硅层(5)组成；所述第一氮化硅层(1)的厚度为30‑40nm、所述第一金属镍铬层(2)的厚度为15‑20nm、所述金属银层(3)的厚度为10‑15nm、所述第二金属镍铬层(4)的厚度为15‑20nm、所述第二氮化硅层(5)的厚度为55‑65nm。

【技术特征摘要】
1.一种离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层(1)、第一金属镍铬层(2)、金属银层(3)、第二金属镍铬层(4)、第二氮化硅层(5)组成；所述第一氮化硅层(1)的厚度为30-40nm、所述第一金属镍铬层(2)的厚度为15-20nm、所述金属银层(3)的厚度为10-15nm、所述第二金属镍铬层(4)的厚度为15-20nm、所述第二氮化硅层(5)的厚度为55-65nm。2.根据权利要求1所述的离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为3-15mm。3.根据权利要求2所述的离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为6mm。4.根据权利要求1所述的离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化硅层(1)的厚度为38nm、所述第一金属镍铬层(2)的厚度为18nm、所述金属银层(3)的厚度为15nm、所述第二金属镍铬层(4)的厚度为18nm、所述第二氮化硅层(5)的厚度为60nm。5.如权利要求1所述的离线可钢化五十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤：(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为3.5m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为85-100KW，在玻璃基片上溅射第一层厚度为30-40nm的第一氮化硅层(1)；(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为5-...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄林冲，顾海波，徐庆，周京，陈俊，单志刚，
申请(专利权)人：江苏奥蓝工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32