一种电子产品金属壳体及其表面处理方法技术

本发明专利技术公开一种电子产品金属壳体及其表面处理方法，其在，电子产品金属壳体的表面处理方法包括步骤：A、对金属壳体进行T处理；B、将T处理后的金属壳体与塑胶进行NMT处理；C、将NMT处理后的金属壳体进行第一次抛光处理，并进行第一次清洗，再进行第一次烘干处理；D、将上述步骤C后的金属壳体进行渐变激光镭雕处理；F、将进行渐变激光镭雕处理后的金属壳体进行表面镀膜处理，再利用浸泡超声波法或高压水冲淋法进行第二次清洗，第二次清洗完成后进行第二次烘干处理。本发明专利技术解决了现有技术对金属机身进行表面处理存在着刀具磨损、容易造成表面污染、工艺繁琐，效率低下等问题。

【技术实现步骤摘要】
一种电子产品金属壳体及其表面处理方法
本专利技术涉及电子产品的表面处理工艺领域，尤其涉及一种电子产品金属壳体及其表面处理方法。
技术介绍
现在手机行业竞争残酷，系统和软件设计及体验也几乎一致，产品的差异化日渐减小。现在各大手机厂商都在从ID和CMF方面下足功夫来进行差异化吸引用户的眼球。其中对于大部分厂商来说，CMF是一个容易差异化，成本底，产品多样化的一个入口，金属机身流行的当下，正面都是触摸屏幕，可塑性不佳，那么在背面（电池盖）做一些差异化的表面处理就能够做为一个创新点了。但是利用传统的机械加工曲面工艺对金属机身进行表面处理存在着刀具磨损的问题，化学刻蚀工艺需要利用菲林曝光油墨进行遮蔽，清洁困难，容易造成表面污染，而传统的镭雕打标工艺则需要多次加工才能形成不同的曲面，工艺繁琐，效率低下。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种电子产品金属壳体及其表面处理方法，旨在解决现有技术对金属机身进行表面处理存在着刀具磨损、容易造成表面污染、工艺繁琐，效率低下等问题。本专利技术的技术方案如下：一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，包括步骤：A、对金属壳体进行T处理；B、将T处理后的金属壳体与塑胶进行NMT处理；C、将NMT处理后的金属壳体进行第一次抛光处理，并进行第一次清洗，再进行第一次烘干处理；D、将上述步骤C后的金属壳体进行渐变激光镭雕处理；F、将进行渐变激光镭雕处理后的金属壳体进行表面镀膜处理，再利用浸泡超声波法或高压水冲淋法进行第二次清洗，第二次清洗完成后进行第二次烘干处理。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述步骤D中，渐变激光镭雕处理采用激光波长1064nm、工作电流10-18A、功率密度为107~109w/cm²。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述步骤D的具体包括步骤：D1、设置激光镭雕机镭雕图案及参数；D2、装夹待镭雕金属壳体；D3、调整激光焦距；D4、执行渐变激光镭雕；D5、已雕产品下夹具。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述金属为铝、镁、铜、不锈钢、钛、铁、镀锌板、黄铜中的任一种，所述塑胶为PPS、PBT、PA6、PA66、PPA中的任一种。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述第一次清洗具体包括：对第一次抛光处理后的金属壳体进行碱洗，然后使用酸液中和处理，再利用浸泡超声波法或高压水冲淋法进行清洗。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，在步骤D和F之间还包括步骤：对进行激光镭雕后的金属壳体进行第二次抛光处理，再进行喷砂处理。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述第二次抛光处理采用抛光轮或流体抛光或磁研磨抛光；所述喷砂处理采用铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海砂、陶瓷砂中的任意一种。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述步骤A中，T处理具体包括：先利用碱液浸泡金属壳体，去除表面杂质，然后利用酸液浸泡金属壳体以中和多余的碱液，再将金属壳体依次放在若干个T液处理槽中浸泡，每次浸泡2~4mins，最后进行清水冲洗并干燥处理。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其中，所述步骤A和B之间还包括一步骤：将T处理后的金属壳体在120℃~150℃条件下烘烤2~5h。一种电子产品金属壳体，其中，采用上述任一方法制备而成。有益效果：本专利技术通过将金属壳体进行T处理，然后与塑胶进行NMT处理，然后进行抛光及渐变激光镭雕处理，最后对金属壳体进行覆膜处理，金属与塑料一体成形，不但能够兼顾金属外观质感，也可以简化产品机构件设计，让产品更轻、薄、短、小，且较CNC工法更具成本优势，而且激光镭雕时图案采用渐变路径设计，不需要通过与材料的接触来进行，一次加工就可以在金属表面形成曲面过渡，达到金属3D纹理的工艺要求，解决了现有技术对金属机身进行表面处理存在着刀具磨损、容易造成表面污染、工艺繁琐，效率低下等问题。附图说明图1为本专利技术的电子产品金属壳体表面处理方法较佳实施例的流程图。具体实施方式本专利技术提供一种电子产品金属壳体及其表面处理方法，为使本专利技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。一种电子产品金属壳体的表面处理方法，如图1所示，包括步骤：S1、对金属壳体进行T处理；S2、将T处理后的金属壳体与塑胶进行NMT处理；S3、将NMT处理后的金属壳体进行第一次抛光处理，并进行第一次清洗，再进行第一次烘干处理；S4、将上述步骤S3处理后的金属壳体进行渐变激光镭雕处理；S5、将进行渐变激光镭雕处理后的金属壳体进行表面镀膜处理，再利用浸泡超声波法或高压水冲淋法进行第二次清洗，第二次清洗完成后进行第二次烘干处理。本专利技术利用激光镭雕技术处理金属壳体表面，一次加工就可以在金属表面形成曲面过渡，以达到金属3D纹理的工艺要求，而且将激光镭雕加工置于NMT之后，可避免T处理对纹理的不良影响，激光镭雕前需对机壳进行抛光，保证金属壳体表面镭雕定位的平整度。纳米注塑成型（NMT，即NanoMoldingTechnology)，是金属与塑料以纳米技术结合的工法，先将金属表面经过T处理化后，塑料直接射出成型在金属表面，让金属与塑料可以一体成形，不但能够兼顾金属外观质感，也可以简化产品机构件设计，让产品更轻、薄、短、小，且较CNC工法更具成本效益。较佳地，所述金属为铝、镁、铜、不锈钢、钛、铁、镀锌板、黄铜中的任一种。更佳地，所述金属为1000到7000系列的铝合金，1000到7000系列的铝合金适应性较强，NMT效果尤佳。较佳地，所述塑胶为PPS、PBT、PA6、PA66、PPA中的任一种，上述塑胶均具有较强的粘合强度，NMT效果较好，尤其是PPS，粘合强度可达3000N/c㎡。较佳地，所述步骤S1中，所述T处理具体包括：先利用碱液浸泡金属壳体30-60s，去除表面杂质，然后利用酸液浸泡金属壳体40-90s，以中和多余的碱液，再将金属壳体依次放在若干个T液处理槽中浸泡，每次浸泡2~4mins，（较佳地，浸泡时间为3mins），最后进行清水冲洗并干燥处理，T处理全制程需30分钟左右的处理时间，T处理结束后，可以在金属壳体表面形成直径为6-12nm的蜂窝状孔层，上述蜂窝状空层可使后续NMT注塑的塑胶如树根一样紧紧地抓牢金属，提高结合力。所述T处理液为现有技术，根据金属壳体材质适当选择市面上现有的，例如当金属壳体为铝合金壳体时，可采用采东莞昱澄化工科技有限公司提供的纳米T处理剂。较佳地，所述步骤S1和S2之间还包括步骤：将T处理后的金属壳体在120℃~150℃条件下烘烤2~5h，从而使得喷射在金属壳体上的塑胶材料更容易渗透入蜂窝状孔层中，进一步提高结合力。所述步骤S3中，第一次抛光处理为粗抛，以去除金属表面的毛刺与凸锋，目的是使工件表面粗糙度降低，以获得光滑平整表面。可选择机械抛光或化学抛光。采取机械抛光进行粗抛时，将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。金属材料或制件在配比合理的腐蚀剂、氧化剂、添加剂组成的抛光溶液中浸蚀，经发生一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其特征在于，包括步骤：A、对金属壳体进行T处理；B、将T处理后的金属壳体与塑胶进行NMT处理；C、将NMT处理后的金属壳体进行第一次抛光处理，并进行第一次清洗，再进行第一次烘干处理；D、将上述步骤C后的金属壳体进行渐变激光镭雕处理；F、将进行渐变激光镭雕处理后的金属壳体进行表面镀膜处理，再利用浸泡超声波法或高压水冲淋法进行第二次清洗，第二次清洗完成后进行第二次烘干处理。

【技术特征摘要】
1.一种电子产品金属壳体的表面处理方法，其特征在于，包括步骤：A、对金属壳体进行T处理；B、将T处理后的金属壳体与塑胶进行NMT处理；C、将NMT处理后的金属壳体进行第一次抛光处理，并进行第一次清洗，再进行第一次烘干处理；D、将上述步骤C后的金属壳体进行渐变激光镭雕处理；F、将进行渐变激光镭雕处理后的金属壳体进行表面镀膜处理，再利用浸泡超声波法或高压水冲淋法进行第二次清洗，第二次清洗完成后进行第二次烘干处理。2.根据权利要求1所述的电子产品金属壳体的表面处理方法，其特征在于，所述步骤D中，渐变激光镭雕处理采用激光波长1064nm、工作电流10-18A、功率密度为107~109w/cm²。3.根据权利要求1所述的电子产品金属壳体的表面处理方法，其特征在于，所述步骤D的具体包括步骤：D1、设置激光镭雕机镭雕图案及参数；D2、装夹待镭雕的金属壳体；D3、调整激光焦距；D4、执行渐变激光镭雕；D5、已雕产品下夹具。4.根据权利要求1所述的电子产品金属壳体的表面处理方法，其特征在于，所述金属为铝、镁、铜、不锈钢、钛、铁、镀锌板、黄铜中的任一种，所述塑胶为PPS、PBT、PA6、PA66、PPA中的任一种。5.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴献明，魏美贤，
申请(专利权)人：惠州TCL移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44