一种陶瓷基板抗氧化处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种陶瓷基板抗氧化处理装置，包括陶瓷基板送入组件、循环提升组件、抗氧化喷涂组件以及陶瓷基板送出组件，抗氧化喷涂组件设置在循环提升组件的正上方，陶瓷基板送入组件以及陶瓷基板送出组件分别位于循环提升组件的两侧面；循环提升组件包括有机架、升降驱动单元、接料槽、出料槽以及升降单元，接料槽、出料槽分别位于循环升降组件的两侧，且与陶瓷基板送入组件、陶瓷基板送出组件衔接；升降单元和升降驱动单元位于机架上部。该陶瓷基板抗氧化处理装置实现了抗氧化处理的自动化操作，其接受待加工陶瓷基板，并通过真空吸盘将其提升至抗氧化处理区域，抗氧化处理完成后，陶瓷基板随着升降组件输出，占用空间小，能够连续生产。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷基板抗氧化处理装置
：本专利技术涉及陶瓷基板处理设备
，具体涉及一种陶瓷基板抗氧化处理装置。
技术介绍
：陶瓷基板是指铜箔在高温下直接键合到氧化铝(Al2O3)或氮化铝(AlN)陶瓷基片表面(单面或双面)上的特殊工艺板。所制成的超薄复合基板具有优良电绝缘性能，高导热特性，优异的软钎焊性和高的附着强度，并可像PCB板一样能刻蚀出各种图形，具有很大的载流能力。因此，陶瓷基板已成为大功率电力电子电路结构技术和互连技术的基础材料。陶瓷基板在使用前需要进行化银处理，化银处理后需要进行抗氧化处理，目前对化银后的陶瓷基板进行抗氧化处理的方法多种多样，然而，由于它们的采用的物质以及温度及时间的控制不尽相同，导致抗氧化处理效果各异，目前还没有一种方法可实现对化银后的陶瓷基板实现很好的抗氧化处理效果。且抗氧化过程通常要在陶瓷基板表面喷涂抗氧化层，抗氧化材料一般都会对人体产生危害，如何实现抗氧化处理过程的无人化是该领域急需解决的技术问题。
技术实现思路
：本专利技术的目的就是针对现有技术的不足，提供一种陶瓷基板抗氧化处理装置。本专利技术的技术解决措施如下：一种陶瓷基板抗氧化处理装置，包括陶瓷基板送入组件、循环提升组件、抗氧化喷涂组件以及陶瓷基板送出组件，抗氧化喷涂组件设置在循环提升组件的正上方，陶瓷基板送入组件以及陶瓷基板送出组件分别位于循环提升组件的两侧面；循环提升组件包括有机架、升降驱动单元、接料槽、出料槽以及升降单元，接料槽、出料槽分别位于循环升降组件的两侧，且与陶瓷基板送入组件、陶瓷基板送出组件衔接；升降单元和升降驱动单元位于机架上部；机架包括四根平行设置的支柱，支柱上固定连接有方形框架，方形框架上部两侧分别固定有门型架，门型架包括两根竖直支撑柱以及将其连接起来的横梁，相邻支柱的中部还连接有加强梁。升降驱动装置包括驱动电机以及减速机，驱动电机通过电机安装座固定设置在加强梁上，减速机固定在方形框架上，驱动电机的输出轴连接有主动轮，减速机的输入轴连接有从动轮，主动轮和从动轮之间连接有驱动皮带。支柱的下部设置有缓冲支脚，缓冲支脚为弹性结构。升降单元包括提升链轮和提升链条，提升链轮分为两组，每组具有四个，每组提升链轮分别设置在门型架的四角，两组提升链条分别设置在两组提升链轮上，提升链条形成方形回路，两组提升链条之间分布有连接杆，连接杆的两端分别与两组提升链条固定连接，连接杆上固定有安装板，安装板上设置有真空吸盘。连接杆为多根，相邻连接杆之间的距离相等，安装板的长度小于连接杆的长度，且连接杆的宽度小于安装板的宽度，安装板上的真空吸盘具有多个，且相邻真空吸盘之间的距离相等。升降驱动装置与控制组件电连接，控制组件内部预先设定进行一块陶瓷基板抗氧化处理的时间，控制组件根据该时间对升降驱动装置进行间歇控制，从而实现升降组件的间歇运动。真空吸盘包括主体部、连接部以及吸盘部,主体部与连接部通过紧固螺钉固定连接，吸盘部紧密套设在连接部上，主体部外部还连接有真空管路；主体部为中空结构，其内部设置有固定件，固定件下部具有托举件，固定件包括球头和设置在球头上部的管状部，球头和管状部均设置有通路，管状部穿出主体部与真空管路通过卡箍密闭连接，球头内部的通路向外延伸并与穿过连接部的真空吸管连接，真空吸管的末端位于吸盘部内，吸盘部的内表面为波浪状，吸盘部的外部为喇叭状；吸盘部的边缘还设置有除静电网。本专利技术的有益效果在于：该陶瓷基板抗氧化处理装置实现了抗氧化处理的自动化操作，其接受待加工陶瓷基板，并通过真空吸盘将其提升至抗氧化处理区域，抗氧化处理完成后，陶瓷基板随着升降组件输出，占用空间小，能够连续生产。附图说明：图1为循环提升组件的结构示意图；图2为循环提升组件的正视图；图3为机架的结构示意图；图4为真空吸盘的结构示意图。具体实施方式：为了使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做出详细的说明。如图1-3所示，陶瓷基板抗氧化处理装置包括陶瓷基板送入组件、循环提升组件、抗氧化喷涂组件以及陶瓷基板送出组件，抗氧化喷涂组件设置在循环提升组件的正上方，陶瓷基板送入组件以及陶瓷基板送出组件分别位于循环提升组件的两侧面；循环提升组件包括有机架、升降驱动单元、接料槽31、出料槽32以及升降单元，接料槽31、出料槽32分别位于循环升降组件的两侧，且与陶瓷基板送入组件、陶瓷基板送出组件衔接；升降单元和升降驱动单元位于机架上部；机架包括四根平行设置的支柱13，支柱13上固定连接有方形框架11，方形框架11上部两侧分别固定有门型架，门型架包括两根竖直支撑柱16以及将其连接起来的横梁17，相邻支柱13的中部还连接有加强梁12。升降驱动装置包括驱动电机21以及减速机25，驱动电机21通过电机安装座15固定设置在加强梁12上，减速机25固定在方形框架11上，驱动电机21的输出轴连接有主动轮22，减速机25的输入轴连接有从动轮23，主动轮22和从动轮23之间连接有驱动皮带22。支柱13的下部设置有缓冲支脚14，缓冲支脚14为弹性结构。升降单元包括提升链轮41和提升链条42，提升链轮41分为两组，每组具有四个，每组提升链轮41分别设置在门型架的四角，两组提升链条42分别设置在两组提升链轮41上，提升链条42形成方形回路，两组提升链条42之间分布有连接杆43，连接杆43的两端分别与两组提升链条42固定连接，连接杆43上固定有安装板44，安装板44上设置有真空吸盘45。连接杆43为多根，相邻连接杆之间的距离相等，安装板44的长度小于连接杆43的长度，且连接杆43的宽度小于安装板44的宽度，安装板44上的真空吸盘45具有多个，且相邻真空吸盘45之间的距离相等。升降驱动装置与控制组件电连接，控制组件内部预先设定进行一块陶瓷基板抗氧化处理的时间，控制组件根据该时间对升降驱动装置进行间歇控制，从而实现升降组件的间歇运动。如图4所示，真空吸盘45包括主体部453、连接部456以及吸盘部457,主体部453与连接部456通过紧固螺钉459固定连接，吸盘部457紧密套设在连接部456上，主体部453外部还连接有真空管路451；主体部453为中空结构，其内部设置有固定件454，固定件454下部具有托举件455，固定件454包括球头和设置在球头上部的管状部，球头和管状部均设置有通路，管状部穿出主体部453与真空管路451通过卡箍452密闭连接，球头内部的通路向外延伸并与穿过连接部456的真空吸管450连接，真空吸管450的末端位于吸盘部457内，吸盘部457的内表面为波浪状，吸盘部457的外部为喇叭状；吸盘部457的边缘还设置有除静电网458。所述实施例用以例示性说明本专利技术，而非用于限制本专利技术。任何本领域技术人员均可在不违背本专利技术的精神及范畴下，对所述实施例进行修改，因此本专利技术的权利保护范围，应如本专利技术的权利要求所列。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷基板抗氧化处理装置，其特征在于：包括陶瓷基板送入组件、循环提升组件、抗氧化喷涂组件以及陶瓷基板送出组件，抗氧化喷涂组件设置在循环提升组件的正上方，陶瓷基板送入组件以及陶瓷基板送出组件分别位于循环提升组件的两侧面；循环提升组件包括有机架、升降驱动单元、接料槽(31)、出料槽(32)以及升降单元，接料槽(31)、出料槽(32)分别位于循环升降组件的两侧，且与陶瓷基板送入组件、陶瓷基板送出组件衔接；升降单元和升降驱动单元位于机架上部；机架包括四根平行设置的支柱(13)，支柱(13)上固定连接有方形框架(11)，方形框架(11)上部两侧分别固定有门型架，门型架包括两根竖直支撑柱(16)以及将其连接起来的横梁(17)，相邻支柱(13)的中部还连接有加强梁(12)。

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷基板抗氧化处理装置，其特征在于：包括陶瓷基板送入组件、循环提升组件、抗氧化喷涂组件以及陶瓷基板送出组件，抗氧化喷涂组件设置在循环提升组件的正上方，陶瓷基板送入组件以及陶瓷基板送出组件分别位于循环提升组件的两侧面；循环提升组件包括有机架、升降驱动单元、接料槽(31)、出料槽(32)以及升降单元，接料槽(31)、出料槽(32)分别位于循环升降组件的两侧，且与陶瓷基板送入组件、陶瓷基板送出组件衔接；升降单元和升降驱动单元位于机架上部；机架包括四根平行设置的支柱(13)，支柱(13)上固定连接有方形框架(11)，方形框架(11)上部两侧分别固定有门型架，门型架包括两根竖直支撑柱(16)以及将其连接起来的横梁(17)，相邻支柱(13)的中部还连接有加强梁(12)。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板抗氧化处理装置，其特征在于：升降驱动装置包括驱动电机(21)以及减速机(25)，驱动电机(21)通过电机安装座(15)固定设置在加强梁(12)上，减速机(25)固定在方形框架(11)上，驱动电机(21)的输出轴连接有主动轮(22)，减速机(25)的输入轴连接有从动轮(23)，主动轮(22)和从动轮(23)之间连接有驱动皮带(22)。3.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板抗氧化处理装置，其特征在于：支柱(13)的下部设置有缓冲支脚(14)，缓冲支脚(14)为弹性结构。4.根据权利要求1所述的一种陶瓷基板抗氧化处理装置，其特征在于：升降单元包括提升链轮(41)和提升链条(42)，提升链轮(41)分为两组，每组具有四个，每组提升链轮(41)分别设置在门型架的四角，两组提升链条(42)分别设置在两组提升链轮(41)上，提升链条(42)形成方形回路，两组提升...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶芳，
申请(专利权)人：佛山市华普瑞联机电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44