A quartz wafer nitrogen purging device, comprises an upper box and a lower box, on one side of the box set to take place, under the box closed; on the bottom of the box set into the box under the operating area, operation area on the grounds to bell gradually small, between the operation area and the box under set ash leakage, under the box body. With the vacuum cleaner through the pipeline; blowing equipment is arranged on the nitrogen gas nozzle. Compared with the prior art, the invention first adopts dry and clean high purity nitrogen blown dust on the surface of quartz wafer, and then through the dust ash leakage in the lower box body by the dust collector and absorption, achieve wafer cleaning effect, and can effectively avoid environmental pollution.
【技术实现步骤摘要】
一种石英晶片氮气吹净设备
本专利技术属于石英晶体领域,具体涉及一种石英晶片氮气吹净设备。
技术介绍
随着电子技术的发展,与电子产品有关的电性能标准更高,石英晶片的洁净度直接影响产品的电参数特性,其表面的污染问题一直不能良好的解决,与电子技术的发展要求形成了矛盾。目前市场上对石英晶片的清洁设备,多采用夹具进行单个操作,并且在操作过程中容易因摩擦产生碎屑造成二次污染,而且清洁设备一般为开放式的空间,不便于污染物的收集;清洁设备材质多采用有机玻璃等,易释放污染物。
技术实现思路
本专利技术的目的就在于为解决上述技术问题而提供一种石英晶片氮气吹净设备,可改善石英晶片的洁净度,提高产品品质。本专利技术的目的是以下述方式实现的:一种石英晶片氮气吹净设备,包括上箱体和下箱体,上箱体一侧设取放口,下箱体封闭;上箱体底部设伸入下箱体的操作区,操作区为由上到下渐小的喇叭口,操作区与下箱体之间设漏灰网,下箱体通过管路与吸尘器连接;吹净设备上还设置氮气喷头。所述上箱体和下箱体为不锈钢材料。所述氮气喷头为手持式,上箱体或下箱体上设手持氮气喷头卡扣。所述上箱体的左侧面和右侧面为开口向内的曲折面。所述上箱体顶面为圆心向内的弧形面。所述吸尘器为储水式。相对于现有技术,本专利技术首先采用干燥、清洁的高纯氮气将石英晶片表面灰尘吹落,然后灰尘通过漏灰网在下箱体中被吸尘器集中吸收,达到晶片清洁的效果,并可有效避免周围环境污染。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。具体实施方式一种石英晶片氮气吹净设备,如图1所示,包括上箱体1和下箱体2,上箱体1一侧设取放口3,下箱体2封闭;上箱体1底部设伸入下箱体的 ...
【技术保护点】
一种石英晶片氮气吹净设备,其特征在于:包括上箱体和下箱体,上箱体一侧设取放口,下箱体封闭;上箱体底部设伸入下箱体的操作区,操作区为由上到下渐小的喇叭口,操作区与下箱体之间设漏灰网,下箱体通过管路与吸尘器连接;吹净设备上还设置氮气喷头。
【技术特征摘要】
1.一种石英晶片氮气吹净设备,其特征在于:包括上箱体和下箱体,上箱体一侧设取放口,下箱体封闭;上箱体底部设伸入下箱体的操作区,操作区为由上到下渐小的喇叭口,操作区与下箱体之间设漏灰网,下箱体通过管路与吸尘器连接;吹净设备上还设置氮气喷头。2.如权利要求1所述的石英晶片氮气吹净设备,其特征在于:所述上箱体和下箱体为不锈钢材料。3.如权利要求1所述的石英晶...
【专利技术属性】
技术研发人员:张积武,
申请(专利权)人:郑州原创电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:河南,41
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