一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法，方法包括以下步骤：(a)基板上面涂布光刻胶的步骤。(b)采用光刻工序，在所述的基板的所定区域上，形成光刻胶图形的步骤。(c)在所述的光刻胶图形的正面做绝缘膜的步骤。(d)把所述的绝缘膜平坦化，曝光光刻胶图形的步骤。(e)剥离所述的光刻胶图形，在基板的分离区域得到绝缘膜图形。本发明专利技术的有益效果在于：用黑色的DLC绝缘物质置于有机电致发光器件的分离区域，得到绝缘膜图形。这样的话，可以同时做传统的绝缘膜形状和黑矩阵或传统的阴极隔离柱和黑矩阵的作用。并且采用Lift-off工序，利用光刻工序中无法光刻的物质，在基板的分离区域上形成绝缘膜图形。

Method for manufacturing organic electroluminescent device using DLC

The invention discloses a method for manufacturing an organic electroluminescent device using DLC. The method comprises the following steps: (a) steps for coating photoresist on a substrate. (b) the step of forming a photoresist pattern on the predetermined area of the substrate by means of the photolithography process. (c) the steps of making an insulating film on the front of the photoresist pattern. (d) the step of exposing the insulating film to expose the photoresist pattern. (E) peel off the photoresist pattern and obtain an insulating film pattern in the separation region of the substrate. The beneficial effect of the invention is that the insulating film pattern is obtained by placing the black DLC insulating material in the separation region of the organic electroluminescent device. In this way, both the conventional insulating film shape and the black matrix or the conventional cathode isolation column and the black matrix can be done simultaneously. And the Lift-off process is used to form an insulating film pattern on the separation area of the substrate, using a substance that cannot be applied in the photolithography process.

【技术实现步骤摘要】
一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法
本专利技术属于有机电致发光器件制造领域，尤其涉及一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法。
技术介绍
最近随着显示器的大型化，空间占有率小的显示器件的需求越来越大。电致发光器件作为所述的显示器件中的一种，分为有机电致发光器件和无机电致发光器件。所述的无机电致发光器件：通常输入高电压，加速电子，使得加速的电子冲击发光层而发光的器件。有机电致发光器件：向阴极(电子注入电极)和阳极(空穴注入电极)之间的有机膜上注入电荷的话，电子和空穴成双抵消，从而发光。所以有机电致发光器件具有低电压驱动，消耗电流低，轻量，色感等特征，比无机电致发光器件更优秀。有机电致发光器件具有层叠结构，分为单层结构和多层结构。单层结构是基板上面依次是阳极(空穴注入电极)，有机发光层，阴极(电子注入电极)；多层结构是阳极和有机发光层之间包括空穴传输层，阴极和有机发光层之间包括电子传输层；所以多层结构比起单层结构的话，具有阳子效率高，低电压驱动，发光效率高等优点。绝缘膜的作用：抑制在阴极的边缘上，根据局部的电场增加现象而发生的器件的退化现象，并防止阳极和阴极直接接触而导致的短路现象。图1是一般的有机电致发光器件的构成图。有机电致发光器件，由基板a(10)上面的显示区域(D)和分离区域(s)组成。此时，显示区域(D)从下往上的构成是：基板a(10)，阳极(30)，有机发光层(32)，阴极(34)；分离区域(S)的从下往上的构成是：所定的基板(10)，绝缘膜(36)和阴极隔离柱(38)。所述的绝缘膜c(36)和阴极隔离柱(38)采用透明的光刻胶，但是存在从外部射入的光通过绝缘膜c(36)，重新从阴极(34)和阴极隔离柱(38)上反射，从而对比度下降，并且因为对比度下降，需要增加一个黑矩阵，使得工序变得复杂等问题。往常为了在基板(10)的分离区域(S)上形成绝缘膜c(36)和阴极隔离柱(38)，而采用透明的光刻胶，实施光刻工序。图2a和图2b是传统的有机电致发光器件的绝缘膜图形的制作工序。首先，如图2a所示，在所定的基板a(10)上面涂布透明的光刻胶，形成绝缘膜a(12)；然后，如图2b所示，采用光刻工序，对所述的绝缘膜a(12)进行光刻，得到绝缘膜图形a(14)。但是这样的方法存在的问题：仅是适用于可以采用光刻工序进行光刻的物质。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：为了解决以往存在的问题，在基板的区域上形成DLC材质的绝缘膜图形，置于有机电致发光器件的分离区域。提供可以同时做传统的绝缘膜形状和黑矩阵或传统的阴极隔离柱和黑矩阵的作用的有机电致发光器件。本专利技术的技术方案是，1、一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法，方法包括以下步骤：(a)基板上面涂布光刻胶的步骤。(b)采用光刻工序，在所述的基板的所定区域上，形成光刻胶图形的步骤。(c)在所述的光刻胶图形的正面做绝缘膜的步骤。(d)把所述的绝缘膜平坦化，曝光光刻胶图形的步骤。(e)剥离所述的光刻胶图形，在基板的分离区域得到绝缘膜图形。进一步的，在基板上得到光刻工序中无法光刻的物质的绝缘膜形状，置于有机电致发光器件的分离区域。进一步的，在基板上采用DiamondLikeCarbon来形成绝缘膜图形，置于有机发光器件的分离区域。本专利技术的有益效果在于：用黑色的DLC绝缘物质置于有机电致发光器件的分离区域，得到绝缘膜图形。这样的话，可以同时做传统的绝缘膜形状和黑矩阵或传统的阴极隔离柱和黑矩阵的作用。并且采用Lift-off工序，利用光刻工序中无法光刻的物质，在基板的分离区域上形成绝缘膜图形。附图说明图1为一般的有机电致发光器件的构成图；图2中图2a和图2b是传统的有机电致发光器件的绝缘膜图形的制造工艺图；图3中图3a至图3d是本专利技术的有机电致发光器件的绝缘膜图形的制造工艺图。具体实施方式下面结合附图和具体的实施例对本专利技术作进一步的阐述。基板的区域上形成的绝缘膜图形由黑色的DLC绝缘物质构成，置于有机电致发光器件的分离区域。基板上面涂布光刻胶的步骤。采用光刻工序，在所述的基板的所定区域上，形成光刻胶图形的步骤。在所述的光刻胶图形的正面做绝缘膜的步骤。把所述的绝缘膜平坦化，曝光光刻胶图形的步骤。剥离所述的光刻胶图形，在基板的分离区域得到绝缘膜图形。包含所述过程的本专利技术中，基板上的绝缘膜图形是置于所述的分离区域，由无法用光刻工序进行光刻的物质构成，特别是以黑色的DLC绝缘物质为特征。参考附图，详细说明绝缘膜的图形形成方法。图3a～图3d是本专利技术的有机电致发光器件的绝缘膜图形制造工序。如图3d所示，在基板b20上面，采用黑色的DLC绝缘物质，形成绝缘膜图形b24，然后置于有机电致发光器件的分离区域。所述的DLC是非结晶质高品质碳的一种，具有与金刚石(diamond)相似的高硬度，耐磨性，润滑性，电绝缘性，化学稳定性，光学特性等特征的材料。如图1所示，把他作为绝缘膜图形b24使用的话，不仅可以做传统的绝缘膜图形a14的功能，还可以起到黑矩阵的作用。黑矩阵的作用：提高有机电致发光器件的对比度。此时，对比度是下列的(a)公式，反射光是下列的(b)公式，本专利技术采用黑色的DLC，可以减少表面扩散反射率，提高对比度。第二，观察本专利技术的有机电致发光器件的绝缘膜图形形成方法。首先，在所定的基板20上面涂布光刻胶，形成如图3a所示的光刻胶膜26；然后，采用光刻工序，对所述的光刻胶膜26进行光刻，得到光刻胶图形28。此时的光刻胶图形28与要求的图3d的绝缘膜图形24的negative形态是一样的。然后，在所述的已经形成光刻胶图形28的所定的基板b20的前面，涂布如图3d所示的物质，得到绝缘膜b22。为了形成绝缘膜图形b24而涂布的物质是采用无法用光刻工序进行光刻的物质，特别是采用本专利技术所述的DLC。(参考图3c)。最后，采用通常的方法来平坦化所述的绝缘膜b22。如图3d所述，曝光所述的光刻胶图形28后，然后采用干式蚀刻或湿式蚀刻的方法，清除掉所述的经过曝光的光刻胶图形28，然后在基板b20的分离区域上得到绝缘膜图形b24。(参考图3d)。本专利技术采用黑色的DLC绝缘物质置于有机电致发光器件的分离区域，得到绝缘膜图形。这样的话，可以同时做传统的绝缘膜形状和黑矩阵或传统的阴极隔离柱和黑矩阵的作用。并且采用Lift-off工序，利用光刻工序中无法光刻的物质，在基板的分离区域上形成绝缘膜图形。本领域的普通技术人员将会意识到，这里所述的实施例是为了帮助读者理解本专利技术的原理，应被理解为本专利技术的保护范围并不局限于这样的特别陈述和实施例。本领域的普通技术人员可以根据本专利技术公开的这些技术启示做出各种不脱离本专利技术实质的其它各种具体变形和组合，这些变形和组合仍然在本专利技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法，其特征在于：方法包括以下步骤：(a)基板上面涂布光刻胶的步骤。(b)采用光刻工序，在所述的基板的所定区域上，形成光刻胶图形的步骤。(c)在所述的光刻胶图形的正面做绝缘膜的步骤。(d)把所述的绝缘膜平坦化，曝光光刻胶图形的步骤。(e)剥离所述的光刻胶图形，在基板的分离区域得到绝缘膜图形。

【技术特征摘要】
1.一种采用DLC的有机电致发光器件的制造方法，其特征在于：方法包括以下步骤：(a)基板上面涂布光刻胶的步骤。(b)采用光刻工序，在所述的基板的所定区域上，形成光刻胶图形的步骤。(c)在所述的光刻胶图形的正面做绝缘膜的步骤。(d)把所述的绝缘膜平坦化，曝光光刻胶图形的步骤。(e)剥离所述的光刻胶图形，在基板的分离区域得到绝缘膜图...

【专利技术属性】
技术研发人员：田朝勇，郎丰伟，
申请(专利权)人：四川虹视显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51