The invention provides a LTPS array substrate and a manufacturing method thereof, data line gate line of the LTPS array substrate including horizontal arrangement and vertical arrangement, the intersection of the gate line and the data line to cross area, close to the gate line, a portion of the data line to climb the slope; including: the linewidth of the data line in climbing at even greater than the data in other parts of the line width. The data lines have first branches and second branches spaced apart from each other in the cross region. The invention can reduce the risk of wire breakage at the data line climbing, and can increase the line yield and the data line short repair, thereby improving the yield of the product.
【技术实现步骤摘要】
一种LTPS阵列基板及其制作方法
本专利技术涉及一种阵列基板,特别涉及一种LTPS(LowTemperaturePoly-silicon,低温多晶硅)阵列基板及其制作方法。
技术介绍
目前所采用的LTPS阵列基板像素(Pixel)设计为栅极线(GateLine)横向排布,数据线(DataLine)纵向排布,两者均采用均一线宽的设计,并形成十字交叉区域。然而,在实际生产中,有两项风险值得注意:(1)由于ILD(层间介质)膜层中不可避免地存在膜中粒子(InFilmParticle),尺寸较小的粒子看似无关紧要,却经常导致ILD膜层刺穿而引起栅极线和数据线短路(简称GD短路);(2)由于ILD膜层锥角(Taper)较陡,数据线在爬坡处存在一定的断线风险。鉴于此,针对上述技术缺陷,本专利技术的专利技术人设计出一种能够避免出现GD短路以及数据线出现断线风险的LTPS阵列基板。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种LTPS阵列基板及其制作方法,其通过在数据线爬坡处增大线宽并且在十字相交区域采用分叉设计,从而避免出现GD短路以及数据线出现断线风险。为达上述目的,本专利技术提供一种LTPS阵列基板,其包括横向排布的栅极线和纵向排布的数据线,所述栅极线和所述数据线的交叉处为十字区域,所述数据线与所述栅极线搭接处形成坡度的部分为爬坡处;其中:所述数据线在爬坡处及十字区域处的线宽比数据线在其他部位的线宽更大。通常而言,由于ILD膜层的锥角较陡,数据线在爬坡处存在断线风险,而通过增大数据线在爬坡处的线宽,可以降低数据线的断路风险。所述的LTPS阵列基板,其中,所述数据线在十字区域 ...
【技术保护点】
一种LTPS阵列基板,其包括横向排布的栅极线和纵向排布的数据线,所述栅极线和所述数据线的交叉处为十字区域,所述数据线与所述栅极线搭接处形成坡度的部分为爬坡处;其特征在于:所述数据线在爬坡处及十字区域处的的线宽比数据线在其他部位的线宽更大。
【技术特征摘要】
1.一种LTPS阵列基板,其包括横向排布的栅极线和纵向排布的数据线,所述栅极线和所述数据线的交叉处为十字区域,所述数据线与所述栅极线搭接处形成坡度的部分为爬坡处;其特征在于:所述数据线在爬坡处及十字区域处的的线宽比数据线在其他部位的线宽更大。2.根据权利要求1所述的LTPS阵列基板,其特征在于,所述数据线在十字区域具有相互间隔的第一分支和第二分支。3.根据权利要求2所述的LTPS阵列基板,其特征在于,所述第一分支和第二分支的两端分别汇聚为一根数据线。4.根据权利要求1所述的LTPS阵列基板,其特征在于,所述数据线在爬坡处及十字区域处的线宽为数据线在其他部位的线宽的二倍。5.根据权利要求1所述的LTPS阵列基板,其特征在于,所述数据线在爬坡处的线宽为4.8微米,所述数据线在其他...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘晶,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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