一种掩膜板框架及掩膜板组件制造技术

本实用新型专利技术涉及一种掩膜板框架及其组件，所述掩膜板框架包括：第一框架本体，所述第一框架本体上设置有第一支撑部和第二支撑部，所述第一支撑部的支撑面与所述第一框架本体底面之间的第一距离大于所述第二支撑部的支撑面与所述第一框架本体底面之间的第二距离；所述第二支撑部在平行于第一框架本体底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撑部在平行于第一框架本体底面的平面的正投影内；放置于所述第一支撑部的支撑面上的第二框架本体。掩膜板组件中，掩膜固定在第二框架上，避免掩膜边角的悬空，减小掩膜的翘边和褶皱不良；同时，对掩膜进行重置时，可直接将第二框架从第一框架上取下，替换新的第二框架，提高了第一框架的利用率，降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板框架及掩膜板组件
本技术涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种掩膜板框架及掩膜板组件。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)显示屏在制备过程中，通常使用高精度金属掩膜板，将蒸镀材料在其下方加热，使材料向上蒸发或升华，并透过掩膜板设计好的开口沉积到待蒸镀基板的表面，形成所需要的膜层图案。掩膜板通常包括掩膜和遮挡膜，其中掩膜和遮挡膜都需要焊接在框架上。多个掩膜需要与框架实现组合，即张网。遮挡膜焊接在相邻的掩膜之间的空隙处，起到遮挡空隙的作用，防止材料从空隙中蒸镀到基板上，造成基板混色或者污染。通常，张网的焊接顺序为：先将遮挡膜焊接到框架上，然后再焊接掩膜，由于掩膜和遮挡膜之间存在搭接，无法进行焊接，较薄的掩膜边缘容易出现褶皱或者卷边，降低蒸镀良率。一旦张网出现不良，或者由于使用时间长出现掩膜使用不良，需要对掩膜进行重置，则需要将掩膜和遮挡膜从框架中撕下，并且对框架焊点进行打磨。由于对焊接处平坦度要求比较高，通常情况下，框架的使用周期为2～3次，该周期后，框架则不能够再次使用。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种掩膜板框架及掩膜板组件，避免掩膜边缘的翘曲或褶皱，减少更换掩膜时框架和遮挡膜的浪费，减低材料成本。本技术公开了一种掩膜板框架，包括：第一框架本体，所述第一框架本体上设置有第一支撑部；和第二支撑部和放置于所述第一支撑部的支撑面上的第二框架本体。优选的，所述第一框架本体上还设置有第二支撑部，所述第一支撑部的支撑面与所述第一框架本体底面之间的第一距离大于所述第二支撑部的支撑面与所述第一框架本体底面之间的第二距离；所述第二支撑部在平行于第一框架本体底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撑部在平行于第一框架本体底面的平面的正投影内。优选的，所述第一支撑部的支撑面与所述第二支撑部的支撑面为相互平行的平面。优选的，所述第一框架本体为一口字形框架，所述第一支撑部为设置于所述第一框架本体内侧侧壁上的支撑凸台，所述支撑凸台连续设置于所述第一框架本体的内部侧壁上而形成一口字型结构，所述支撑凸台的上表面为所述第一支撑部的支撑面。优选的，包括至少一个所述第二支撑部，每一所述第二支撑部包括设置于所述支撑凸台上沿着遮挡膜延伸方向设置对应的两个凹槽，每一凹槽朝向对应凹槽的一侧设置有开口。优选的，所述开口的高度等于所述凹槽的深度，所述凹槽的底面为所述第二支撑部的支撑面。本技术公开了一种掩膜板组件，包括上述技术方案所述的掩膜板框架，还包括固定在第二框架本体远离所述第一框架本体底面一侧的表面上的一个及其以上的遮挡膜；固定在第二框架本体远离所述第一框架本体底面一侧的表面上的多个掩膜；所述遮挡膜遮挡相邻两个掩膜之间的空隙。本技术还公开了一种掩膜板组件，包括上述技术方案所述的掩膜板框架，还包括固定在所述第二框架本体远离所述第一框架本体底面一侧的表面上的多个掩膜；设置在所述第二支撑部的支撑面上的遮挡膜，所述遮挡膜能够遮挡相邻两个掩膜之间的空隙。优选的，所述掩膜的边缘和四角均固定在所述第二框架本体上。优选的，所述遮挡膜焊接在所述第二框架本体上。与现有技术相比，本使用新型的掩膜板组件中，掩膜固定在第二框架上，避免了掩膜边角的悬空状态，减小了掩膜的翘边和褶皱不良；同时，在对掩膜进行重置时，可直接将第二框架从第一框架上取下，替换为新的第二框架即可，可以提高第一框架的利用率，降低成本。附图说明图1表示本技术实施例公开的第一种掩膜板框架的俯视图；图2表示本技术实施例公开的第一种掩膜板框架沿A-A方向的剖面结构示意图；图3表示本技术第一种掩膜板框架的结构示意图；图4表示本技术第一种掩膜板框架沿B-B方向的剖面图；图5表示本技术第二种掩膜板框架的俯视图；图6表示本技术实施例公开的第二种掩膜板框架沿A-A方向的剖面图；图7表示本技术第二种掩膜板框架的结构示意图；图8表示本技术实施例公开的第二种掩膜板框架沿B-B方向的剖面图；图9表示本技术的第一种掩膜板组件沿A-A方向的剖面图；图10表示本技术的第二种掩膜板组件沿A-A方向的剖面图；图11表示本技术的第二种掩膜板组件的结构示意图；图12表示本技术的第二种掩膜板组件中遮挡膜结构示意图；图13表示本技术的第三种掩膜板组件沿A-A方向的剖面图。附图中：1为第一框架本体，11为第一支撑部，12为第二支撑部，2为第二框架本体，3为掩膜，4为遮挡膜。具体实施方式为了进一步理解本技术，下面结合实施例对本技术优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本技术的特征和优点，而不是对本技术权利要求的限制。图1为本技术实施例公开的第一种掩膜板框架的俯视图。图2为本技术实施例公开的第一种掩膜板框架沿A-A方向的剖面结构示意图。本技术公开了一种掩膜板框架，如图1和图2所示，包括：第一框架本体(1)，和放置于所述第一支撑部(11)的支撑面上的第二框架本体(2)。在本技术中，所述第一支撑部(11)可以为多种形状，可以支撑第二框架本体即可。图3为本技术实施例公开的第一种掩膜板框架的结构示意图；图4为本技术实施例公开的第一种掩膜板框架沿B-B方向的剖面图。由图3和图4可以看出本实施例的立体结构。图5为本技术实施例公开的第二种掩膜板框架的俯视图。图6为本技术实施例公开的第二种掩膜板框架沿A-A方向的剖面图。本技术公开了一种掩膜板框架，如图5和图6所示，包括：第一框架本体(1)，所述第一框架本体上设置有第一支撑部(11)和第二支撑部(12)，所述第一支撑部(11)的支撑面与所述第一框架本体(1)底面之间的第一距离大于所述第二支撑部(12)的支撑面与所述第一框架本体(1)底面之间的第二距离；所述第二支撑部(12)在平行于第一框架本体(1)底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撑部(11)在平行于第一框架本体(1)底面的平面的正投影内；放置于所述第一支撑部(11)的支撑面上的第二框架本体(2)。在本技术中，所述第一支撑部(11)可以为多种形状，可以支撑第二框架本体即可。由于第二支撑部用于设置遮挡膜，为了使遮挡膜较好的遮挡掩膜之间的空隙，防止蒸镀材料从空隙中透过，优选的，所述第一支撑部(11)的支撑面与第二支撑部(12)的支撑面平行。根据掩膜框架的特点，优选的，本技术的第一框架本体为口字型框架，所述第一支撑部为设置于所述第一框架本体内侧侧壁上的支撑凸台，所述支撑凸台连续设置于所述第一框架本体的内部侧壁上而形成一口字型结构，所述支撑凸台的上表面为所述第一支撑部的支撑面。所述第一框架本体的厚度优选为5～100mm。所述第二框架的厚度优选为2.5～80mm。所述第一支撑部的支撑部与第一框架本体顶面的距离优选为3～85mm。所述第二支撑部(12)在平行于第一框架本体(1)底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撑部(11)在平行于第一框架本体(1)底面的平面的正投影内。进一步的，如图7所示，所述框架包括至少一个所述第二支撑部，每一所述第二支撑部包括设置于所述支撑凸台上沿着遮挡膜延伸方向设置对应的两个凹槽，每一凹槽朝向对应凹槽的一侧设置有开口。优选的，所述开口的高度等于所述凹槽的深度，所述凹槽的底面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板框架，其特征在于，包括：第一框架本体，所述第一框架本体上设置有第一支撑部；和放置于所述第一支撑部的支撑面上的第二框架本体。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板框架，其特征在于，包括：第一框架本体，所述第一框架本体上设置有第一支撑部；和放置于所述第一支撑部的支撑面上的第二框架本体。2.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，所述第一框架本体上还设置有第二支撑部，所述第一支撑部的支撑面与所述第一框架本体底面之间的第一距离大于所述第二支撑部的支撑面与所述第一框架本体底面之间的第二距离；所述第二支撑部在平行于第一框架本体底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撑部在平行于第一框架本体底面的平面的正投影内。3.根据权利要求2所述的掩膜板框架，其特征在于，所述第一支撑部的支撑面与所述第二支撑部的支撑面为相互平行的平面。4.根据权利要求3所述的掩膜板框架，其特征在于，所述第一框架本体为一口字形框架，所述第一支撑部为设置于所述第一框架本体内侧侧壁上的支撑凸台，所述支撑凸台连续设置于所述第一框架本体的内部侧壁上而形成一口字型结构，所述支撑凸台的上表面为所述第一支撑部的支撑面。5.根据权利要求4所述的掩膜板框架，其特征在于，包括至少一个所述第二支撑部，每...

【专利技术属性】
技术研发人员：高静，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11