热射线屏蔽性粘合剂组合物和热射线屏蔽性粘合片制造技术

技术编号:15397373 阅读:185 留言:0更新日期:2017-05-19 15:44
本发明专利技术的课题是有效屏蔽红外线区域以及近红外线区域的热射线。本发明专利技术提供含有(A)金属微粒、(B)丙烯酸系粘合剂、(C)分散剂和(D)近红外吸收色素的热射线屏蔽性粘合剂组合物,以及使用该组合物的热射线屏蔽性粘合片。

Heat ray shielding adhesive composition and heat ray shielding adhesive sheet

The subject of the present invention is to effectively shield the infrared region as well as the thermal rays in the near infrared region. The present invention provides containing metal particles (A), (B), acrylic adhesive (C) and dispersant (D) heat ray shielding adhesive composition near infrared absorbing pigment, and heat radiation shielding of adhesive sheet using the composition.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】热射线屏蔽性粘合剂组合物和热射线屏蔽性粘合片
本专利技术涉及贴合在窗玻璃等上进行使用的热射线屏蔽性粘合剂组合物和使用了该组合物的热射线屏蔽性粘合片,可以高效屏蔽热射线。
技术介绍
近年来,从节能、地球环境问题等方面考虑,要求减轻空调设备的负荷。例如在住宅、汽车的领域中,寻求将可以屏蔽来自太阳光的热射线的热射线屏蔽性材料附在窗玻璃上,从而抑制室内、车内的温度上升。具有热射线屏蔽性的材料多种多样,在专利文献1中公开了一种赋予了热射线屏蔽性的粘合剂及其粘合片。该粘合片是将赋予了热射线屏蔽性的粘合剂加工成片状而成的,其具有如下的特征:可预先加工成任意形状、具有能够重新伸展的再加工性。然而,该赋予了热射线屏蔽性的粘合片的热屏蔽性不充分,期望得到进一步的改善。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特愿平10-8010号
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的课题在于提供一种与以往的热射线屏蔽性粘合片相比热射线屏蔽性得到大幅改善的热射线屏蔽性粘合剂组合物和热射线屏蔽性粘合片。用于解决问题的手段本专利技术人为了获得热射线屏蔽性得到大幅改善的热射线屏蔽性粘合片而进行了深入研究,结果发现,通过含有以锡掺杂氧化铟为代表的金属微粒、近红外吸收色素、分散剂和粘合剂,可以得到能够高效屏蔽热射线的热射线屏蔽性粘合剂组合物和将该组合物加工成片状而成的热射线屏蔽性粘合片,从而完成了本专利技术。即,本专利技术涉及“(1)一种热射线屏蔽性粘合剂组合物,其含有(A)金属微粒、(B)丙烯酸系粘合剂、(C)分散剂和(D)近红外吸收色素,(2)如(1)所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其特征在于,所述(A)金属微粒为选自氧化锡、氧化铟、氧化锌的组中的一种金属微粒,(3)如(1)或(2)任一项所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其特征在于,所述(B)丙烯酸系粘合剂是含羧基或酸酐的单体结构单元的比例为聚合物中的总单体结构单元的1%~5%的聚合物,(4)如(1)至(3)任一项所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其特征在于,所述(B)丙烯酸系粘合剂的重均分子量为100000~1200000,(5)如(1)至(4)任一项所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其特征在于,所述(D)近红外吸收色素为酞菁系化合物、萘酞菁系化合物和/或二亚铵系化合物,(6)如(5)所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其特征在于,所述(D)近红外吸收色素为以式(1)表示的萘酞菁系化合物,[化学式1]式(1)中,M表示金属原子、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物、或者氢原子,X表示低级烷基、低级烷氧基、取代氨基、硝基、卤基、羟基、羧基、磺酸基、磺胺基,A表示二价的交联基,Y表示磺酸基、羧基、伯氨基或仲氨基的氮原子上去除至少1个氢的残基或者含氮杂环的氮原子上去除至少1个氢的残基,m和n均为平均值,并且m、n分别为0以上且12以下,而且m与n的和在0以上且12以下。(7)如(6)所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其中,式(1)中的M为VO,A为碳原子数为1~3的亚烷基,Y为具有取代基或不具有取代基的邻苯二甲酰亚氨基,(8)如(6)所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物,其中,式(1)中的M为Cu,A为碳原子数为1~3的亚烷基,Y为具有取代基或不具有取代基的邻苯二甲酰亚氨基,(9)一种热射线屏蔽性粘合片,其是涂布(1)至(8)任一项所述的热射线屏蔽性粘合剂组合物而成的。专利技术效果根据本专利技术,通过使用分散剂将以锡掺杂氧化铟为代表的金属微粒和近红外吸收色素分散在丙烯酸系粘合剂中,将所得到的热射线屏蔽性粘合剂组合物加工成片状,可以提供一种热射线屏蔽性粘合片,与以往的热射线屏蔽性粘合片相比可以进一步抑制热射线导致的温度上升。由此可以抑制住宅、汽车内空间的温度上升,并且可以减轻空调设备的负荷,因此本专利技术可以为节能、解决地球环境问题做出贡献。具体实施方式对本专利技术进行详细说明。本专利技术的热射线屏蔽性粘合片形成用的粘合剂组合物的特征在于,使用分散剂将以锡掺杂氧化铟为代表的金属微粒和近红外吸收色素分散在丙烯酸系粘合剂中,该粘合剂组合物也可以加工成片状。热射线屏蔽性粘合剂组合物中使用的金属微粒优选为可见光吸收小、对近红外至远红外区域的光具有良好的吸收特性的物质。作为这种物质,可以举出在近红外区域具有等离子体波长的导电性金属氧化物。具体来说,可以示例出氧化锡、氧化铟、氧化锌、氧化钨、氧化铬、氧化钼等。其中,特别优选在可见光区域的光吸收性小的氧化锡、氧化铟、氧化锌。另外,为了提高这些氧化物的导电性,特别优选掺杂第三成分。作为用于该目的的掺杂物,对于氧化锡选择Sb、V、Nb、Ta等,对于氧化铟选择Zn、Al、Sn、Sb、Ga、Ge等,对于氧化锌选择Al、Ga、In、Sn、Sb、Nb等。对于金属微粒的制法来说,只要能够得到粒径为100nm以下的物质就没有特别限制,可以使用气相合成法、液相合成法等公知的方法。例如对于氧化铟微粒来说,可以利用日本特开平6-227815中公开的方法。即,利用碱来中和含有特定金属微粒元素的盐的水溶液,将所得到的沉淀物过滤、清洗,在高温下进行加热处理,由此得到金属微粒的方法。另外,对于氧化锡微粒、氧化锌微粒来说,可以分别示例出日本特开平2-105875、日本特开平6-234522。作为将金属微粒分散在有机溶剂中的方法,可以使用以往的方法。即,可以按照规定比例混合金属微粒和有机溶剂,在该混合物中根据需要添加分散剂、表面活性剂等,使用砂磨机、磨碎机、球磨机、均质器、辊磨机等分散装置将混合物进行分散。对于本专利技术的金属微粒来说,由XRD图谱得到的第一主峰的半峰宽为0.01°~0.8°,而若半峰宽为0.01°以下,则一次粒径增大,因而难以确保透明性。另外,若半峰宽超过0.8°,则难以表现出充分的热屏蔽性。另外,上述金属微粒的半峰宽的优选下限为0.1°、优选上限为0.8°、更优选的下限为0.2°、更优选的上限为0.5°。本专利技术中使用的金属微粒的以BET法测定的比表面积优选为5m3/g~200m3/g,更优选为10m3/g~150m3/g,特别优选为10m3/g~100m3/g。基于BET法的比表面积小于5m3/g的金属微粒的一次粒径大,因此在制成片材、膜、涂料或树脂组合物的情况下,加工表面有可能不平滑。进一步,有可能产生无法期望透明性等缺点。另一方面,BET比表面积大于200m3/g的金属微粒在制造中需要特殊的技术,而且有可能得不到充分的结晶度,热射线屏蔽性受损。需要说明的是,BET法是在粉体颗粒表面吸附尺寸已知的分子或离子,根据其吸附量测定试料的比表面积的方法。近红外吸收色素是吸收红外线中最接近可见区域的近红外线(波长约为780nm~2000nm)的色素的总称,作为近红外吸收色素的种类可以举出偶氮系、铵系、蒽醌系、菁系、二亚铵系、二硫醇金属络合物系、方酸内鎓盐(squalirium)系、酞菁系、萘酞菁系等。从提高耐久性的观点出发,优选酞菁系、萘酞菁系、二亚铵系,并且从高效屏蔽热射线的观点出发,优选为萘酞菁系,特别优选为以上述式(1)表示的化合物。在上述式(1)中,M表示氢原子、金属原子、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物。M为氢原子以外的情况下,该M意味着式(1)中的萘酞菁环具有所谓的中心金属。另外,M为氢原子的情况下,意味着该萘酞本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热射线屏蔽性粘合剂组合物,其含有(A)金属微粒、(B)丙烯酸系粘合剂、(C)分散剂和(D)近红外吸收色素,其中,所述(A)金属微粒的由XRD图谱得到的第一主峰的半峰宽为0.01°~0.8°,所述(B)丙烯酸系粘合剂的重均分子量为100000~1200000,所述(D)近红外吸收色素为以式(1)表示的萘酞菁系化合物,[化学式1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.11.01 JP 2011-2399561.一种热射线屏蔽性粘合剂组合物,其含有(A)金属微粒、(B)丙烯酸系粘合剂、(C)分散剂和(D)近红外吸收色素,其中,所述(A)金属微粒的由XRD图谱得到的第一主峰的半峰宽为0.01°~0.8°,所述(B)丙烯酸系粘合剂的重均分子量为100000~1200000,所述(D)近红外吸收色素为以式(1)表示的萘酞菁系化合物,[化学式1]式(1)中,M表示VO,X表示低级烷基、低级烷氧基、取代氨基、硝基、卤基、羟基、羧基、磺酸基、磺胺基,A表示二价的交联基,Y表示磺酸基、羧基、伯氨基或仲氨基的氮原子上去除至少1个氢的残基或者含氮杂环的氮原子上去...

【专利技术属性】
技术研发人员:樋下田贵大仓田高明高桥知宏有福达治原幸广
申请(专利权)人:日本化药株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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