发光器件衬底及其制备方法、发光器件技术

本发明专利技术提供了一种发光器件衬底及其制备方法。所述发光器件衬底包括玻璃基板，设置在所述玻璃基板一表面的光散射层，以及覆盖所述光散射层的平坦层，其中，所述光散射层具有随机微纳结构。所述发光器件衬底的制备方法，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上依次沉积光散射材料层、金属薄膜，对所述金属薄膜进行快速热处理，形成具有随机微纳结构的金属掩膜层；以所述金属掩膜层作为掩膜板，对所述光散射材料层进行刻蚀处理，去除所述金属掩膜层后形成具有随机微纳结构的光散射层；在所述光散射层上沉积平坦层。

Light emitting device substrate, method for producing the same, and light-emitting device

The invention provides a light emitting device substrate and a preparation method thereof. The light-emitting device substrate includes a glass substrate, a light scattering layer disposed on a surface of the glass substrate, and a flat layer covering the light scattering layer, wherein the light scattering layer has a random micro nano structure. The preparation method of light emitting device substrate, which comprises the following steps: providing a glass substrate; on the glass substrate are sequentially deposited on the light scattering material layer and a metal film on the metal film, fast heat treatment, the formation of random micro nano structure metal mask layer with the metal; with the mask layer as mask film board, the light scattering material layer etching process, the metal mask layer is formed after the removal of random micro nano optical scattering layer is deposited; flat layer on the light scattering layer.

【技术实现步骤摘要】
发光器件衬底及其制备方法、发光器件
本专利技术属于发光器件领域，尤其涉及一种发光器件衬底及其制备方法、发光器件。
技术介绍
在信息社会的当代，作为可视信息传输媒介的显示器的重要性在进一步加强，为了在未来占据主导地位，显示器正朝着更轻、更薄、更低能耗、更低成本以及更好图像质量的趋势发展。有机电致发光二极管(OLED)由于其具有自发光、反应快、视角广、亮度高、轻薄等优点，其潜在的市场前景被业界看好。量子点发光器件(QLED)是在阳、阴极两端加上直流电压，驱动量子点材料发光的器件，由于其色彩饱和、光色纯度高、发光量子效率高、单色性佳、发光颜色易调等优点，近年来成了OLED的有力竞争者，被认为是下一代平板显示器的优势技术。因此，这两种显示技术是目前显示领域发展的两个主要方向。QLED和OLED发光是电光转换的过程，由于器件内发光材料和空气折射率的严重失配，当光从高折射率材料向低折射率材料传播时，很大一部分光遭受全内反射，被捕获的光子最终以波导的形式在高折射率的电极(比如ITO)中传播或是从衬底的边缘辐射出，从而降低器件的效率。同时，由于QLED或OLED器件内部产生的光学干扰现象，在顶发射器件和底发射器件中都存在微腔效应，在符合共振腔的条件下，只有特定波长的光才能在特定的角度射出，造成角度色散。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种发光器件衬底及其制备方法，旨在解决现有发光器件内反射降低器件发光效率效率、光学干扰造成角度色散的问题。本专利技术的另一目的在于提供一种含有上述发光器件衬底的发光器件。本专利技术是这样实现的，一种发光器件衬底，包括玻璃基板，设置在所述玻璃基板一表面的光散射层，以及覆盖所述光散射层的平坦层，其中，所述光散射层具有随机微纳结构。相应的，一种发光器件衬底的制备方法，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上依次沉积光散射材料层、金属薄膜，对所述金属薄膜进行快速热处理，形成具有随机微纳结构的金属掩膜层；以所述金属掩膜层作为掩膜板，对所述光散射材料层进行刻蚀处理，去除所述金属掩膜层后形成具有随机微纳结构的光散射层；在所述光散射层上沉积平坦层。以及，一种发光器件，所述发光器件为OLED或QLED，其特征在于，所述发光器件包括上述的发光器件衬底。本专利技术提供的发光器件衬底，在所述玻璃基板上设置有光散射层和平坦层，其中，所述光散射层具有随机微纳结构。本专利技术提供的发光器件衬底用于发光器件时，可以依靠所述光散射层随机微纳结构的散射作用，调整光从发光层到玻璃基底的入射角，减少发光器件内波导模式，从而大幅提高发光器件内光提取效率，提高光电器件的发光效率。同时，所述随机微纳结构会改变器件内光路的光程，削弱发光器件的微腔效应，从而改善角度色散的问题。本专利技术提供的发光器件衬底的制备方法，在光散射材料层上沉积金属薄膜，并对所述金属薄膜进行快速热处理。由于沉积在绝缘基底上的二维金属薄膜处于热力学不稳定状态，在热处理条件下金属会发生明显的不规则团聚，形成具有随机微纳结构的金属掩膜层。本专利技术利用所述金属掩膜层作为掩模板，在所述玻璃基底上刻蚀出具有随机微纳结构的光散射层。利用该方法制备的光散射层可以依靠所述光散射层随机微纳结构的散射作用，调整光从发光层到玻璃基底的入射角，减少发光器件内波导模式，从而大幅提高发光器件内光提取效率，提高光电器件的发光效率。同时，所述随机微纳结构会改变器件内光路的光程，削弱发光器件的微腔效应，从而改善角度色散的问题。本专利技术提出的发光器件，含有上述发光器件衬底，因此能够有效提高器件发光效率，同时改善角度色散。附图说明图1是本专利技术实施例提供的发光器件衬底的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供发光器件衬底的制备方法中，沉积完金属薄膜后的结构示意图；图3是本专利技术实施例提供发光器件衬底的制备方法中，形成金属掩膜层后的结构示意图；图4是本专利技术实施例提供发光器件衬底的制备方法中，对所述光散射材料层进行刻蚀处理后的结构示意图；图5是本专利技术实施例提供发光器件衬底的制备方法中，形成光散射层后的结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。如图1所示，本专利技术实施例提供了一种发光器件衬底，包括玻璃基板1，设置在所述玻璃基板1一表面的光散射层2，以及覆盖所述光散射层2的平坦层3，其中，所述光散射层2具有随机微纳结构。具体的，本专利技术实施例中，所述玻璃基板1的选择不受限制，可采用发光器件领域用作衬底的常规玻璃基板。所述光散射层2设置在所述玻璃基板1一表面，具体设置在发光层对应的玻璃基板1表面。进一步的，本专利技术实施例中，所述光散射层2具有随机微纳结构，所述随机微纳结构的散射作用，可以有效调整光从发光层到玻璃基底的入射角，减少发光器件内波导模式，从而大幅提高发光器件内光提取效率，提高光电器件的发光效率。同时，所述随机微纳结构会改变器件内光路的光程，削弱发光器件的微腔效应，从而改善角度色散的问题。本专利技术实施例中对用于制作所述光散射层2的材料有一定的要求，具体的，所述光散射层2的材料不仅要具有较好的透光性，而且应具有合适的折射率(比光电器件有机层的折射率要高)。优选的，所述光散射层2的材料为SiO2、TiO2中的至少一种。优选的光散射层2的材料，均具有较好的透光性，此外，所述SiO2的折射率为1.5，所述TiO2的折射率为2.1，满足弹性反射条件，使得光传播过程中没有能量损失。优选的，本专利技术实施例中，所述光散射层2的厚度为400-600nm，与发光波长匹配。若所述光散射层2的厚度过薄，则不利于散射效果的实现；若所述光散射层2的厚度过厚，则可能会影响透光性。本专利技术实施例中，所述平坦层3用于填充所述光散射层2中随机微纳结构的空隙，同时提供平整的表面，用方便沉积光电器件的发光功能层。具体的，所述平坦层3的材料一方面应满足折射率要求，在1.4-1.6之间，同时，应在制备过程中易于平整化。优选的，所述平坦层3的材料为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)中的至少一种。进一步优选的，所述平坦层3的厚度为1-2μm。该优选的厚度，可以保证填充所述光散射层2中随机微纳结构的空隙，此外，还能形成一层平坦的膜层结构，便于制备光电器件的发光功能层。本专利技术实施例提供的发光器件衬底，在所述玻璃基板上设置有光散射层和平坦层，其中，所述光散射层具有随机微纳结构。本专利技术实施例提供的发光器件衬底用于发光器件时，可以依靠所述光散射层随机微纳结构的散射作用，调整光从发光层到玻璃基底的入射角，减少发光器件内波导模式，从而大幅提高发光器件内光提取效率，提高光电器件的发光效率。同时，所述随机微纳结构会改变器件内光路的光程，削弱发光器件的微腔效应，从而改善角度色散的问题。本专利技术实施例还提供的发光器件衬底，可以通过下述方法制备获得。相应的，结合图1-5，本专利技术实施例还提供了一种发光器件衬底的制备方法，包括以下步骤：S01.提供一玻璃基板1；S02.在所述玻璃基板1上依次沉积光散射材料层2’、金属薄膜4’，对所述金属薄膜4’进行快速热处理，形成具有随机微纳结构的金属掩膜层4”；S03.以所述金属掩膜层4”作为掩膜板，对所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光器件衬底，其特征在于，包括玻璃基板，设置在所述玻璃基板一表面的光散射层，以及覆盖所述光散射层的平坦层，其中，所述光散射层具有随机微纳结构。

【技术特征摘要】
1.一种发光器件衬底，其特征在于，包括玻璃基板，设置在所述玻璃基板一表面的光散射层，以及覆盖所述光散射层的平坦层，其中，所述光散射层具有随机微纳结构。2.如权利要求1所述的发光器件衬底，其特征在于，所述光散射层的材料为SiO2、TiO2中的至少一种；和/或所述平坦层的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯中的至少一种。3.如权利要求1所述的发光器件衬底，其特征在于，所述光散射层的厚度为400-600nm；和/或所述平坦层的厚度为1-2μm。4.一种发光器件衬底的制备方法，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上依次沉积光散射材料层、金属薄膜，对所述金属薄膜进行快速热处理，形成具有随机微纳结构的金属掩膜层；以所述金属掩膜层作为掩膜板，对所述光散射材料层进行刻蚀处理，去除所述金属掩膜层后形成具有随机微纳结构的光散射层；在所述光散射层上沉积平坦层。5.如权利要求4所述的发光器件衬底的制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：张滔，向超宇，李乐，辛征航，张东华，
申请(专利权)人：TCL集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44