【技术实现步骤摘要】
一种大电流整流柜
本技术涉及整流装置,具体为一种大电流整流柜,属于整流设备
技术介绍
随着大功率半导体技术的快速发展,半导体整流柜广泛运用于有色金属冶炼、化学工业等领域,目前的整流系统成本高、能耗大,且大电流时电磁场现象明显,柜体发热严重,抖动加大,噪音大,对设备工作构成安全隐患。并且在整流二极管并联时,在各并联支路之间会因导通时间差异、正向压降差异或机械加工差异以及处于直流母线不同位置等原因引起电流分配不均,进而均流系数降低,对整流柜的安全运行、损耗和供电出力影响比较大,因此针对上述问题,我们提出了一种大电流整流柜。
技术实现思路
本技术提供一种大电流整流柜,可以有效解决实际应用中大电流时电磁场对自身和周边设备的影响,以及多个元件并联工作的不均流等问题。为了解决上述技术问题,本技术提供了如下的技术方案:本技术一种大电流整流柜,包括柜体、支撑件、快熔铜排、水冷散热器、元件铜排、连接铜板、快速熔断器、整流元件、元件安装件、正负汇流主铜排、进出汇流总水管,所述柜体内均匀分布有若干支撑件,所述支撑件上固定安装有快熔铜排,且所述快熔铜排上固定安装有快速熔断器,所述支撑件上另一端设有元件铜排,元件铜排通过所述元件安装件固定安装有整流元件,快速熔断器和整流元件之间通过水冷散热器连接,正负汇流主铜排通过连接铜板固定连接在快熔铜排上。作为本技术的一种优选技术方案,所述柜体底侧安装有进出汇流总水管。作为本技术的一种优选技术方案,所述快熔铜排、所述元件铜排和所述正负汇流主铜排表面均采用镀锡处理。作为本技术的一种优选技术方案,所述元件铜排和所述快熔铜排均采用同相逆并联铜排靠近 ...
【技术保护点】
一种大电流整流柜,包括柜体(1)、支撑件(2)、快熔铜排(3)、水冷散热器(4)、元件铜排(5)、连接铜板(6)、快速熔断器(7)、整流元件(8)、元件安装件(9)、正负汇流主铜排(10)、进出汇流总水管(11),其特征在于,所述柜体(1)内均匀分布有若干支撑件(2),且每个所述支撑件(2)上固定安装有快熔铜排(3),且所述快熔铜排(3)上设有快速熔断器(7),所述支撑件(2)上另一端设有元件铜排(5),所述元件铜排(5)通过元件安装件(9)固定安装有整流元件(8),所述快速熔断器(7)和整流元件(8)通过水冷散热器(4)连接;正负汇流主铜排(10)通过连接铜板(6)固定连接在快熔铜排(3)上。
【技术特征摘要】
1.一种大电流整流柜,包括柜体(1)、支撑件(2)、快熔铜排(3)、水冷散热器(4)、元件铜排(5)、连接铜板(6)、快速熔断器(7)、整流元件(8)、元件安装件(9)、正负汇流主铜排(10)、进出汇流总水管(11),其特征在于,所述柜体(1)内均匀分布有若干支撑件(2),且每个所述支撑件(2)上固定安装有快熔铜排(3),且所述快熔铜排(3)上设有快速熔断器(7),所述支撑件(2)上另一端设有元件铜排(5),所述元件铜排(5)通过元件安装件(9)固定安装有整流元件(8),所述快速熔断器(7)和整流元件(8)通过水冷散热器(4)连接;正负汇流主铜排(10)通过连接铜板(6)固定连接在快熔铜排(3)上。2.根据权利要求1所述的一种大电流整流柜,其特征在于,所述柜体(1)内底侧安装有进出汇流总水...
【专利技术属性】
技术研发人员:尹武波,
申请(专利权)人:湘潭宏光变流电气有限公司,
类型:新型
国别省市:湖南,43
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