【技术实现步骤摘要】
背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器
专利技术涉及一种背面具有至少一个凹陷或凸起的基座和一个包括这种基座的用于外延沉积的反应器。
技术介绍
通常情况下,用于外延沉积反应器的基座需要在外延沉积工艺的过程中旋转。为此,这些基座的背面可包括一个可容纳旋转轴端部的底座;且所述底座以所述基座的转轴为中心,即在旋转轴的轴线上。在这种情况下,旋转轴的端部的形状和底座形状相同,例如都是多边形(正方形、六角形、八角形等等),使得旋转运动从旋转轴传导到基座;端部和合适的底座之间有一个非常小的间隙(例如0.5mm)以允许端部插入作为反应器组件的底座。端部和底座经常受到各种因素影响而卡死,比如反应器操作过程中的运动,反应器操作过程中的温度变化,和反应器的操作过程中处于大气中的沉积材料。如果基座的位置在卡死后是完全水平的,卡死不会产生严重问题。相反,如果卡死后基座有轻微倾斜,则会导致:(A)无法轻易把衬底放入或取出基座;(B)衬底在基座上不处在外延沉积的最佳位置,导致获得的沉积层不是最优。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服已知解决方案的缺点。本专利技术的目的是通过具有权利要求描述的技术特征的基座实现的。本专利技术的根本思想是防止旋转轴端部卡死在基座。本专利技术的另一个目的是提供一种包括所述基座、具有权利要求描述的技术特征的外延沉积反应器。附图说明下面结合附图对本专利技术做详细说明。图1是本专利技术的基座和旋转轴的垂直截面的简化视图。图2是图1的基座的简化局部底视图。图3是图1的旋转轴端部的简化顶视图。容易理解的是,在实践中可以有多种方式实现本专利技术所附的权利要求描述的主 ...
【技术保护点】
用于外延沉积反应器的基座(200),包括一个盘状部分(220),所述盘状部分(220)具有一条可被水平放置对称轴(Z),所述盘状部分(220)在其底部包括至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起,所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起距盘状部分(220)的对称轴(Z)有一定距离,所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起可以接收旋转轴(300)的端部(330)上至少一个相应的非中心凸起(333A)和/或至少一个相应的非中心凹陷,以确保基座(200)的角度定位和旋转运动从一个旋转轴(300)传导到基座(200)。
【技术特征摘要】
1.用于外延沉积反应器的基座(200),包括一个盘状部分(220),所述盘状部分(220)具有一条可被水平放置对称轴(Z),所述盘状部分(220)在其底部包括至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起,所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起距盘状部分(220)的对称轴(Z)有一定距离,所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起可以接收旋转轴(300)的端部(330)上至少一个相应的非中心凸起(333A)和/或至少一个相应的非中心凹陷,以确保基座(200)的角度定位和旋转运动从一个旋转轴(300)传导到基座(200)。2.权利要求1所述的基座(200),其中所述至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起的形状可补偿所述基座(200)在外延沉积反应器中使用时随温度的变化。3.权利要求1或2所述的基座(200),包括多个非中心凹陷(233A,233B,233C,233D)和/或多个非中心凸起,以确保角度定位和旋转运动的传导。4.权利要求1或2所述的基座(200),其顶部具有一个表面(221)用于支撑至少一个进行外延沉积工艺处理的衬底(100),其底部具有一个底座(230),具有一条和盘状部分(220)的对称轴(Z)重合的对称轴(Z),所述底座(230)可接收旋转轴(300)的端部(330)的中心凸起(332)。5.权利要求4所述的基座(200),其中所述表面(221)可以直接或间接地支撑至少一个进行外延沉积工艺处理的衬底(100)。6.权利要求4所述的基座(200),其中所述盘状部分(220)底部包括一个具有一个中心凹陷的底座,且所述盘状部分(220)底部包括一个或多个为径向拉伸的圆柱形的非中心凹陷。7.权利要求4所述的基座(200),其中所述底座(230)底部包括一个中心凹陷(232),以及一个或多个为径向拉伸的圆柱形的非中心凹陷(233A,233B,233C,233D)。8.用于外延沉积的反应器(1000),包括至少一个权利要求1至7中任一项所述的基座(200)。9.权利要求8所述的反应器(1000),包括一个旋转轴(300),其包括一个端部(330)以转动具有盘状部分(220)的基座(200),其中端部(330)和盘...
【专利技术属性】
技术研发人员:西尔维奥·普雷蒂,温琴佐·奥格里亚里,
申请(专利权)人:LPE公司,
类型:新型
国别省市:意大利,IT
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