【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在存储器与主机系统之间交换ECC元数据
本专利技术的实施例一般涉及存储器设备,并且更特别地涉及将内部错误校正位暴露为元数据位的存储器。版权通知/许可本专利文档的公开内容的部分可能包含受到版权保护的某些材料。版权所有人对任何人对如其在专利与商标局文件或记录中出现的专利文档或专利公开内容的再现没有异议,但是以其他方式在任何情况保留所有版权权利。版权通知适用于如以下所描述的和在随附于此的附图中的所有数据,以及以下描述的任何软件:Copyright©2014,IntelCorporation,版权所有。
技术介绍
计算设备使用存储器设备来存储数据和代码以供处理器运行其操作。随着存储器设备在大小方面的减小和在密度方面的增加,它们在处理期间经历更多错误,称为良率问题。因此,存储器设备经历越来越多的位故障,甚至在现代处理技术的情况下。为了减轻位故障,现代存储器提供内部错误校正机制,诸如ECC(错误校正码)。存储器设备在内部生成ECC数据,并且在存储器设备处内部使用ECC数据。存储器设备内的内部错误校正可以附加于使用在存储器设备与存储器控制器之间的数据交换中的无论什么系统范围的错误校正或错误减轻。将理解到,存储器设备内的ECC的应用要求附加的逻辑以计算ECC和将其应用于校正数据位。还将理解到,在存储器设备内部的ECC的应用要求在与存储器控制器或存储器设备外部的其它组件交换数据时实时地计算和应用ECC。这样的实时要求可以将延迟引入数据交换中。附图说明以下描述包括具有通过本专利技术的实施例的实现的示例的方式给出的图示的附图的讨论。附图应当通过示例的方式而非通过限制的方式来理解 ...
【技术保护点】
一种用于对接存储器设备和存储器控制器的方法,包括:确定存储器设备处于第一模式还是第二模式;以及在第一模式中,仅在存储器设备处在内部应用内部错误校正位;以及在第二模式中,向外部存储器控制器暴露内部错误校正位作为元数据位以供外部存储器控制器使用。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.26 US 14/4986571.一种用于对接存储器设备和存储器控制器的方法,包括:确定存储器设备处于第一模式还是第二模式;以及在第一模式中,仅在存储器设备处在内部应用内部错误校正位;以及在第二模式中,向外部存储器控制器暴露内部错误校正位作为元数据位以供外部存储器控制器使用。2.根据权利要求1所述的方法,其中向外部存储器控制器暴露内部错误校正位作为元数据位包括为存储器控制器暴露内部错误校正位以与存储器设备交换非错误校正信息。3.根据权利要求1至2中任一项所述的方法,其中向外部存储器控制器暴露内部错误校正位作为元数据位包括为存储器控制器暴露内部错误校正位以校正错误而不是存储器设备在内部校正错误。4.根据权利要求3所述的方法,其中为存储器控制器暴露内部错误校正位以校正错误进一步包括,在第二模式中:响应于读取请求,在存储器设备处在内部生成内部错误校正位;以及向存储器控制器发送内部错误校正位以供存储器控制器基于内部错误校正位而向数据位应用错误校正。5.根据权利要求3所述的方法,其中为存储器控制器暴露内部错误校正位以校正错误进一步包括,在第二模式中:结合写入请求而接收由存储器控制器计算的错误校正位;以及在存储器设备处在内部存储错误校正位。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中为存储器控制器暴露内部错误校正位包括在信号线上与存储器控制器交换内部错误校正位,所述信号线否则对于读取和写入是不活动的。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中为存储器控制器暴露内部错误校正位进一步包括:作为多个不同存储器设备之一,向存储器控制器暴露内部错误校正位,以增加可用于存储器控制器的元数据位的数目。8.一种与存储器子系统中的存储器控制器对接的存储器设备,包括:存储数据的多个存储器单元;内部错误校正硬件,其包括与存储器单元分离的存储内部错误校正位的储存器;以及确定存储器设备处于第一模式还是第二模式的逻辑,其中在第一模式中,所述逻辑仅用内部错误校正硬件在内部应用错误校正位,并且其中在第二模式中,所述逻辑通过作为元数据位向存储器控制器暴露内部错误校正位以供存储器控制器使用。9.根据权利要求8所述的存储器设备,其中所述逻辑向存储器控制器暴露内部错误校正位作为元数据位以供存储器控制器与存储器设备交换非错误校正信息。10.根据权利要求8至9中任一项所述的存储器设备,其中所述逻辑向外部存储器控制器暴露内部错误校正位作为元数据位以供存储器控制器校正错误而不是存储器设备在内部校正错误。11.根据权利要求10所述的存储器设备,其中所述逻辑为存储器控制器暴露内部错误校正位以校正错误包括,错误校正逻辑响应于读取请求而生成内部错误校正位,并且所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:N博宁,K拜恩斯,J哈尔伯特,
申请(专利权)人:英特尔公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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