转印型感光性折射率调整膜制造技术

技术编号:15342573 阅读:104 留言:0更新日期:2017-05-17 00:11
本发明专利技术提供一种转印型感光性折射率调整膜,其具有:支撑膜;设置于该支撑膜上的感光性树脂层;和设置于该感光性树脂层上的高折射率层。通过使用该转印型感光性折射率调整膜来形成折射率调整图案,能够简便地形成可使透明电极的图案可见现象防止效果、画面的透射率下降防止效果以及传感器金属配线的保护效果得以兼顾的固化膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印型感光性折射率调整膜
本专利技术涉及转印型感光性折射率调整膜。详细地说,涉及一种能够简便地形成具有透明电极的保护膜功能和透明电极图案的不可见化或触摸画面的视觉辨认度提高这两种功能的固化膜的转印型感光性折射率调整膜。
技术介绍
电脑或电视等大型电子机器、车载导航仪、手机、电子词典等小型电子机器、OA/FA机器等显示机器等中使用了液晶显示元件或触摸屏(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸屏中设置了由透明电极材料制成的电极。作为透明电极材料,ITO(氧化铟锡)、氧化铟和氧化锡由于显示高的可见光透射率而成为了主流。触摸屏已经有各种方式得到了实用化。投影型静电容量方式的触摸屏由于能够用指尖进行多点检测,因此具备下述良好操作性:能够进行复杂的指示。因此,在手机或便携型音乐播放器等具有小型显示装置的机器中,作为显示面上的输入装置而得到应用。一般来说,在投影型静电容量方式的触摸屏上,为了显现由X轴和Y轴构成的二维坐标,多个X电极和与该X电极正交的多个Y电极形成了2层构造图案。作为上述电极,近年来,研究了以Ag纳米线、碳纳米管等为代表的导电性纤维的应用,但ITO还是主流。然而,由于触摸屏的边框区域是无法检测触摸位置的区域,所以使该边框区域的面积变窄是提高制品价值的重要要素。在边框区域,为了传送触摸位置的检测信号而必须有金属配线,但为了实现边框面积的窄小化,就必须使金属配线的宽度变窄。由于ITO的导电性并不充分地高,所以一般来说金属配线都由铜形成。触摸屏被指尖接触时,水分和盐分等腐蚀成分有可能从传感区域侵入到内部。腐蚀成分如果侵入到触摸屏的内部,则上述金属配线发生腐蚀,有可能发生电极与驱动用电路间的电阻的增加、断线。为了防止金属配线的腐蚀,公开了在金属上形成了绝缘层的投影型静电容量方式的触摸屏(例如专利文献1)。该触摸屏中,通过等离子体化学气相沉积法(等离子体CVD法)在金属上形成了二氧化硅层,防止了金属的腐蚀。可是,该方法需要高温处理,存在着基材受限制、制造成本变高等问题。因此,本专利技术者们提出了下述方法:在透明基材上设置由特定的感光性树脂组合物形成的感光层,通过将该感光层曝光、显影而保护透明基材上的金属配线(例如专利文献2)。然而,如上所述,就投影型静电容量方式的触摸屏而言,由透明电极材料制成的多个X电极和与该X电极正交的多个Y电极在基材上形成了2层构造的透明电极图案,但通过形成有透明电极图案的部分和未形成有透明电极图案的部分的光学反射使得色差变大,模块化时存在着透明导电图案映在画面上的所谓“图案可见现象(pattemvisibilityphenomenon)”的问题。另外,在基材与透明电极之间或在模块化时使用的用于粘接盖玻璃和透明电极图案的视觉辨认度提高膜(OCA:光学透明胶)与透明电极图案之间,还存在着反射光强度增加、使画面的透射率下降的问题。为了防止图案可见现象和透射率的下降,公开了一种通过在基材与透明电极图案之间设置IM层(光学调整层)来抑制色差、防止图案可见现象和画面的透射率下降的透明导电膜(例如专利文献3)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-28594号公报专利文献2:国际公开第2013/084873号专利文献3:日本特开平8-240800号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题可是,在专利文献3的方法中,图案可见现象和透射率下降的防止效果并不充分,还有进一步的改善余地。另外,上述方法中,为了构筑IM层,溅射或旋涂器等的涂布是必要的,除该工序之外,还需要用别的工序对位于触摸屏的边框区域的金属配线进行防腐蚀处理,存在工序数增加的课题。另外,即便尝试虽然工序数增加但将专利文献2的方法组合到专利文献3的方法中,在基材上设置IM层,在该IM层上形成透明电极图案后,再在该透明电极图案上形成IM层,则也由于形成了透明电极图案的表面上有凹凸,所以会存在着不能均匀地形成IM层的课题。本专利技术的目的是提供一种转印型感光性折射率调整膜,其能够简便地形成可使透明电极的图案可见现象防止效果、画面的透射率下降防止效果以及传感器金属配线的保护效果得以兼顾的固化膜。用于解决课题的手段为了解决上述课题,本专利技术者们进行了深入研究,结果发现,通过利用由感光性树脂层和高折射率层制成的转印型感光性折射率调整膜,在透明导电图案上将IM层形成为薄膜,可以抑制色差变大,能够使由图案可见现象的防止效果和画面的透射率下降的防止效果所带来的触摸画面的视觉辨认度提高、以及金属配线的腐蚀防止效果得以兼顾,从而完成了本专利技术。本专利技术的具体方案如下所示。<1>一种转印型感光性折射率调整膜,其具有:支撑膜;设置于该支撑膜上的感光性树脂层;和设置于该感光性树脂层上的高折射率层。<2>根据<1>所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述高折射率层的在633nm处的折射率为1.5~1.9。<3>根据<1>或<2>所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述高折射率层的厚度为0.05~1μm。<4>根据<1>~<3>中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述高折射率层含有:氧化锆、氧化钛、具有三嗪环的化合物、具有芴骨架的化合物或具有异氰脲酸骨架的化合物。<5>根据<1>~<4>中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述感光性树脂层含有:粘合剂聚合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂。<6>根据<5>所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述光聚合引发剂含有肟酯化合物。<7>根据<5>或<6>所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述粘合剂聚合物具有羧基。<8>根据<1>~<7>中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜,该转印型感光性折射率调整膜的400~700nm的可见光透射率的最小值为90%以上。<9>根据<1>~<8>中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述感光性树脂层和所述高折射率层的总厚度为30μm以下。<10>一种折射率调整图案的形成方法,其具有下述工序:将<1>~<9>中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜的所述高折射率层和所述感光性树脂层以所述高折射率层密合在基材上的方式层压在所述基材上的工序;和将所述基材上的所述高折射率层和所述感光性树脂层的规定部分曝光,然后除去所述规定部分以外的部分,形成折射率调整图案的工序。<11>一种电子部件,其具有通过<10>所述的形成方法得到的折射率调整图案。专利技术效果根据本专利技术,可以提供一种转印型感光性折射率调整膜,该转印型感光性折射率调整膜能够简便地形成具有透明电极的保护膜功能和透明电极图案的不可见化或触摸画面的视觉辨认度提高这两种功能的固化膜。附图说明图1是表示本专利技术的转印型感光性折射率调整膜的示意剖视图。图2是表示将本专利技术的转印型感光性折射率调整膜用于带有透明导电图案的基材的一个实施方式的示意剖视图。图3是表示本专利技术的一个实施方式的电子部件的示意平面图。具体本文档来自技高网
...
转印型感光性折射率调整膜

【技术保护点】
一种转印型感光性折射率调整膜,其具有:支撑膜;设置于该支撑膜上的感光性树脂层;和设置于该感光性树脂层上的高折射率层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转印型感光性折射率调整膜,其具有:支撑膜;设置于该支撑膜上的感光性树脂层;和设置于该感光性树脂层上的高折射率层。2.根据权利要求1所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述高折射率层的在633nm处的折射率为1.5~1.9。3.根据权利要求1或2所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述高折射率层的厚度为0.05~1μm。4.根据权利要求1~3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述高折射率层含有:氧化锆、氧化钛、具有三嗪环的化合物、具有芴骨架的化合物或具有异氰脲酸骨架的化合物。5.根据权利要求1~4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述感光性树脂层含有:粘合剂聚合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂。6.根据权利要求5所述的转印型感光性折射率调整膜,其中,所述光聚合引发剂含有肟酯化合物。7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤真弓向郁夫木村忠广笹原直树安部攻治高桥日出男
申请(专利权)人:日立化成株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1