用于有机电致发光器件的材料制造技术

本发明专利技术涉及被二苯并呋喃衍生物或二苯并噻吩衍生物和被咔唑或胺取代的缺电子杂芳族化合物，特别是用作有机电致发光器件中的三重态基质材料。本发明专利技术还涉及用于制备根据本发明专利技术的化合物的方法并且涉及包含这些化合物的电子器件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于有机电致发光器件的材料本专利技术涉及被二苯并呋喃或二苯并噻吩衍生物和被咔唑或胺取代的缺电子杂芳族化合物，所述缺电子杂芳族化合物特别地用作有机电致发光器件中的三重态基质材料。本专利技术还涉及用于制备根据本专利技术的化合物的方法并且涉及包含这些化合物的电子器件。例如在US4539507、US5151629、EP0676461和WO98/27136中描述了其中使用有机半导体作为功能材料的有机电致发光器件(OLED)的结构。所用的发光材料通常是显示磷光而不是荧光的有机金属络合物。出于量子力学原因，利用有机金属化合物作为磷光发光体可实现高达四倍的能量和功率效率的增加。一般说来，在OLED的情况下，此外特别是在显示三重态发光(磷光)的OLED的情况下，例如在效率、工作电压和寿命方面仍需要改进。磷光OLED的特性不是仅由使用的三重态发光体决定的。特别是，使用的其它材料，例如基质材料，在此处也特别重要。因此这些材料的改进也可导致OLED特性的显著改进。根据现有技术，尤其是咔唑衍生物(例如根据WO2014/015931的)、吲哚并咔唑衍生物(例如根据WO2007/063754或WO2008/056746的)或茚并咔唑衍生物(例如根据WO2010/136109或WO2011/000455的)，特别是被缺电子杂芳族化合物如三嗪取代的那些，被用作磷光发光体的基质材料。WO2011/046182公开了在三嗪上被芴基基团取代的咔唑-亚芳基-三嗪衍生物。WO2013/077352公开了其中三嗪基团经由二价亚芳基基团键合至二苯并呋喃基团的三嗪衍生物。这些化合物被描述为空穴阻挡材料。这些材料作为磷光发光体的主体的用途未被公开。KR2014-0046541公开了咔唑-三嗪-二苯并呋喃和咔唑-三嗪-二苯并噻吩化合物，其中所述二苯并呋喃或二苯并噻吩经由其4位键合至所述三嗪。一般说来，在用作基质材料的材料的情况下，特别是在器件的寿命方面，以及在器件的效率和工作电压方面，仍需要改进。本专利技术的目的是提供适合用于磷光或荧光OLED中，特别是用作基质材料的化合物。特别地，本专利技术的目的是提供适合于红色、黄色和绿色磷光OLED并且此外任选地适合于蓝色磷光OLED并且导致长寿命、良好效率和低工作电压的基质材料。令人惊讶的是，已发现包含下式(1)化合物的电致发光器件相比于现有技术，特别是在用作磷光掺杂剂的基质材料时，具有改进。因此，本专利技术涉及下式(1)的化合物，其中以下适用于所用的符号：A在每次出现时相同或不同地是CR1或N，其中每个环中最多两个基团A代表N；Y1是O或S；L在每次出现时相同或不同地是单键或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R1取代；HetAr是下式(2)或(3)的基团，其中虚线键表示该基团与二苯并呋喃或二苯并噻吩衍生物和与L的连接；X在每次出现时相同或不同地是CR2或N，条件是至少一个符号X代表N；N1是下式(4)、(5)或(6)的基团，其中虚线键表示该基团与L的连接，并且A具有上文给出的含义；Ar1在每次出现时相同或不同地是具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R3取代；W在每次出现时相同或不同地是CR1或N，其中最多两个基团W代表N，或者两个相邻的基团W一起代表下式(7)或(8)的基团，其中式(4)或式(6)的基团含有最多一个式(7)或(8)的基团，并且其余基团W在每次出现时相同或不同地代表CR1或N，其中虚线键表示该基团的连接，并且A具有上文给出的含义；Y2、Y3在每次出现时相同或不同地是O、NR4、S、C(R4)2、Si(R4)2、BR4或C＝O，其中与N键合的基团R4不同于H；R1、R2、R3、R4在每次出现时相同或不同地选自H，D，F，Cl，Br，I，CN，NO2，N(Ar2)2，N(R5)2，C(＝O)Ar2，C(＝O)R5，P(＝O)(Ar2)2，P(Ar2)2，B(Ar2)2，Si(Ar2)3，Si(R5)3，具有1至20个C原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷基基团，或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团，或具有2至20个C原子的烯基基团，所述基团中的每个可被一个或多个基团R5取代，其中一个或多个非相邻的CH2基团可被R5C＝CR5、Si(R5)2、C＝O、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5代替，并且其中一个或多个H原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替，具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R5取代，具有5至40个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团，所述基团可被一个或多个基团R5取代，或具有5至40个芳族环原子的芳烷基或杂芳烷基基团，所述基团可被一个或多个基团R5取代；此处两个相邻的取代基R1或两个相邻的取代基R3或两个相邻的取代基R4可任选地彼此形成脂族、芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R5取代；Ar2在每次出现时相同或不同地是具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个非芳族基团R5取代；此处键合至同一N原子、P原子或B原子的两个基团Ar2也可通过单键或选自N(R5)、C(R5)2、O或S的桥连基彼此桥连；R5在每次出现时相同或不同地选自H，D，F，CN，具有1至20个C原子的脂族烃基团或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，其中一个或多个H原子可被D、F、Cl、Br、I或CN代替，并且其可被一个或多个各自具有1至4个碳原子的烷基基团取代；此处两个或更多个相邻的取代基R5可彼此形成脂族环系；条件是，如果基团N1代表不含式(7)或(8)的基团的式(4)的基团，则Y1代表O。在本专利技术意义上的相邻取代基是键合至彼此直接连接的碳原子或键合至同一碳原子的取代基。如果L代表单键，则基团HetAr和N1彼此直接键合。为了本申请的目的，两个或更多个基团可彼此形成环的形成旨在被认为尤其是指两个基团通过化学键彼此连接。这由下图示例：然而，此外，上述形成也旨在被认为是指，在两个基团之一表示氢的情况下，第二个基团键合在氢原子所键合的位置处，从而成环。在本专利技术意义上的稠合芳基基团是其中两个或更多个芳族基团通过共同边彼此稠合(即缩合)的基团，例如在萘中。相比之下，例如，芴不是本专利技术意义上的稠合芳基基团，因为芴中的两个芳族基团不具有共同边。在本专利技术意义上的芳族环系在环系中含有6至40个C原子。在本专利技术意义上的芳族环系旨在被认为是指不一定仅含有芳基或杂芳基基团的体系，而是其中多个芳基或杂芳基基团还可通过非芳族单元(优选小于非H原子的10％)连接，所述非芳族单元例如是C、N或O原子。因此，例如，和其中两个或更多个芳基基团例如通过短的烷基基团连接的体系一样，诸如芴、9,9'-螺二芴、9,9'-二芳基芴、三芳基胺等的体系同样旨在被认为是在本专利技术意义上的芳族环系。此外，通过单键彼此连接的芳族环，即低聚亚芳基或低聚亚杂芳基，例如联苯、三联苯或四联苯，被称为在本申请意义上的芳族环系。为了本专利技术的目的，可含有1至40个C原子并且其中单独的H原子或CH2基团还可被上述基团取代的脂族烃基团或烷基基团或烯基或炔基基团优选被认为是指如下的基团：甲基本文档来自技高网...

【技术保护点】
式(1)的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.13 EP 14002819.21.式(1)的化合物，其中以下适用于所用的符号：A在每次出现时相同或不同地是CR1或N，其中每个环中最多两个基团A代表N；Y1是O或S；L在每次出现时相同或不同地是单键或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R1取代；HetAr是式(2)或(3)的基团，其中虚线键表示该基团与二苯并呋喃或二苯并噻吩衍生物以及与L的连接；X在每次出现时相同或不同地是CR2或N，条件是至少一个符号X代表N；N1是下式(4)、(5)或(6)的基团，其中虚线键表示该基团与L的连接；Ar1在每次出现时相同或不同地是具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R3取代；W在每次出现时相同或不同地是CR1或N，其中最多两个基团W代表N，或两个相邻的基团W一起代表下式(7)或(8)的基团，其中式(4)或(6)的基团含有最多一个式(7)或(8)的基团，并且其余基团W在每次出现时相同或不同地代表CR1或N，其中虚线键表示该基团的连接，并且A具有上文给出的含义；Y2、Y3在每次出现时相同或不同地是O、NR4、S、C(R4)2、Si(R4)2、BR4或C＝O，其中与N键合的基团R4不同于H；R1、R2、R3、R4在每次出现时相同或不同地选自H，D，F，Cl，Br，I，CN，NO2，N(Ar2)2，N(R5)2，C(＝O)Ar2，C(＝O)R5，P(＝O)(Ar2)2，P(Ar2)2，B(Ar2)2，Si(Ar2)3，Si(R5)3，具有1至20个C原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷基基团，或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团，或具有2至20个C原子的烯基基团，所述基团中的每个可被一个或多个基团R5取代，其中一个或多个非相邻的CH2基团可被R5C＝CR5、Si(R5)2、C＝O、C＝NR5、P(＝O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5代替，并且其中一个或多个H原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替，具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R5取代，具有5至40个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团，所述基团可被一个或多个基团R5取代，或具有5至40个芳族环原子的芳烷基或杂芳烷基基团，所述基团可被一个或多个基团R5取代；此处两个相邻的取代基R1或两个相邻的取代基R3或两个相邻的取代基R4可任选地彼此形成脂族、芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R5取代；Ar2在每次出现时相同或不同地是具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个非芳族基团R5取代；此处与同一N原子、P原子或B原子键合的两个基团Ar2也可通过单键或选自N(R5)、C(R5)2、O或S的桥连基彼此桥连；R5在每次出现时相同或不同地选自H，D，F，CN，具有1至20个C原子的脂族烃基团或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，其中一个或多个H原子可被D、F、Cl、Br、I或CN代替，并且其可被一个或多个各自具有1至4个碳原子的烷基基团取代；此处两个或更多个相邻的取代基R5可彼此形成脂族环系；条件是如果基团N1代表不含式(7)或(8)的基团的式(4)基团，则Y1代表O。2.根据权利要求1所述的化合物，其具有式(1a)，其中所用的符号具有权利要求1中给出的含义，n代表0、1、2或3并且m代表0、1、2、3或4。3.根据权利要求1或2所述的化合物，其具有式(1b)至(1i)之一，其中所用的符号具有权利要求1中给出的含义。4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的化合物，其特征在于式(2)和(3)的基团选自式(2-1)至(2-7)和(3-1)的基团，其中虚线键和*表示这些基团与式(1)中的二苯并呋喃或二苯并噻吩衍生物的连接，虚线键和#表示这些基团与L的连接，或者对于等于单键的L，表示这些基团与N1的连接，并且R2具有权利要求1中给出的含义。5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的化合物，其特征在于式(2)和(3)的基团选自式(2-1a)至(3-1a)的基团，其中虚线键和*表示这些基团与式(1)中的二苯并呋喃或二苯并噻吩衍生物的连接，虚线键和#表示这些基团与L的连接，或者对于等于单键的L，表示这些基团与N1的连接，并且R2代表H或具有6至24个芳族环原子的芳族或杂芳族环系，所述环系可被一个或多个基团R5取代。6.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的化合物，其特征在于式(4)和(6)的基团选自式(4-1)、(4-2)和(6-1)的基团，其中R1和m具有权利要求1和2中给出的含义，并且此外：两个相邻的基团W一起代表式(7a)或(8a)的基团并且其它两个基团W代表CR1，其中Y2、Y3、R1和m具有权利要求1和2中给出的含义。7.根据权利要求6所述的化合物，其特征在于式(4-1)的基团选自式(4-1a)至(4-1f)的基团并且特征在于式(4-2)的基团选自式(4-2a)至(4-2f)的基团，其中所用的符号和标记具有权利要求1和2中给出的含义。8.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的化...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃米尔·侯赛因·帕勒姆，托马斯·埃伯利，安雅·雅提斯奇，托比亚斯·格罗斯曼，乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴，雷米·马努克·安米安，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE