The present invention provides a micro display device and method of forming microstructure on the surface of the color filter film, the micro display device includes a white organic light emitting layer and color filter film, a micro structure by etching process graphic is formed in the surface of the color filter film, to reduce the light emitted at the interface of the loss in the process of. The invention can achieve higher light extraction efficiency, thereby realizing low power consumption of the display device and reducing heating.
【技术实现步骤摘要】
微型显示器件和在彩色滤光膜表面形成微结构的方法
本专利技术涉及微型显示器件以及刻蚀方法。
技术介绍
目前微型显示器件的主流技术是使用白光有机发光层搭配彩色滤光膜实现全彩化。图1示出现有技术的显示器件的结构,其中,包括彩色滤光膜1、背板2和子像素3。该现有技术的有机发光器件所发出的光在向外传播的过程中有较大的损失,光取出效率不高。因此,有必要进一步增加微型显示器件的光取出效率。
技术实现思路
本专利技术目的之一在于提供一种能够提高光取出效率的微型显示器件。本专利技术之另一目的之一在于提供一种在彩色滤光膜表面形成微结构的方法,以提高微型显示器件的光取出效率。为此,本专利技术提供一种微型显示器件,其包括白色有机发光层和彩色滤光膜,在该彩色滤光膜的表面形成有由刻蚀工艺图形化的微结构,在该彩色滤光膜的表面形成有由刻蚀工艺图形化的微结构,以减少由所述白光有机发光层所发出的光在向外传播的过程中在界面的损失。作为优选,所述刻蚀工艺包括涂胶、曝光、刻蚀和去胶。由于在该彩色滤光膜的表面形成有由刻蚀工艺图形化的微结构,本专利技术的微型显示器件能够减少有机发光器件所发出的光在向外传播的过程中的损失,可实现更高的光取出效率,从而实现了显示器件的低功耗化,并降低了发热。另外,本专利技术还提供一种在彩色滤光膜的表面图形化微结构的方法,其包括:(1)涂胶,在彩色滤光膜的表面上涂光刻胶;(2)曝光,通过光刻方式在彩色滤光膜表面形成遮挡图案;(3)刻蚀,在该彩色滤光膜的表面形成微结构;以及(4)去胶,去除光刻胶。所述彩色滤光膜具有基体和三个不同透通带宽的滤光片,所述滤光片按单个队列排列设置在基体 ...
【技术保护点】
一种微型显示器件,包括白色有机发光层和彩色滤光膜,在该彩色滤光膜的表面形成有由刻蚀工艺图形化的微结构,以减少由所述白光有机发光层所发出的光在向外传播的过程中在界面的损失。
【技术特征摘要】
1.一种微型显示器件,包括白色有机发光层和彩色滤光膜,在该彩色滤光膜的表面形成有由刻蚀工艺图形化的微结构,以减少由所述白光有机发光层所发出的光在向外传播的过程中在界面的损失。2.根据权利要求1所述的微型显示器件,其中,所述刻蚀工艺包括涂胶、曝光、刻蚀和去胶。3.一种在彩色滤光膜表面形成微结构的方法,该彩色滤光膜设置于微型显示器件中,所述方法包括:(1)涂胶,在彩色滤光膜的表面上涂光刻胶;(2)曝光,通过光刻方式在彩色滤光膜表面形成遮挡图案;(3)刻蚀,在该彩色滤光膜的表面形成微结构;以及(4)去胶,去除光刻胶。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:所述彩色滤光膜具有基体和三个不同透通带宽的滤光片,所述滤光片按单个队列排列设置在基体上,所述滤光片表层还设有透明的保护层;所述基体选自氧化铝基或复合无机非金属材料基;所述基体的厚度为5-10mm;所述的基体为光学薄膜介质材料。5.根据权利要求4所述的方法,特征在于:所述复合无机非金属材料基体的原料组份及重量配比为碳化硅5-15份,氮化硅15-20份,碳化硼15-20份,六方氮化硼1-5份,玻璃纤维7-10份,氧化铝1-5份,氧化锆1-5份,石墨20-30份,酚醛树脂50-100份。6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:所述彩色滤光膜为氧化锆-氧化硅薄膜,所述氧化锆-氧化硅薄膜的制备方法为其构成包括沉积在基体上的氧化锆-氧化硅薄膜和旋涂在氧化锆-氧化硅薄膜上的腙类金属螯合物有机薄膜;所述的氧化锆-氧化硅薄膜的厚度为50~500nm,该氧化锆-氧化硅薄膜的成分比为氧化锆:氧化硅=50-60mol%:50-40mol%;所述的腙类金属螯合物有机薄膜为厚度50~150nm的腙镍螯合物、或腙钴螯合物、或腙铜螯合物、或腙锌螯合物。7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于:所述方法包括下列步骤:步骤一、基体清洗:所述的基体表面粗糙度小于2nm,基体经去离子水浸泡超声清洗,无水乙醇超声清洗,最后取出用纯度99.9%的高压氮气吹干,置于干燥器中备用;PC片表面粗糙度小于2nm,制备薄膜之前用纯度99.9%的高压氮气清洁;步骤二、基体和溅射靶材安装:将所...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙亮,
申请(专利权)人:深圳市核高基科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。