具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物制造技术

具有化学式I的化合物其中这些取代基是如在权利要求1中所定义的，以及那些化合物的农用化学上可接受的盐、立体异构体、对映异构体、互变异构体和N‑氧化物，可以用作杀虫剂并且可按照本身已知的方法制备。

Biologically active heterocyclic derivatives having sulfur-containing substituents

A chemical compound of formula I wherein the substituents are as defined in claim 1, and those of agricultural chemical compounds on acceptable salts, isomers and enantiomers, tautomers and N oxides can be used as insecticide and method according to the known preparation.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及包含硫取代基的杀有害生物活性(特别是杀虫活性)杂环衍生物，涉及包含那些化合物的组合物，并且涉及它们用于控制动物有害生物(包括节肢动物并且特别是昆虫或蜱螨目的代表)的用途。具有杀有害生物作用的杂环化合物是已知的并描述于例如WO2012/086848、WO2013/018928、WO2013/191112和WO2013/191113。现在已经发现具有含硫的苯基和吡啶基取代基的杀有害生物活性杂环衍生物。本专利技术因此涉及具有化学式I的化合物，其中A是CH、N或CR7；其中R7是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；X是S、SO或SO2；R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基、被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；或R1是被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；或R1是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；R2a和R2b彼此独立地是氢、卤素、氰基、C1-C6卤代烷基或被一个或两个选自下组的取代基取代的C1-C6卤代烷基，该组由以下各项组成：羟基、甲氧基和氰基；或R2a和R2b彼此独立地是C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷氧基、或–C(O)(C1-C4卤代烷基)；或R2a和R2b彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；R3是氢、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基，或R3是被选自下组的取代基单或双取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和氰基；或R3是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、-C(O)C1-C4卤代烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、或C1-C6烷基磺酰基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的嘧啶基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的吡啶基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、或C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由氮原子连接至包含取代基G3的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫；其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；R6是氢、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、卤素或氰基；G1是CR4，其中R4是氢、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、氰基或卤素；G2是N或CR5，其中R5是氢、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；G3是N或CR8，其中R8是氢、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、卤素或氰基；以及具有化学式I的化合物的农用化学上可接受的盐、立体异构体、对映异构体、互变异构体和N-氧化物。具有至少一个碱性中心的具有化学式I的化合物可以与以下酸形成例如酸加成盐，这些酸为：例如强无机酸，如矿物酸，例如高氯酸、硫酸、硝酸、亚硝酸、磷酸或氢卤酸；强有机羧酸，如未经取代的或像被卤素取代的C1-C4烷羧酸(例如乙酸)，如饱和或不饱和的二羧酸(例如草酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、富马酸或邻苯二甲酸)，如羟基羧酸(例如抗坏血酸、乳酸、苹果酸、酒石酸或柠檬酸)，或如苯甲酸；或有机磺酸，如未经取代的或像被卤素取代的C1-C4烷-或芳基磺酸，例如甲烷-或对甲苯磺酸。具有至少一个酸性基团的具有化学式I的化合物可以例如，与碱形成盐(例如矿物盐(像碱金属或碱土金属盐，例如钠盐、钾盐或镁盐))，与氨或有机胺(像吗啉、哌啶、吡咯烷、单-、二-或三-低级-烷基胺(例如乙基-、二乙基-、三乙基-或二甲基丙胺)，或单-、二-或三羟基-低级-烷基胺(例如单-、二-或三乙醇胺))形成盐。在取代基定义中出现的烷基基团可以是直链的或支链的，并且是例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、壬基、癸基以及它们的支链异构体。烷基硫烷基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、烷氧基、烯基和炔基基团衍生自所提及的烷基基团。烯基和炔基基团可以是单或多不饱和的。卤素一般是氟、氯、溴或碘。相应地，这也适用于与其他含义结合的卤素，例如卤代烷基或卤代苯基。卤代烷基基团优选地具有从1至6个碳原子的链长。卤代烷基是例如氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、2-氟乙基、2-氯乙基、五氟乙基、1,1-二氟-2,2,2-三氯乙基、2,2,3,3-四氟乙基以及2,2,2-三氯乙基。烷氧基是例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基和叔丁氧基并且还是同分异构的戊氧基以及己氧基基团。烷氧基烷基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有化学式I的化合物，其中A是CH、N或CR7；其中R7是C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；X是S、SO或SO2；R1是C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基‑C1‑C4烷基、被选自下组的取代基单或多取代的C3‑C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1‑C4卤代烷基和C1‑C4烷基；或R1是被选自下组的取代基单或多取代的C3‑C6环烷基‑C1‑C4烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1‑C4卤代烷基和C1‑C4烷基；或R1是C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基或C2‑C6炔基；R2a和R2b彼此独立地是氢、卤素、氰基、C1‑C6卤代烷基或被一个或两个选自下组的取代基取代的C1‑C6卤代烷基，该组由以下各项组成：羟基、甲氧基和氰基；或R2a和R2b彼此独立地是C1‑C4卤代烷基硫烷基、C1‑C4卤代烷基亚磺酰基、C1‑C4卤代烷基磺酰基、C1‑C4卤代烷氧基、或–C(O)(C1‑C4卤代烷基)；或R2a和R2b彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3‑C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1‑C4卤代烷基和C1‑C4烷基；R3是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C4烷氧基C1‑C4烷基、C1‑C6卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基‑C1‑C4烷基，或R3是被选自下组的取代基单或双取代的C3‑C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基和氰基；或R3是C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷氧基C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基硫烷基、C1‑C4卤代烷基亚磺酰基、C1‑C4卤代烷基磺酰基、C1‑C4烷基硫烷基、C1‑C4烷基亚磺酰基、C1‑C4烷基磺酰基、和‑C(O)C1‑C4卤代烷基；或R3是C1‑C6卤代烷基硫烷基、C1‑C6卤代烷基亚磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷氧基、‑C(O)C1‑C4卤代烷基、C1‑C6烷基硫烷基、C1‑C6烷基亚磺酰基、或C1‑C6烷基磺酰基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的嘧啶基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷氧基C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基硫烷基、C1‑C4卤代烷基亚磺酰基、C1‑C4卤代烷基磺酰基、C1‑C4烷基硫烷基、C1‑C4烷基亚磺酰基、C1‑C4烷基磺酰基和‑C(O)C1‑C4卤代烷基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的吡啶基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷氧基C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基硫烷基、C1‑C4卤代烷基亚磺酰基、C1‑C4卤代烷基磺酰基、C1‑C4烷基硫烷基、C1‑C4烷基亚磺酰基、或C1‑C4烷基磺酰基和‑C(O)C1‑C4卤代烷基；或R3是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由氮原子连接至包含取代基G3的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷氧基C1‑C4烷基、C1‑C4烷基硫烷基、C1‑C4烷基亚磺酰基、C1‑C4烷基磺酰基、‑C(O)C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基硫烷基、C1‑C4卤代烷基亚磺酰基、C1‑C4卤代烷基磺酰基和‑C(O)C1‑C4卤代烷基；所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫；其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；R6是氢、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、卤素或氰基；G1是CR4，其中R4是氢、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、氰基或卤素；G2是N或CR5，其中R5是氢、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；G3是N或CR8，其中R8是氢、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、卤素或氰基；以及具有化学式I的化合物的农用化学上可接受的盐、立体异构体、对...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.07 EP 14180130.8;2014.09.29 EP 14186737.41.一种具有化学式I的化合物，其中A是CH、N或CR7；其中R7是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；X是S、SO或SO2；R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基、被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；或R1是被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；或R1是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；R2a和R2b彼此独立地是氢、卤素、氰基、C1-C6卤代烷基或被一个或两个选自下组的取代基取代的C1-C6卤代烷基，该组由以下各项组成：羟基、甲氧基和氰基；或R2a和R2b彼此独立地是C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷氧基、或–C(O)(C1-C4卤代烷基)；或R2a和R2b彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；R3是氢、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基，或R3是被选自下组的取代基单或双取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和氰基；或R3是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、-C(O)C1-C4卤代烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、或C1-C6烷基磺酰基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的嘧啶基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的吡啶基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·G·豪尔，T·格赫，P·J·M·容，A·埃德蒙兹，A·杰恩格纳特，M·米尔巴赫，A·斯托勒，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH